郭风莲
- 作品数：3 被引量：4H指数：1
- 供职机构：内蒙古科技大学材料与冶金学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺更多>>
- 铜偏聚区的高分辨电镜分析被引量：4
- 2008年
- 研究铜在钢中的时效强化和沉淀规律具有理论意义和实用价值。应用JEM-2010高分辨电镜研究了Fe-1.18Cu、Fe-1.55Cu高纯钢在时效时组织结构的变化规律,发现,含铜高纯钢固溶处理后,在550℃、650℃时效过程中,首先在铁素体晶粒中析出含铜偏聚区,铜原子偏聚在(001)_α晶面上。在时效峰处为富铜的G.P区颗粒,其直径为4～20nm,呈层状的圆饼状,一般5～9层,富铜层和贫铜层相间分布,每一层厚度约为1～2nm。G.P区与铁素体基体半共格。G.P区的富铜区内及周边存在高密度位错和层错。在过时效初期,含铜偏聚区颗粒长大,偏聚区内富铜层和贫铜层的数量增多,富铜层厚度减小,位错密度降低。在铁素体基体上弥散分布的G.P区是含铜高纯钢时效强化的原因。
- 刘宗昌郭风莲王海燕任慧平
- 关键词：含铜钢时效
- 含1.12％Cu高纯钢的时效
- 研究铜在钢中的沉淀强化规律具有重要意义.应用JEM-2010高分辨电镜和QUANTA-400型扫描电镜研究了含1.12％Cu的钢过饱和固溶体时效时发生的组织结构变化.发现固溶处理后在650℃时效,在时效峰处,在铁素体基体...
- 刘宗昌安治国王海燕郭风莲任慧平
- 关键词：含铜钢时效处理
- 文献传递
- 含1．12％Cu高纯钢的时效
- 2006年
- 研究铜在钢中的沉淀强化规律具有重要意义。应用JEM-2010高分辨电镜和QUANTA-400型扫描电镜研究了含1.12％Cu的钢过饱和固溶体时效时发生的组织结构变化。发现固溶处理后在650℃时效，在时效峰处，在铁素体基体上析出含铜过渡相，在过时效阶段逐渐析出ε-Cu颗粒。
- 刘宗昌安治国王海燕郭风莲任慧平
- 关键词：含铜钢时效
