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施远驰

作品数:2 被引量:0H指数:0
供职机构:中国计量学院更多>>
相关领域:一般工业技术金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 2篇溅射
  • 1篇多层膜
  • 1篇应力
  • 1篇生物医学
  • 1篇离子注入
  • 1篇镁合金
  • 1篇膜性能
  • 1篇晶体
  • 1篇晶体结构
  • 1篇溅射功率
  • 1篇合金
  • 1篇NB
  • 1篇TIALN
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 2篇中国计量学院

作者

  • 2篇张高会
  • 2篇徐鹏
  • 2篇李根
  • 2篇施远驰
  • 1篇于明州
  • 1篇司平占
  • 1篇乔宪武

传媒

  • 1篇中国计量学院...
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2012
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
一种TiAlN多层膜制备新方法
2012年
采用自行设计制造的离子束联合溅射系统,将磁控溅射与离子注入技术相结合,在镁合金表面形成多层TiAlN强化膜.用金相显微镜、X射线衍射仪、原子力显微镜、摩擦磨损仪等手段,研究了多层膜的表面形貌、结构和性能.结果表明,TiAlN膜膜表面光滑致密、孔隙率大大降低,粗糙度为42.28nm,由TiAlN强化相组成;成膜后耐磨性有所提高,但摩擦系数变化不大,未达到减摩作用.
李根张高会徐鹏乔宪武于明州施远驰司平占
关键词:镁合金磁控溅射离子注入
溅射功率对微纳米Nb膜性能影响机制研究
2014年
为了改善普通钛合金TC4的表面生物医学性能,采用磁控溅射的方法在TC4表面制备微纳米Nb薄膜,研究不同功率(46,98.5,144,205.8 W)对制备微纳米化Nb膜的沉积速率、晶体结构、晶粒尺寸、应力、表面形貌及表面硬度的影响规律。结果表明,在气压为0.5 Pa、温度室温的情况下,溅射功率200 W时,制备的Nb薄膜具有晶粒尺寸适当、应力小、表面粗糙度低和较高硬度等综合性能较好的特点。
施远驰张高会李根徐鹏
关键词:NB生物医学晶体结构应力
共1页<1>
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