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陈成

作品数：18 被引量：0H指数：0
供职机构：深圳大学更多>>
相关领域：一般工业技术金属学及工艺文化科学自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 18篇中文专利

领域

  • 4篇一般工业技术
  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇文化科学

主题

  • 7篇碳膜
  • 4篇石墨
  • 4篇石墨烯
  • 3篇激光
  • 2篇等离子体
  • 2篇低能
  • 2篇低能电子
  • 2篇电场
  • 2篇电子回旋共振
  • 2篇镀膜
  • 2篇亚胺
  • 2篇掩模
  • 2篇掩模板
  • 2篇原子
  • 2篇载流
  • 2篇照射
  • 2篇真空
  • 2篇真空室
  • 2篇直流电场
  • 2篇三坐标

机构

  • 18篇深圳大学
  • 2篇西安交通大学

作者

  • 18篇陈成
  • 17篇刁东风
  • 2篇范雪

年份

  • 1篇2024
  • 5篇2023
  • 6篇2022
  • 2篇2021
  • 1篇2018
  • 2篇2016
  • 1篇2014
共 18 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种实现近零磨合超低摩擦的方法
本发明公开了一种实现近零磨合超低摩擦的方法，其中，包括：在导电硅片上沉积碳膜，获得硅掺杂石墨烯纳晶碳膜；将所述硅掺杂石墨烯纳晶碳膜设置于绝缘基底上；将金属摩擦件设置在所述绝缘基底上方正对所述硅掺杂石墨烯纳晶碳膜的位置；在...
陈成熊辉刁东风
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一种在球全表面沉积薄膜的方法及装置
本发明公开了一种在球全表面沉积薄膜的方法及装置，包括步骤：提供一轨道形夹具并将夹具置于所述沉积腔中，其中镀膜用球位于所述轨道形夹具的轨道中，且所述镀膜用球的表面区域暴露于所述轨道外；转动所述轨道形夹具，其中所述镀膜用球通...
刁东风薛沛东陈成
一种ECR电子照射密度控制碳膜中纳晶石墨烯尺寸的方法
本发明公开了一种ECR电子照射密度控制碳膜中纳晶石墨烯尺寸的方法，利用ECR等离子体加工系统，通过调节微波功率在160～400W范围内变化，可实现电子照射密度在30～120mA/cm<Sup>2</Sup>范围内变化。利...
刁东风陈成郭美玲范雪
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一种ECR电子照射密度控制碳膜中纳晶石墨烯尺寸的方法
本发明公开了一种ECR电子照射密度控制碳膜中纳晶石墨烯尺寸的方法，利用ECR等离子体加工系统，通过调节微波功率在160～400W范围内变化，可实现电子照射密度在30～120mA/cm<Sup>2</Sup>范围内变化。利...
刁东风陈成郭美玲范雪
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一种基于混合照射的碳膜沉积方法及碳膜
本发明公开一种基于混合照射的碳膜沉积方法及碳膜，所述碳膜沉积方法包括步骤：提供基片；将基片放置于电子回旋照射系统的真空腔室中，利用氩离子轰击碳靶材的同时进行激光、电子的混合照射或激光、离子的混合照射，在基片上沉积得到碳膜...
陈成张植鑫黄志权健男刁东风
一种微米级定点转移制备透射电镜样品的装置及制备方法
本发明公开了一种微米级定点转移制备透射电镜样品的装置及制备方法，装置包括：基座；设置在基座上、用于承载薄膜材料工件并对薄膜材料工件的位置进行调节的三坐标位移台；设置在基座上、用于对选定薄膜区域的薄膜材料进行制备的探针组件...
陈成黄志权刁东风
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一种草皮铺设机
本实用新型公开了一种草皮铺设机，包括驱动底座、控制器、底板、传动组件以及电动伸缩杆，底板设置于驱动底座上，且底板上固定安装有陀螺仪，用于检测底板倾斜角度，陀螺仪电连接于控制器，底板顶部平行设置有草皮放置板，用于放置草皮，...
陈奔卢永麟张艺彬陈智宏冷旭航陈成
一种低摩擦耐磨损的纳晶石墨烯薄膜及其制备方法与应用
本发明公开一种低摩擦耐磨损的纳晶石墨烯薄膜及其制备方法与应用，所述低摩擦耐磨损的纳晶石墨烯薄膜的制备方法，包括步骤：提供聚酰亚胺胶液及基板：将所述聚酰亚胺胶液涂覆在所述基板上，进行固化后，得到聚酰亚胺薄膜；通过一次激光直...
陈成黄志权刁东风
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一种光控摩擦实验装置及摩擦系数控制方法
本发明公开了一种光控摩擦实验装置及摩擦系数控制方法，该装置在摩擦过程中利用激光透过对磨球对摩擦接触点照射可实现摩擦系数的主动调控，即实现光控摩擦。所述光控摩擦实验装置包括：用于支撑放置待摩擦样品并控制待摩擦样品根据需要旋...
陈成雷凡刁东风
一种ECR等离子体溅射装置及其溅射方法
本发明提供了一种ECR等离子体溅射装置及其溅射方法，包括从左至右依次设置的微波发生器、等离子体室、成膜室及预真空室；所述微波发生器依次通过微波导管及石英窗与等离子体室相连；所述等离子体室的外侧设置有第一磁线圈和第二磁线圈...
刁东风范雪陈成
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