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文献类型

  • 13篇中文期刊文章

领域

  • 12篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇抛光
  • 3篇半导体
  • 2篇电路
  • 2篇化学机械抛光
  • 2篇机械抛光
  • 2篇集成电路
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  • 2篇SEMI
  • 1篇氮化镓
  • 1篇电路工艺
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  • 1篇振动控制
  • 1篇特征点
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  • 1篇通风设计
  • 1篇推广应用
  • 1篇排气
  • 1篇抛光工艺
  • 1篇抛光设备

机构

  • 13篇中国电子科技...
  • 1篇华中科技大学

作者

  • 13篇杨师
  • 6篇史霄
  • 3篇熊朋
  • 3篇杨元元
  • 2篇王洪宇
  • 2篇费玖海
  • 2篇王铮
  • 1篇姜家宏
  • 1篇李伟
  • 1篇郭春华
  • 1篇周志奇
  • 1篇刘雪娇
  • 1篇陈威
  • 1篇张世崇

传媒

  • 13篇电子工业专用...

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2023
  • 1篇2022
  • 3篇2021
  • 1篇2020
  • 3篇2016
  • 2篇2015
  • 1篇2014
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
半导体制造设备排气通风设计及仿真被引量:2
2021年
从设计标准、性能标准、测试方法等方面介绍了SEMI S6标准,并以CMP后清洗设备为例介绍了排气通风设计中的一些注意事项。以CMP后清洗设备中的清洗槽为例,介绍了利用流体仿真软件对排气通风设计的有效性进行验证的方法,对设备排气通风的设计具有指导意义。
史霄杨师杨元元费玖海
CMP在线光学终点检测算法研究及应用
2021年
介绍了化学机械抛光(CMP)中表面膜层为金属和非金属晶圆的在线终点检测原理。研究了窗口检测算法,实时检测光强变化趋势,抓取趋势特征点,从控制抛光过程,实现CMP在线终点检测。实验结果表明,检测算法可达到预期的检测精度,能够满足生产实际需要。
杨元元杨旭史霄孟晓云杨师
关键词:化学机械抛光特征点
SEMI标准在半导体制造设备中的应用被引量:2
2023年
SEMI标准是一项国际通用的半导体行业标准,为研究SEMI标准在半导体制造设备中的应用情况,介绍了SEMI S2半导体设备安全准则、SEMI F47半导体设备电压暂降抗扰度标准并说明了标准的实际应用。分析了SEMI S23半导体设备能源、电力和原料的使用效率标准、SECS/GEM通讯标准及其研究应用现状;提出了我国半导体产业的快速发展需要加大SEMI标准的普及应用。
韦薇林煦呐张帅谢琼杨师
关键词:半导体制造设备
PG-300去应力抛光系统的结构设计与优化
2015年
介绍了集成于减薄抛光一体机中的PG-300去应力抛光系统的主要结构及技术特点,主要包括抛光头主轴部分的正向设计,论述了花键轴的安装结构及调平方法,导向轴的设计安装等。并通过运用有限元软件对该抛光头机架进行受载情况仿真,消除了抛光过程中结构变形对抛光效果的影响,进而在理论和实践两个方面确定了该机架已达到设计要求。
杨师李伟王铮史霄
关键词:主轴机架
多段可控式加热台的性能测试与应用验证
2020年
介绍了一种自主研发的多段可控加热台的系统构造与工作原理,对其相关性能进行了测试,并在介电材料聚酰亚胺的制备过程中,对其进行了实际应用验证。结果表明,该加热台在PLC控制器与温控器的综合控制下,最多可设置12段加热温度曲线,可实现室温至450℃范围内温度的连续调节,升温速率范围为0~20℃/min;在升温速率较小(如1~5℃/min)的情况下,具有温控精度高(优于±1℃)、超调量小、稳定性高等优点;同时,该加热平台使用灵活,既可单独使用,也可集成到其它设备中作为加热附件使用。但由于加热面积大(300 mm×200 mm),当升温速率较大时,也存在加热滞后现象。
王洪宇王大志张奇刘建国曾晓雁杨师
MPM-700光学零件抛光平台的研制与改进
2016年
论述了用于激光陀螺仪、旋光片抛光的MPM-700光学零件抛光平台的主要结构及特点。介绍了该设备在传动方式、台面选型优化、抛光头装载结构方面较原PG-710抛光设备的技术改进;并通过运用有限元软件对该抛光平台架进行受载情况仿真,消除了抛光过程中抛光盘变形对抛光效果的影响,进而在理论和实践两个方面确定了该设备已达到设计要求。
杨师李嘉浪张世崇熊朋
关键词:光学零件
基于仿真分析的设备微环境控制技术被引量:1
2021年
论述了一种基于仿真分析的半导体设备内部空间气流路径、紊流位置、各分区风压的闭环反馈系统及结构,目的在于使设备能够自动净化内部空间气体,防止颗粒凝结,从而达到控制并改善半导体设备内部微环境的目的。
杨师史霄杨元元李龙飞王洪宇
关键词:集成电路芯片微环境CMP工艺
CMP设备兆声清洗原理及应用被引量:4
2015年
从空化作用和声波流作用两方面对兆声清洗的物理原理进行深入分析,研究了兆声频率及功率对空化强度、边界层厚度、声波流速等关键因素的影响,从而阐明兆声波清洗的特点及其适用场合。同时以AMAT公司的设备为例,介绍了兆声波清洗在CMP后清洗中的实际应用案例。
史霄郭春华杨师熊朋
关键词:化学机械平坦化
集成电路工艺中减薄与抛光设备的现状及发展被引量:4
2014年
晶圆加工是单晶硅衬底和集成电路制造中的关键技术之一,为了得到更稳定的硅片,提高其平整度和表面洁净度,国内外技术人员越来越注重减薄与抛光设备的研究与改进。介绍了针对硅片平坦化工艺的减薄设备及现阶段加工过程中防止碎片的技术方法;介绍了化学机械抛光设备的技术发展现状以及针对硅片抛光的后清洗工艺。
费玖海杨师周志奇
关键词:集成电路硅片减薄
运动台结构刚度及接触形式动态性能优化
2024年
介绍了运动台结构刚度优化的目的与思路,根据仿真结果对几种结构优化形式的预期效果进行判断,并结合整机需求完成定型及设计结果测试,通过实践闭环了仿真模型;根据运动台断开与连接整机重复性需求,设计改型了运动台与整机接触形式,并通过机械加速度传递函数测试进行了验证,保证了幅值裕度与相位裕度在较小范围内时,同样实现稳定控制。
杨师王月鹏李龙飞赵宏宇陈沿宇
关键词:刚度振动控制
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