梁宏军
- 作品数：10 被引量：73H指数：6
- 供职机构：中国人民解放军西安通信学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术理学机械工程更多>>
- MEMS与MEMS光开关被引量：14
- 2005年
- 微机电系统 (MEMS)技术是一种新型制造技术 ,在光通信的发展中得到广泛的应用 ,有极大的市场价值。在整个光通信中 ,光开关是较为重要的光无源器件 ,在光网络系统中可对光信号进行选择性操作。随着光通信的日益发展 ,对光开关的技术要求也日益提高 ,利用 MEMS技术制作的新型光开关具有体积小、重量轻、能耗低、集成化程度高等特点 ,从而日益成为研究的热点。本文简单介绍了 MEMS技术和其主要特点 ,并较详细地阐述了MEMS技术在光通信中的应用 ,以及 MEMS光开关的结构。
- 梁宏军张兴社
- 关键词：微机电系统光开关光通信
- MCP输入电子能量与微光像增强器信噪比的关系被引量：9
- 2008年
- 为了提高MCP像增强器亮度增益,在微光像增强器中采用了新的电子倍增机构,即微通道板(MCP),并对作为电子倍增结构MCP的噪声产生机理进行分析。在MCP其他参数不变的条件下,通过调整MCP入射电子的能量和入射电子角度分布,优化了MCP最佳工作信噪比的工作条件,实现了优化MCP像增强器信噪比,提高了MCP像增强器的亮度增益。
- 石峰程宏昌贺英萍梁宏军
- 关键词：微通道板像增强器信噪比
- 光子晶体及其在现代电子技术中的应用被引量：1
- 2006年
- 光子晶体(photonic crystal)是20世纪80年代末提出的新概念。光子晶体的发现,提供了一种全新的控制光子传播的机制,被广泛地应用在光通信中,使得光学、光电子学和信息技术发生了革命性变化。简单介绍了光子晶体的基本概念和主要特点,并结合他的特点,详细阐述了光子晶体光纤的主要原理和显著优势,并概述了光子晶体的其他用途。
- 梁宏军唐正国
- 关键词：光子晶体光通信光纤光电子学
- 一个可完全自动绘图的光学设计软件——OCAD光学设计软件包被引量：3
- 2004年
- 介绍一个光学设计软件包 (OCAD软件包 ) ,该软件包可以根据光学设计数据执行我国一系列国家标准和国军标 ,自动绘制光学系统图及各种零部件 (包括棱镜 )图。绘出的光学图纸标准、实用、准确 ,可直接用于生产加工 ,免除了以往使用 Auto CAD等各类绘图平台绘图的繁重手工劳动。该软件包还能直接使用国内外其他光学设计软件的数据文件或生成用于其他光学设计软件的数据文件。
- 姚多舜梁宏军
- 关键词：光学设计软件包
- 无线传感器网络及其应用被引量：22
- 2006年
- 无线传感器网络是一种新型网络,是多学科高度交叉研究的热点领域,具有极高的军事和商业价值。对无线传感器网络的体系结构、主要特点做了简要介绍,分析了网络中主要技术如MAC技术、路由技术和节点技术等,并结合其优势,阐述了无线传感器网络在军事和民用领域的主要用途,指出了目前以及今后无线传感器网络在技术和配置上需改进的地方。
- 邝自力张伟梁宏军
- 关键词：无线传感器网络MAC技术路由技术
- Mathematica软件在函数图形绘制及特性分析中的应用被引量：6
- 2006年
- 函数图形绘制及其特性分析在科学研究中具有重要的地位,利用Mathematica软件强大的绘图功能,从多元函数的极限、梯度场、重积分的定义、重积分计算中的定限、柱面坐标系和球面坐标系的几何解释等方面探讨利用Mathematica软件平台进行三维图形绘制和特性分析的方法,有助于提高数学分析能力和解决综合应用问题的能力。
- 李国蒋彦杨东升梁宏军
- 关键词：MATHEMATICA特性分析
- 沉积参数对碳氮化硅薄膜化学结构及光学性能的影响被引量：6
- 2006年
- 利用微波电子回旋共振（MW-ECR）等离子体增强非平衡磁控溅射法制备了碳氮化硅（SiCN）薄膜。研究结果表明：硅靶溅射功率和氮气流量对薄膜化学结构、光学、力学等性能有很大影响。傅里叶变换红外光谱（FT-IR）和X射线光电子能谱（XPS）表征显示,随着硅靶溅射功率由150W增加到 350 W,薄膜中C-Si-N键含量由14.3%增加到43.6%;氮气流量的增大（2～15 sccm）易于形成更多的sp2C=N键和sp1C≡N键.在改变硅靶溅射功率和氮气流量的条件下,薄膜光学带隙最大值分别达到2.1 eV和2.8 eV。
- 朴勇梁宏军高鹏丁万昱陆文琪马腾才徐军
- 关键词：光学带隙
- 用二氧化钛、二氧化硅和氟化镁膜料镀制0.4μm^1.1μm超宽带增透膜被引量：11
- 2007年
- 对0.4μm^1.1μm超宽带增透膜的镀制工艺进行了研究。根据长期从事该工作的经验和对膜料性能的研究,结合国产设备的实际情况,在膜料的选取上主要考虑其透明光谱区域、折射率、材料的蒸发方式、机械特性、化学稳定性及抗高能辐射等因素;最终选择用二氧化钛、二氧化硅和氟化镁3种常用膜料镀制0.4μm^1.1μm超宽带增透膜。涉及该膜系的膜层共有8层,结构为:玻璃■H■M■H■M■H■M■H■L■空气■。制作工艺方便简单、稳定,制做的膜层具有较好的光谱和机械性能,满足光电仪器实际使用要求。
- 谭宇梁宏军刘永强赵兴梅
- 关键词：膜厚宽光谱镀膜材料
