江玉清 作品数:4 被引量:12 H指数:2 供职机构: 山东师范大学物理与电子科学学院 更多>> 发文基金: 国家自然科学基金 更多>> 相关领域: 电子电信 自动化与计算机技术 更多>>
Ga阶梯式深结分布特性与应用研究 2007年 利用开管扩Ga进行低浓度掺杂-长时间结深推移-浓度补偿与再分布方法形成Ga的阶梯式深结分布,用于普通晶闸管制备。实验与理论表明:J_1和J_2结附近Ga的较小浓度梯度α_j保证器件具有较高阻断耐压特性;J_3结附近Ga的浓度平缓分布,改善了器件触发参数的分散性;P_2区内Ga较高的电导率(?)和J_3结较大的注入比,同步协调和提高了器件的通态特性与动态特性。 裴素华 黄萍 张美娜 江玉清关键词:GA 晶闸管 电学性能 Ga的高斯分布对快速晶闸管电学性能的改善 2007年 利用开管扩散方式,使Ga在Si中的浓度分布服从高斯函数形式,用于快速晶闸管的制造。由理论与实践得出:P_1,P_2区Ga的缓变分布及其与N_1区低杂质浓度的匹配,有效保证了快速晶闸管较高的正反向耐压特性;器件结构参数设计与Ga分布的突出特点使磷在J_3结处得到一个较大的注入比,同时Ga在短基区获得一个足够高的(?),改善了器件的通态特性和di/dt耐量;使器件dV/dt耐量达到1000 V/μs。可见开管扩Ga是综合提高快速晶闸管器件电学性能及等级合格率的一种新途径。 裴素华 黄萍 张美娜 江玉清关键词:快速晶闸管 电学性能 Ga在SiO_2-Si复合结构中的热分布研究 被引量:5 2005年 用 H2 和 Ga_2O_3的高温反应形成元素 Ga 的恒定表面源,通过 SiO_2-Si 复合结构实现了 Ga 在 Si 中的高均匀性掺杂;利用二次离子质谱分析(SIMS)、扩展电阻(SRP)、四探针测试等方法,对 P 型杂质 Ga 在 SiO_2薄膜、SiO_2-Si 两固相接触的内界面、近 Si 表面的热分布进行分析;揭示出开管方式扩散 Ga 的实质是由 SiO_2薄膜对 Ga 原子的快速输运及其在 SiO_2-Si 内界面分凝效应两者统一的必然结果;并对该过程 Ga 杂质浓度分布机理进行了分析和讨论。 裴素华 孙海波 修显武 张晓华 江玉清关键词:GA γ-Fe_2O_3响应苯类气体敏感材料特性研究 被引量:7 2004年 从电导控制理论,对掺钇、硫酸根离子等多元化、微结构γ-Fe2O3的热稳定性、响应苯类气体敏感性及其对相邻气体的高选择性,进行了系统研究与机理分析,并用DTA、TEM、RQ-1等方法进行表征与测量。结果表明,掺入适量Y2O3后能使γ-Fe2O3的相变温度提高到618℃,从而改善γ-Fe2O3基气敏元件的热稳定性;硫酸根离子和金离子的适量掺杂有助于提高苯类气体的敏感特性;γ-Fe2O3基体材料的微细化可增强γ-Fe2O3的表面气敏特性。从而为苯类有机气体敏感元件研制提供了一条新途径。 裴素华 孙海波 张华 江玉清关键词:Γ-FE2O3 气敏元件 气敏材料