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方宇翔
作品数:
5
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供职机构:
华中科技大学
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相关领域:
自动化与计算机技术
机械工程
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合作作者
雷敏
华中科技大学
李小平
华中科技大学
苗怀坤
华中科技大学
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机构
5篇
华中科技大学
作者
5篇
方宇翔
4篇
李小平
4篇
雷敏
2篇
苗怀坤
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2016
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2014
1篇
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一种快充气型微正压保护系统
本发明公开了一种快充气型微正压保护系统,包括:经依次顺序连接的第一开关阀2、第一减压阀3和第二减压阀4分为两条支路,其中,一条支路经第一流量计5与毛细管6一端相连,另一支路经第二流量计7与第二开关阀8一端相连,毛细管6另...
李小平
雷敏
冯加云
方宇翔
文献传递
一种极紫外光照射下的光学表面污染与清洁模拟装置
本发明公开了一种极紫外光照射下的光学表面污染与清洁模拟装置,包括:氢原子发生器接口、电子枪、电子枪室、电子枪接口、曝光腔、冷却毛细管、试样台、试样台接口、气体引入设备、涡轮分子泵、前级泵、RGA、RGA接口、插板阀、放气...
李小平
方宇翔
苗怀坤
雷敏
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一种快充气型微正压保护系统
本发明公开了一种快充气型微正压保护系统,包括:经依次顺序连接的第一开关阀2、第一减压阀3和第二减压阀4分为两条支路,其中,一条支路经第一流量计5与毛细管6一端相连,另一支路经第二流量计7与第二开关阀8一端相连,毛细管6另...
李小平
雷敏
冯加云
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一种极紫外光照射下的光学表面污染与清洁模拟装置
本发明公开了一种极紫外光照射下的光学表面污染与清洁模拟装置,包括:氢原子发生器接口、电子枪、电子枪室、电子枪接口、曝光腔、冷却毛细管、试样台、试样台接口、气体引入设备、涡轮分子泵、前级泵、RGA、RGA接口、插板阀、放气...
李小平
方宇翔
苗怀坤
雷敏
ArF光源净化与温控技术研究
ArF光源是投影光刻机的最关键部件之一,全球仅有美国和日本两家公司能够提供,投影光刻机是集成电路最关键设备,也是国家科技重大专项重点研发任务,全球仅有欧洲荷兰和日本的三家公司能够研发。净化技术与温控技术是ArF光源的两个...
方宇翔
关键词:
投影光刻机
净化技术
温度控制
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