欧阳紫靛
- 作品数：5 被引量：6H指数：2
- 供职机构：中南大学冶金科学与工程学院更多>>
- 发文基金：国家教育部博士点基金湖南省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术化学工程更多>>
- 生长温度和退火气氛对ZnO:Al薄膜结构与性能的影响被引量：3
- 2011年
- 采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备ZnO：Al透明导电薄膜,研究生长温度和退火气氛对薄膜结构、形貌、光学和电学性能的影响。结果表明：不同温度下生长的ZnO：Al薄膜均为高度c轴取向的六角铅锌矿结构,400~900 nm波长范围内薄膜的平均透过率均超过85%。ZnO：Al薄膜的电学性能强烈依赖于生长温度,室温~500℃范围内,500℃下生长的薄膜具有最大的载流子浓度（2.294×1021 cm-3）和最低电阻率（4.095×10-4-.cm）。退火气氛对薄膜的性能影响显著,经过不同气氛退火后,薄膜的表面粗糙度降低,结晶质量和光学性能有所提高;在O2、N2、空气等气氛下退火,薄膜的载流子浓度降低,电阻率上升;Ar和真空退火时,薄膜载流子浓度上升,电阻率显著下降。
- 欧阳紫靛刘芳洋张治安赖延清李劼刘业翔
- 关键词：ZNO:AL薄膜生长温度光学性质电学性质
- Zn靶与掺铝ZnO靶共溅射制备ZnO:Al薄膜及其性能被引量：3
- 2012年
- 采用Zn靶和ZnO(掺2%Al2O3(质量分数))陶瓷靶在玻璃衬底上共溅射沉积Al掺杂ZnO薄膜,即ZnO:Al透明导电薄膜,研究Zn靶溅射功率(0～90 W)和衬底温度(室温、100℃和200℃)对薄膜结构、形貌、光学和电学性能的影响。结果表明:按双靶共溅射工艺制备的ZnO:Al薄膜的晶体结构均为六角纤锌矿结构,且随着Zn靶溅射功率的增加,薄膜的结晶质量呈现出先改善后变差的规律,薄膜中的载流子浓度逐渐升高,电阻率逐渐降低,而薄膜的光学性能受其影响不大;随着衬底温度的升高,薄膜的结晶性能得到改善,薄膜的可见光透过率增强,电阻率降低。
- 赵联波刘芳洋邹忠张治安欧阳紫靛赖延清李劼刘业翔
- 关键词：ZNO:AL薄膜磁控溅射衬底温度光电性能
- Zn靶与掺铝ZnO靶共溅射制备ZnO∶Al薄膜及其性能
- 采用Zn靶和ZnO(掺2wt.％ Al2O3)陶瓷靶在玻璃衬底上共溅射沉积Al掺杂ZnO薄膜，即ZnO∶Al透明导电薄膜，研究Zn靶溅射功率(0～90W)和衬底温度(室温、100℃和200℃)对薄膜结构、形貌、光学和电学...
- 苏正华赵联波刘芳洋邹忠张治安欧阳紫靛赖延清李劼刘业翔
- 关键词：磁控溅射衬底温度光电性能
- 一种薄膜太阳电池的光吸收层材料及其制备方法
- 本发明涉及一种薄膜太阳电池的光吸收层材料及其制备方法。该光吸收层材料为Cu<Sub>2</Sub>MS<Sub>3</Sub>(M＝Si，Ge，Sn)系列化合物中的Cu<Sub>2</Sub>Si<Sub>x</Sub>...
- 赖延清刘芳洋张治安李劼刘业翔田忠良吕晓军李轶欧阳紫靛吕莹刘军匡三双
- 文献传递
- ZnO：Al透明导电薄膜的磁控溅射制备及其特性研究
- 本文采用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备ZnO:Al透明导电薄膜,研究了衬底温度、溅射功率、退火气氛等工艺参数对薄膜性能的影响,并对薄膜其影响机制进行了探讨。在此基础上,以实现高质量ZnO:Al薄膜的低温沉积为目标,采用...
- 欧阳紫靛
- 关键词：磁控溅射透明导电薄膜电学性能光学性能
- 文献传递
