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平面光学元件中频误差的磁流变加工控制: 为了实现对大口径平面光学元件波前中频误差的磁流变加工控制,对磁流变去除函数的频谱误差校正能力、磁流变加工残余误差抑制方法等进行研究。首先,通过比较模拟加工前后元件中频PSD1误差的变化和元件功率谱密度曲线的变化分析了磁流...; 颜浩唐才学罗子健温圣林; 关键词：强激光; 文献传递

一种基于磁流变加工的连续型螺旋相位板制备方法: 本发明公开了一种基于磁流变加工的连续型螺旋相位板制备方法，基于梯度匹配方法选择磁流变去除函数，并利用磁流变加工技术去除函数尺寸小、修形能力强、加工确定性高的特点，直接在基本光学元件表面加工出螺旋相位板的设计图案，该方法具...; 唐才学温圣林张远航颜浩嵇保建石琦凯邓燕王健张清华李昂; 文献传递

一种抛光磁流变液搅拌匀滑装置: 本发明公开了一种抛光磁流变液搅拌匀滑装置，包括：箱体支架、中心轴、旋转桶、连接架和电机；中心轴上安装有连接架，并且两端通过轴承安装在箱体支架上；旋转桶通过连接架均匀分布在圆周方向上；且相邻旋转桶之间通过桶端连接架相连；旋...; 唐才学温圣林颜浩张远航嵇保建石琦凯邓燕王健张清华李昂

一种磁流变抛光去除函数的提取方法及装置: 本发明公开了一种磁流变抛光去除函数的提取方法及装置，该方法包括：获取基片元件采斑前和采斑后的面形检测数据；所述基片元件边缘处带有位置标记；根据所述采斑前、采斑后的面形检测数据及基片元件的位置标记，计算得残差数据；对所述残...; 唐才学温圣林张远航颜浩嵇保建王翔峰邓燕石琦凯张清华李昂; 文献传递

连续位相板磁流变加工中高精度边缘延拓技术被引量：1: 2019年; 为了提高磁流变加工连续位相板边缘加工质量,实现元件全口径抛光,必须对元件原始误差面形进行边缘延拓,针对现有边缘延拓算法的不足,提出了采用改进的二维Gerchberg带宽受限延拓算法实现连续位相板元件面形频域匹配的边缘延拓。该方法首先采用复调制频谱放大技术Zoom FFT对元件原始误差面形进行频谱分析,计算其高低截止频率;然后采用改进后的二维Gerchberg带宽受限延拓算法进行迭代计算,在原始面形外围延拓出与原始面形同频的高精度延拓结构面形。采用尺寸为100 mm×100 mm具有复杂频谱结构的连续位相板元件进行边缘延拓和磁流变加工实验,实验结果表明:采用改进的Gerchberg边缘延拓技术延拓的面形边缘更加规整,边缘效应影响半径由5 mm减小到2 mm,面形残余误差RMS从19.3 nm减小到了9.7 nm。这说明该边缘延拓技术可以明显提高连续位相板面形的边缘加工质量和整体收敛精度。; 唐才学颜浩罗子健张远航温圣林

一种磁流变抛光机床磁流变液循环系统: 本发明公开了一种磁流变抛光机床磁流变液循环系统，包括：储液罐、第一蠕动泵和变径背压管路；所述第一蠕动泵的一端与所述储液罐相连，另一端与所述变径背压管路相连，所述变径背压管路的末端连接喷嘴；所述喷嘴对准抛光轮；其中，所述变...; 唐才学温圣林张远航颜浩嵇保建石琦凯邓燕王健张清华李昂; 文献传递

一种磁流变抛光机床磁流变液循环系统: 本实用新型公开了一种磁流变抛光机床磁流变液循环系统，包括：储液罐、第一蠕动泵和变径背压管路；所述第一蠕动泵的一端与所述储液罐相连，另一端与所述变径背压管路相连，所述变径背压管路的末端连接喷嘴；所述喷嘴对准抛光轮；其中，所...; 唐才学温圣林张远航颜浩嵇保建石琦凯邓燕王健张清华李昂

一种磁流变抛光去除函数的提取方法及装置: 本发明公开了一种磁流变抛光去除函数的提取方法及装置，该方法包括：获取基片元件采斑前和采斑后的面形检测数据；所述基片元件边缘处带有位置标记；根据所述采斑前、采斑后的面形检测数据及基片元件的位置标记，计算得残差数据；对所述残...; 唐才学温圣林张远航颜浩嵇保建王翔峰邓燕石琦凯张清华李昂

用于背光照明的大口径连续相位板设计和制作: 连续相位板是大型激光装置中用于控制光束形状、能量和波前分布的一种重要衍射光学元件。为改善聚焦光束的质量,建立了基于现有工艺的大口径连续相位板理论设计模型,优化了传统衍射元件设计算法。采用该算法设计了用于背光照明的Ф330...; 温圣林侯晶杨春林颜浩石琦凯周礼书; 关键词：惯性约束聚变; 文献传递

平面光学元件中频误差的磁流变加工控制被引量：4: 2016年; 为了利用磁流变加工实现对大口径平面光学元件波前中频误差的控制,研究了磁流变抛光去除函数的频谱误差校正能力和磁流变加工残余误差抑制方法。首先,比较了模拟加工前后元件中频功率谱密度(PSD1)误差和元件PSD曲线的变化,分析了磁流变去除函数的可修正频谱误差范围。然后,利用均匀去除方法分析了加工深度、加工轨迹间距和去除函数尺寸等磁流变加工参数对中频PSD2误差的影响,提出了抑制中频PSD2误差的方法。最后,对一块400mm×400mm口径平面元件的频谱误差进行了磁流变加工控制实验。实验显示:3次迭代加工后,该元件的波前PV由加工前的0.6λ收敛至0.1λ,中频PSD1误差由5.57nm收敛至1.36nm,PSD2由0.95nm变化至0.88nm。结果表明:通过优化磁流变加工参数并合理选择加工策略,可实现磁流变加工对大口径平面光学元件中频误差的收敛控制。; 颜浩唐才学罗子健温圣林; 关键词：平面光学元件功率谱密度去除函数

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颜浩