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甘柳忠
作品数:
2
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供职机构:
中国科学技术大学信息科学技术学院合肥微尺度物质科学国家实验室
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
理学
一般工业技术
电气工程
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合作作者
李明
中国科学技术大学信息科学技术学...
吴炳俊
中国科学技术大学信息科学技术学...
谢斌
中国科学技术大学信息科学技术学...
黄烽
中国科学技术大学信息科学技术学...
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作者
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甘柳忠
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黄烽
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谢斌
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吴炳俊
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李明
传媒
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中国科学技术...
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1篇
2010
1篇
2009
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氢气气氛中后续退火处理对ZnO:Al薄膜光电性能的影响
2010年
利用自由基辅助磁控溅射法在载玻片衬底上制备了透明导电ZnO:Al薄膜(简称AZO薄膜).研究了氢气气氛中后续退火处理对Al掺杂效率以及AZO薄膜性能的影响.研究结果表明,退火处理提高Al的掺杂效率、降低中性杂质浓度,从而提高了AZO薄膜的导电性能.AZO薄膜550℃下在H2气氛中退火处理后,其电阻率为6.5×10-4Ω·cm,550nm波长的透射率为85.7%,载流子浓度为3.3×1020cm-3,迁移率为29.7cm2·V-1·s-1.
甘柳忠
吴炳俊
黄烽
李明
谢斌
关键词:
AZO薄膜
ZnO:Al透明导电薄膜的自由基辅助磁控溅射制备工艺及性能表征
透明导电ZnO∶Al(AZO)薄膜因其优异的电学和光学性能而被应用于太阳能电池和平板显示等领域。AZO透明导电薄膜因其原材料丰富且无毒性,是取代ITO成为下一代透明导电材料的有力竞争者。自由基辅助溅射镀膜机(Radica...
甘柳忠
关键词:
透明导电薄膜
载流子浓度
退火处理
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