韩丽瑛
- 作品数：10 被引量：20H指数：3
- 供职机构：清华大学工程物理系更多>>
- 相关领域：理学电子电信一般工业技术更多>>
- 反应离子镀制备ITO膜
- 1993年
- 采用反应离子镀新工艺成功地在K9玻璃上制备了ITO(Indium Tin Oxide)透明导电膜,所制备的ITO膜在550～600nm波长范围内,典型的峰值透过率为89%,面电阻为34Ω/□。
- 王建成韩丽瑛
- 关键词：透明导电膜光电子技术
- 反应离子镀TiO_2膜的聚集密度的测定
- 1993年
- 光学薄膜反应离子镀技术是近年来新发展的一种光学薄膜技术,正在受到国内外的关注,传统的反应蒸发工艺制备的光学薄膜呈显著的柱状结构,表面粗糙等缺陷;而反应离子镀工艺制备的光学薄膜,牢固度、致密度、表面光洁度等光机性能均有明显改善。
- 王建成谢国会高健存韩丽瑛
- 关键词：光学薄膜物理系致密度
- 离子束的产生及辅助蒸镀发光学薄膜
- 论述离子束辅助蒸发光学薄膜技术对离子束的要求，离子束的产生方式，靶场离子源的特性，应用靶场离子源辅助蒸发光学薄膜的实验研究结果，从膜层与基片结合的牵固度，膜层断面的透射电子显微镜照片，膜层结构的X衍射分析讨论了离子对成膜...
- 韩丽瑛李彦民
- 关键词：光学薄膜离子束离子源电子显微镜分析X射线衍射分析
- 光学薄膜的反应离子镀概述
- 1993年
- 光学薄膜反应离子镀技术是近10年来镀膜技术的最新突破,也是当今国际薄膜界研究的热点。本文以简明扼要的方式报道了作者对反应离子镀技术的最新研究成果。1
- 王建成王喜中韩丽瑛
- 关键词：光学薄膜镀膜
- 光电薄膜技术的新动向被引量：3
- 1996年
- 在当今光电技术日新月异发展的形势下,薄膜技术已渗透到光电子学的多种领域中。随着光纤通讯、光计算机、光信息存储与传输的迅猛发展与应用,各种新型光电薄膜器件与薄膜技术正在相辅相成地不断开拓中。光电薄膜器件的产品也以7.7％的年增长率发展着。市场对于光电薄膜器件产品的要求不仅是其光电物理特性,而且包括应用于整机系统中的可靠性、再现性和一致性。每一种光电薄膜器件的产品化都伴随着它的成套技术设备的定型。
- 韩丽瑛
- 关键词：光电薄膜光电技术
- 光学薄膜反应离子镀技术研究
- 1994年
- 光学薄膜反应离子镀技术是近年来新发展的一种光学薄膜技术。本文介绍了光学薄膜反应离子镀设备的研制，在此设备上成功地制备了ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３光学薄膜，测出其折射率接近或达到同种块状材料的折射率；并对ＴｉＯ２、ＳｉＯ２，单层膜的成份及价态作了Ｘ光电子能谱分析。
- 王建成韩丽瑛高健存
- 关键词：光学薄膜
- 反应离子镀光学薄膜的微观结构分析被引量：3
- 1993年
- 用反应离子镀方法制备了TiO_2单层膜及TiO_2/SiO_2多层膜,用透射电子显微镜分别观察了由反应离子镀方法及传统蒸镀法二种不同工艺制得的TiO_2单层膜及TiO_2/SiO_2多层膜的断面结构,并对TiO_2单层膜进行了喇曼分析和卢瑟福背散射分析.
- 王建成韩丽瑛高健存
- 关键词：光学薄膜显微结构
- 超高斯渐变反射率激光反射镜
- 1997年
- 本文介绍了超高斯渐变反射率激光反射镜设计的基本原理。采用中心带孔的固定挡法制备渐变厚度薄膜的工艺方法，用ｅ型电子束枪在光学真空镀膜机中蒸发镀制出了膜斑直径为：３～６ｍｍ。
- 高健存安吉申韩大年韩丽瑛
- 关键词：光学薄膜激光反射镜激光器
- 低压反应离子镀氧化钨电致变色薄膜被引量：14
- 1996年
- 介绍了低压反应离子镀沉积氧化钨电致变色薄膜，并从微观特性。
- 李捍东曾志国高健存韩丽瑛
- 关键词：电致变色氧化钨
- 反应离子镀光学薄膜的牢固度和表面粗糙度分析
- 1993年
- 本文对反应离子镀和反应蒸发(电子束蒸发)工艺制备的光学薄膜的牢固度和表面粗糙度进行了检测,并将结果进行对比。
- 王建成韩丽瑛高健存
- 关键词：光学薄膜表面粗糙度
