田文彦
- 作品数:3 被引量:0H指数:0
- 供职机构:四川大学更多>>
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- 准分子激光光刻AZ1350SF正胶的实验研究
- 1992年
- 80年代,准分子激光一出现,世界上各先进国家就开展了准分子激光光刻的研究工作。目前,美、日等国准分子激光光刻水平已低于0.4μm的分辨率。他们研究中采用准分子激光多为KrF和XeCl激光,光致抗蚀剂有MP2400,PMMA,PMGI和NOVOLAK等,XeCl激光暴光时采用的是重氮型光刻胶AZ2400。我们采用XeCl准分子激光(波长为308nm)对美国正胶AZ1350SF进行光刻研究,研究中获得一些重要实验结果。
- 田文彦曾传相潘大任谢辉周业为谢健
- 关键词:准分子激光光刻正胶
- 准分子激光光刻的研究
- 田文彦
- 准分子激光光刻的发展状况
- 1992年
- 本文综述了准分子激光光刻的发展,着重讨论准分子激光光刻的优点及其在提高分辨率方面的进展,并讨论了今后的动向。
- 田文彦曾传湘潘大任周业为
- 关键词:准分子激光光刻集成电路激光