姜涛
- 作品数：6 被引量：13H指数：2
- 供职机构：厦门大学物理与机电工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家科技重大专项福建省自然科学基金更多>>
- 相关领域：机械工程金属学及工艺理学更多>>
- 拼块式液体静压导轨设计与数值分析被引量：1
- 2014年
- 出于加工精度和制造工艺的考虑,采用一种新式的拼块式液体静压导轨结构搭建了相应的实物平台.根据液体静压支撑原理,完成不等面积对置静压支撑导轨的关键参数计算.利用Matlab软件,分析了油腔尺寸、动力粘度和节流比等参数对导轨供油压力等指标的影响.结果表明,适当增加节流比β和小油腔尺寸b2,可以提高导轨供油压力.该研究可为液体静压导轨的工程设计与应用提供理论借鉴.
- 柯晓龙黄海滨林晓辉姜涛
- 关键词：液体静压导轨参数设计
- 光学非球面磨削中的圆弧砂轮修整误差分析被引量：5
- 2013年
- 针对光学非球面磨削加工中对圆弧砂轮修整精度要求比较高的特点,采用GC杯形砂轮修整器对圆弧砂轮进行修整,并分析杯形砂轮修整器几何误差和原理误差。在此基础上,讨论了各种误差对圆弧砂轮的修整及对非球面加工的影响程度,确定修整器定位倾斜误差是影响圆弧砂轮修整的主要因素,特别是对圆弧半径的影响。针对定位倾斜误差因素进行了砂轮修整实验,结果表明定位倾斜情况下拟合的圆弧半径残差较大且残差分布与理论分析一致。非球面加工实验显示定位倾斜情况下的工件面形误差分布情况与理论分析一致。修整器调正后再次进行加工,结果呈现不同的面形误差分布且误差减小了,验证了定位倾斜误差对非球面加工的影响。
- 林晓辉王振忠郭隐彪姜涛张东旭
- 关键词：机械制造工艺与设备误差分析
- 二次椭圆-偏心正圆组合活塞裙部加工算法优化及轨迹点计算被引量：2
- 2014年
- 二次椭圆-偏心正圆活塞在车用活塞领域得到了越来越广泛的应用,但加工精度普遍较低.详细介绍了二次椭圆-偏心正圆活塞的形状特征,并建立二次椭圆-偏心正圆活塞的数学模型.为了提高此类活塞的加工精度,运用变截面螺旋线轨迹算法,在此基础上,通过MATLAB生成二次椭圆-偏心正圆活塞的加工轨迹点坐标.
- 吴海韵姜涛常小龙郭隐彪
- 关键词：组合活塞数学模型
- 气囊抛光路径对光学元件中频误差的影响
- 2015年
- 为了寻找消除中频误差的有效抛光路径,进行了2组实验.第1组实验采用单步进动Z字光栅路径和单步进动螺旋线路径对石英玻璃进行全面均匀的气囊抛光实验,并对加工后得到试件表面的中频误差进行分析.第2组实验先采用单步进动Z字光栅路径对石英玻璃进行全面均匀的气囊抛光实验,接着用基于改进普里姆(Prim)算法的路径对其进行加工,最后对加工得到光学试件表面的中频误差进行分析,从而验证基于改进Prim算法的抛光路径的优良性.
- 林桂丹毕果胡陈林姜涛彭云峰
- 光学元件气囊抛光去除效率影响因素研究被引量：2
- 2015年
- 基于Preston方程分析了气囊抛光特性,确定去除函数的三个重要特征,即抛光斑尺寸、形状以及去除量,得到影响光学元件气囊抛光材料去除效率的主要参数.通过定点抛光实验,分析气囊充气压强、压缩量、主轴转速对BK7光学元件去除函数和材料去除效率的影响.结果表明:充气压强与压缩量对于气囊抛光去除函数的形状影响较大,去除效率随气囊充气压强增大先升高到2.08mm3/min后逐渐降低然后又升高,压缩量与气囊转速的提高增大了材料的去除效率,分别可以达到6.84mm3/min和5.04mm3/min.
- 姜涛郭隐彪王詹帅林桂丹
- 关键词：气囊抛光工艺参数去除函数
- 基于经验模态分解-Wigner分布的光学元件中频误差识别被引量：3
- 2014年
- 对于大尺寸高精密光学元件,不仅要对光学元件表面低频面形精度和高频粗糙度进行控制,还需要严格限制中频误差,以保证其使用性能和稳定性.为了确定光学元件的不合格区域并指导其返修,引入经验模态分解（EMD）和Wigner分布（WVD）函数方法,通过理论分析确定该方法与功率谱密度函数间的关系,实现对光学元件表面中频误差的辨识与定位.实验结果表明：EMDWVD方法不仅可以识别分布在实验光学元件表面15～27 mm空间频率为0.1mm-1的中频误差,还可以减小多分量信号所引起的空间频率为1.0～1.5 mm-1的交叉项干扰,提高中频误差辨识的准确率.
- 姜涛杨炜郭隐彪王健
- 关键词：经验模态分解WIGNER分布
