您的位置： 专家智库 > >

方宇翔

作品数：5 被引量：0H指数：0
供职机构：华中科技大学更多>>
相关领域：自动化与计算机技术机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 2篇内压
  • 2篇内压力
  • 2篇气体
  • 2篇气体纯度
  • 2篇涡轮分子泵
  • 2篇模拟装置
  • 2篇极紫外
  • 2篇光学
  • 2篇光学表面
  • 2篇过压
  • 2篇分子泵
  • 2篇保护系统
  • 2篇表面污染
  • 2篇插板阀
  • 2篇充气
  • 2篇充气型
  • 1篇正压
  • 1篇投影光刻
  • 1篇投影光刻机
  • 1篇温度

机构

  • 5篇华中科技大学

作者

  • 5篇方宇翔
  • 4篇李小平
  • 4篇雷敏
  • 2篇苗怀坤

年份

  • 1篇2016
  • 3篇2014
  • 1篇2013
共 5 条 记 录，以下是 1-5
全选 清除 导出
排序方式：
一种快充气型微正压保护系统
本发明公开了一种快充气型微正压保护系统，包括：经依次顺序连接的第一开关阀2、第一减压阀3和第二减压阀4分为两条支路，其中，一条支路经第一流量计5与毛细管6一端相连，另一支路经第二流量计7与第二开关阀8一端相连，毛细管6另...
李小平雷敏冯加云方宇翔
文献传递
一种极紫外光照射下的光学表面污染与清洁模拟装置
本发明公开了一种极紫外光照射下的光学表面污染与清洁模拟装置，包括：氢原子发生器接口、电子枪、电子枪室、电子枪接口、曝光腔、冷却毛细管、试样台、试样台接口、气体引入设备、涡轮分子泵、前级泵、RGA、RGA接口、插板阀、放气...
李小平方宇翔苗怀坤雷敏
文献传递
一种快充气型微正压保护系统
本发明公开了一种快充气型微正压保护系统，包括：经依次顺序连接的第一开关阀2、第一减压阀3和第二减压阀4分为两条支路，其中，一条支路经第一流量计5与毛细管6一端相连，另一支路经第二流量计7与第二开关阀8一端相连，毛细管6另...
李小平雷敏冯加云方宇翔
文献传递
一种极紫外光照射下的光学表面污染与清洁模拟装置
本发明公开了一种极紫外光照射下的光学表面污染与清洁模拟装置，包括：氢原子发生器接口、电子枪、电子枪室、电子枪接口、曝光腔、冷却毛细管、试样台、试样台接口、气体引入设备、涡轮分子泵、前级泵、RGA、RGA接口、插板阀、放气...
李小平方宇翔苗怀坤雷敏
ArF光源净化与温控技术研究
ArF光源是投影光刻机的最关键部件之一，全球仅有美国和日本两家公司能够提供，投影光刻机是集成电路最关键设备，也是国家科技重大专项重点研发任务，全球仅有欧洲荷兰和日本的三家公司能够研发。净化技术与温控技术是ArF光源的两个...
方宇翔
关键词：投影光刻机净化技术温度控制
文献传递
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0