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文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇电子电信

主题

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  • 1篇正胶
  • 1篇集成电路

机构

  • 3篇四川大学

作者

  • 3篇田文彦
  • 2篇周业为
  • 2篇潘大任
  • 1篇谢健
  • 1篇曾传相
  • 1篇谢辉

传媒

  • 1篇四川大学学报...
  • 1篇激光杂志

年份

  • 2篇1992
  • 1篇1990
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
准分子激光光刻AZ1350SF正胶的实验研究
1992年
80年代,准分子激光一出现,世界上各先进国家就开展了准分子激光光刻的研究工作。目前,美、日等国准分子激光光刻水平已低于0.4μm的分辨率。他们研究中采用准分子激光多为KrF和XeCl激光,光致抗蚀剂有MP2400,PMMA,PMGI和NOVOLAK等,XeCl激光暴光时采用的是重氮型光刻胶AZ2400。我们采用XeCl准分子激光(波长为308nm)对美国正胶AZ1350SF进行光刻研究,研究中获得一些重要实验结果。
田文彦曾传相潘大任谢辉周业为谢健
关键词:准分子激光光刻正胶
准分子激光光刻的研究
田文彦
准分子激光光刻的发展状况
1992年
本文综述了准分子激光光刻的发展,着重讨论准分子激光光刻的优点及其在提高分辨率方面的进展,并讨论了今后的动向。
田文彦曾传湘潘大任周业为
关键词:准分子激光光刻集成电路激光
共1页<1>
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