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胡云慧

作品数：5 被引量：14H指数：2
供职机构：国防科学技术大学更多>>
相关领域：一般工业技术理学化学工程电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 3篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇镀膜
  • 3篇ITO膜
  • 2篇镀膜工艺
  • 2篇溅射
  • 2篇高透明
  • 2篇ITO
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇低辐射
  • 1篇电特性
  • 1篇镀膜技术
  • 1篇氧分压
  • 1篇氧化物
  • 1篇氧化钛
  • 1篇直流磁控
  • 1篇直流磁控溅射
  • 1篇透过率
  • 1篇稳定性
  • 1篇码分
  • 1篇码分多址

机构

  • 3篇国防科技大学
  • 2篇国防科学技术...
  • 2篇湖南三才光电...
  • 1篇长沙电力学院
  • 1篇长沙矿冶研究...
  • 1篇华中科技大学

作者

  • 5篇胡云慧
  • 4篇彭传才
  • 3篇余圣发
  • 2篇黄广连
  • 2篇魏敏
  • 1篇陈新全
  • 1篇苏丹丹
  • 1篇李京增
  • 1篇彭晶
  • 1篇唐三川
  • 1篇陈坚
  • 1篇姚吉升
  • 1篇曹志刚

传媒

  • 4篇真空
  • 1篇矿冶工程

年份

  • 1篇2005
  • 1篇2002
  • 1篇2001
  • 1篇1999
  • 1篇1998
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
国产ITO靶材的镀膜工艺研究
1998年
介绍了国产ＩＴＯ靶材磁控溅射制备ＩＴＯ膜的工艺实验。实验结果表明，国产ＩＴＯ靶材具有良好的工艺稳定性和重现性，在优选镀膜工艺参数条件下，获得了性能优良的ＩＴＯ透明导电膜，并且在室温基片上也获得了满意的结果。
彭传才黄广连黄广连曹志刚胡云慧魏敏曹志刚姚吉升余圣发陈坚
关键词：ITO膜放电特性氧分压基片温度
低辐射卷绕镀膜工艺在线透过率监控技术
2005年
介绍了卷绕镀膜生产线中镀膜工艺的透过率在线监控仪原理与实现方法,同时描述了透过率监控仪在低辐射卷绕镀膜中的应用。
余圣发彭传才魏敏胡云慧李京增彭晶
关键词：低辐射码分多址透过率
高透明低方阻ITO-Ag-ITO柔性镀膜技术被引量：11
2001年
高透明低方阻 ITO- Ag- ITO柔性薄膜具有广泛的用途。本文介绍了膜系设计、工艺参数及控制。对设备结构也做了简要叙述。测试结果表明 ,ITO- Ag- ITO多层膜采用连续卷绕镀的方法生产 ,性能优异 ,工艺稳定 ,系统可靠。
胡云慧李京增余圣发彭晶苏丹丹彭传才李伟蒋力刘婧
关键词：ITO膜镀膜工艺
反应磁控溅射沉积ITO膜工艺稳定性的研究
1999年
在Ｉｎ－Ｓｎ合金靶反应磁控溅射的情形下，固定基片温度、氧分压、抽速和其它相关条件，仅靠改变溅射电流来沉积一定方阻的ＩＴＯ膜。实验表明：随着工艺过程的进行，溅射电流总要呈现逐渐增加的趋势。本文分析了产生这种现象的种种原因，并指出影响工艺稳定的一个非常重要的因素是Ｉｎ－Ｓｎ合金靶本身。
胡云慧彭传才黄广连
关键词：反应磁控溅射稳定性ITO膜
ITO-Ag高透明柔性低辐射膜光学性能研究被引量：6
2002年
本文介绍了基于 PET基材 ,由 ITO与 Ag组成的单 Ag层和双 Ag层高透明低辐射膜系及其光谱特性 ,并在 PET基材上通过直流磁控溅射制备了在几乎整个可见光波段透过率大于 75 % ,低反射且能用于汽车前挡的高隔热贴膜。
魏敏胡云慧陈新全
关键词：光学性能直流磁控溅射二氧化钛银镀膜
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