潘煦
- 作品数：3 被引量：5H指数：1
- 供职机构：上海交通大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程更多>>
- 偶氮聚合物材料的光致各向异性和偏振全息研究
- 含偶氮聚合物具有出色的光偏振敏感特性，近些年来在光存储领域被广泛地研究。在可吸收波段的激光照射下，偶氮分子由于发生反复的顺反异构过程而转动;如果作用光是线偏振光，则偶氮分子会被有序排列在垂直于光偏振的方向上，从而样品薄膜...
- 潘煦
- 关键词：偶氮聚合物光存储光致双折射偏振全息
- 文献传递
- 偶氮液晶聚合物薄膜的二维偏振全息记录被引量：3
- 2009年
- 利用偏振全息记录的方法在一种含偶氮侧链的液晶聚合物薄膜中写入了二维偏振光栅.实验采用两束正交偏振的532nm线偏光作为写入光,在样品同一点上分别记录了相互垂直的两个一维偏振光栅,继而对所构成的二维偏振光栅的特性进行了研究.实验结果表明:二维光栅的衍射效率比一维光栅低,其偏振特性是两个一维光栅元特性的叠加;二维光栅衍射效率对入射光偏振态的依赖性和光栅的偏振转换性质来源于材料中线双折射和圆双折射的共同作用.
- 田勇潘煦王长顺张小强曾艺
- 关键词：偏振全息
- 同步辐射光激励的二氧化硅薄膜刻蚀研究被引量：1
- 2006年
- 利用热氧化法在硅晶片上生长SiO2薄膜,结合光刻和磁控溅射技术在SiO2薄膜表面制备接触型钴掩模,通过掩模方法在硅表面开展了同步辐射光激励的表面刻蚀研究,在室温下制备了SiO2薄膜的刻蚀图样.实验结果表明:在同步辐射光照射下,通入SF6气体可以有效地对SiO2薄膜进行各向异性刻蚀,并在一定的气压范围内,刻蚀率随SF6气体浓度的增加而增加,随样品温度的下降而升高;如果在同步辐射光照射下,用SF6和O2的混合气体作为反应气体,刻蚀过程将停止在SiO2/Si界面,即不对硅刻蚀,实现了同步辐射对硅和二氧化硅两种材料的选择性刻蚀;另外,钴表现出强的抗刻蚀能力,是一种理想的同步辐射光掩模材料.
- 王长顺潘煦Urisu Tsuneo
- 关键词：二氧化硅薄膜
