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申雁鸣

作品数:28 被引量:80H指数:6
供职机构:中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划国家自然科学基金上海市光科技项目更多>>
相关领域:理学一般工业技术电子电信天文地球更多>>

文献类型

  • 18篇专利
  • 9篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 7篇理学
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇天文地球
  • 1篇电子电信

主题

  • 9篇薄膜应力
  • 7篇激光
  • 6篇膜厚
  • 6篇薄膜厚度
  • 6篇采集卡
  • 5篇镀膜
  • 5篇光束
  • 5篇分光
  • 5篇残余应力
  • 5篇测量方法
  • 4篇镀膜机
  • 3篇电子束蒸发
  • 3篇调谐
  • 3篇延迟器
  • 3篇衍射
  • 3篇衍射光栅
  • 3篇入射
  • 3篇入射角
  • 3篇色轮
  • 3篇数据采集

机构

  • 28篇中国科学院上...
  • 1篇河南科技大学
  • 1篇云南大学
  • 1篇中国科学院
  • 1篇中国科学院研...

作者

  • 28篇申雁鸣
  • 22篇邵建达
  • 21篇范正修
  • 20篇易葵
  • 9篇朱美萍
  • 8篇邵淑英
  • 8篇贺洪波
  • 7篇傅小勇
  • 7篇毕军
  • 7篇王丹
  • 4篇郭世海
  • 3篇黄建兵
  • 3篇袁磊
  • 3篇董洪成
  • 3篇朱冠超
  • 3篇李笑
  • 3篇齐红基
  • 3篇方明
  • 3篇崔云
  • 3篇余华

传媒

  • 4篇中国激光
  • 2篇强激光与粒子...
  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇物理学报
  • 1篇南京大学学报...

年份

  • 2篇2010
  • 2篇2009
  • 8篇2008
  • 7篇2007
  • 6篇2006
  • 3篇2005
28 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
EGRET伽马射线源光变的数值分析
2007年
高能γ射线天文是当今天体物理学中重要的研究领域之一,康普顿γ射线天文台的高能γ射线望远镜(EGRET)提供了大量的观测数据,发现了271颗高能γ射线点源,其中170颗未被证认.目前的研究表明,一些未证认源可能是活动星系核,银盘附近的一些未证认源可能与脉冲星和超新星遗迹(SNRs)有联系.也发现几个未证认源可能是星系扩散发射所造成的伪造源.但就像大家所讨论的那样,未证认源的数目比所期望的更多.这些未证认高能γ射线点源的基本物理特性是什么呢?以此为动机,利用不同的光变分析方法,对这些未证认源进行了仔细的统计分析.目前,共有3种光变分析方法用来研究γ射线源的γ射线光变,它们分别是V指数方法、I指数方法和τ指数方法.通过数值计算EGRET源的I值和V值,发现这两种光变方法在统计上是一致的.把计算结果与Tompkins(1999)所计算的τ值进行比较,发现如果观测数据足够精确,这3种方法在统计上也是一致的.联合这3种光变分析方法,分析了30个与脉冲星位置一致的EGRET点源的光变以及40个低纬度持续稳定未证认源的光变.结果表明30个与脉冲星位置一致的EGRET点源中有14个与脉冲星有本质的或很可能的联系,40个低纬度持续稳定未证认源中有16个是可能的脉冲星候选源.
韩朝霞张力申雁鸣
关键词:Γ射线光变
制备工艺条件对薄膜微结构的影响被引量:13
2006年
用不同的方法在石英玻璃,YAG晶体,K9玻璃和LiNbO3晶体等几种衬底上制备了ZrO2,HfO2和TiO2薄膜。HfO2薄膜利用电子束蒸发(EB)、离子束辅助(IAD)和双束离子束溅射(DIBS)三种方法沉积。对其中的一些样品进行了不同温度下的退火处理,对所有的样品进行X射线衍射(XRD)测试,以获得不同条件下得到的薄膜的晶相及晶粒尺寸等的微结构参数。实验结果表明,薄膜的晶相结构以及晶粒尺寸强烈地依赖于沉积过程的各种技术参数,如衬底的种类、沉积温度、沉积方法和退火温度。利用薄膜表面扩散以及薄膜成核长大热力学原理解释了不同技术条件下的晶相结构和晶粒尺寸不同的原因。
田光磊申雁鸣沈健邵建达范正修
关键词:X射线衍射晶相结构迁移率扩散激活能
薄膜厚度对HfO_2薄膜残余应力的影响被引量:10
2007年
HfO2薄膜是用电子束蒸发方法制备的,利用ZYGO干涉仪测量了基片镀膜前后曲率半径的变化,计算了薄膜应力。对样品进行了XRD测试,讨论了膜厚对薄膜残余应力的影响。结果发现不同厚度HfO2薄膜的残余应力均为张应力,应力值随薄膜厚度的增加而减小,当薄膜厚度达到一定值后,应力值趋于稳定。从微观结构变化对实验结果进行了分析,发现微结构演变引起的本征应力变化是引起薄膜残余应力改变的主要因素。
申雁鸣贺洪波邵淑英范正修邵建达
关键词:HFO2薄膜残余应力膜厚电子束蒸发
光学膜厚监控系统
一种实时监控镀膜过程中薄膜厚度的光学膜厚监控系统,特征在于其结构包括光源发射系统、监控片、信号接收系统和锁相放大器四部分:所述的光源发射系统由带光电池的光源和沿该光源发出的光束的前进方向依次设置的聚光镜、光阑、单排孔调制...
朱美萍易葵郭世海邵建达王丹申雁鸣傅小勇毕军
文献传递
薄膜应力测量装置
一种薄膜应力测量装置,该装置包括激光器、供待测基片设置的精密电动导轨及其控制器、光电位敏探测器、A/D数据采集卡和计算机,所述的激光器、精密电动导轨、光电位敏探测器和A/D数据采集卡安装在一平台上,所述的激光器发出的光束...
申雁鸣袁磊邵淑英范正修贺洪波易葵邵建达
文献传递
双光束在线实时测量光学薄膜应力的装置及其测量方法
一种双光束在线实时测量光学薄膜应力的装置及其测量方法,该装置包括搭建在镀膜机真空室外的半导体激光器、双光束分束准直器、晶控仪、位敏光电探测器、A/D采集卡和计算机,以及安装在真空室内的第三反射镜,晶控探头。半导体激光光束...
朱冠超方明申雁鸣易葵
文献传递
薄膜型可调相位延迟器
本实用新型提供一种薄膜型可调相位延迟器,由两块薄膜型相位延迟片、两个三维光学调整架和一个精密旋转平台组成。两个相位延迟片置于旋转平台上并保证反射面平行,光束以一定角度入射到第一个相位延迟片上,反射到第二个延迟片上,经过第...
董洪成李笑申雁鸣黄建兵易葵邵建达范正修
文献传递
偏振分光薄膜消光比的精确测量装置
一种偏振分光薄膜消光比的精确测量装置,包括光源,其特征在于沿该光源发出光束的前进方向依次是第一偏振分光镜和第二偏振分光镜形成的组合式起偏器、反射镜、分束镜,所述光束经该分束镜分束后,其透射光束经待测样品进入第一能量计,其...
傅小勇易葵朱美萍王丹毕军申雁鸣邵建达范正修
文献传递
薄膜应力测量装置及其测量方法
一种薄膜应力测量装置及其测量方法,该装置包括激光器、供待测基片设置的精密电动导轨及其控制器、光电位敏探测器、A/D数据采集卡和计算机,所述的激光器、精密电动导轨、光电位敏探测器和A/D数据采集卡安装在一平台上,所述的激光...
申雁鸣袁磊邵淑英范正修贺洪波易葵邵建达
文献传递
高精度薄膜应力实时测量装置
本实用新型提供一种高精度薄膜应力实时测量装置,该装置由He-Ne激光器、反射镜、光电位敏探测器、A/D数据采集卡和计算机组成。整个装置可以方便地安装在任一镀膜机上,He-Ne激光器、光电位敏探测器、A/D数据采集卡和计算...
申雁鸣朱美萍郭世海夏志林邵建达贺洪波易葵范正修邵淑英
文献传递
共3页<123>
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