彭吉
- 作品数：22 被引量：25H指数：3
- 供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
- 发文基金：国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术机械工程金属学及工艺更多>>
- 压电陶瓷驱动器迟滞系统的开环模糊控制方法
- 压电陶瓷驱动器迟滞系统的开环模糊控制方法，涉及超精密光学应用中的控制领域，解决现有PZT迟滞系统的迟滞模型构造的开环控制器适应性差，且无法有效补偿率相关迟滞特性对系统控制精度的影响等问题，本发明包括获取压电陶瓷驱动器系统...
- 李朋志李佩玥彭吉葛川郭嘉亮隋永新杨怀江
- 文献传递
- 超光滑加工中抛光液恒温供给系统设计与实现被引量：2
- 2013年
- 围绕用于超光滑光学元件加工的抛光液恒温供给系统的设计和实现而展开,首先,从功能及性能上对系统进行需求分析。然后,给出了系统整体设计方案:采用去离子水作为热媒,使抛光液间接、被动、缓慢、均匀升温,并采用压缩机制冷方式,引入恒定的制冷量,使用PID控制算法使得抛光液的温度控制在恒定值,仿真结果表明该设计方案满足加工工艺提出的精度要求。最后,对搭建后的系统进行测试,在有/无外循环扰动的情况下温度稳定性均优于±0.02℃。系统运行稳定,确保抛光模型和加工去除函数的稳定性,从而进一步提升光学元件的加工精度。
- 崔洋彭吉闫丰
- 关键词：光学制造
- 光学制造系统
- 本发明公开了一种光学制造系统。光学制造系统包括：精密气体控制装置、气体管路以及环境控制装置，其中：气体管路的两端分别连接精密气体控制装置和环境控制装置；精密气体控制装置包括气体回路，气体回路还包括：除湿装置，用于对输入的...
- 崔洋于淼彭吉李佩玥隋永新杨怀江
- 文献传递
- 板级EMC诊断测量与仿真分析方法被引量：4
- 2013年
- 在电子产品研发过程中,随着系统工作频率的提高、板内布线密度的增加及多层分割技术的使用,PCB板内存在大量的干扰,造成电子产品故障或不稳定,也给产品通过EMC认证增加了难度,迫切需要在产品研发过程中针对EMC要求进行相应的仿真分析、验证测试、查找故障、优化/完善设计。针对板级电磁兼容性的问题进行了理论分析,给出了板级EMC产品研发流程,详细介绍了板级EMC仿真分析技术及对比、板级EMI及EMS诊断测量/预认证的技术及方法,并提出了多种EMC优化策略,能够有效保证了电子产品的EMC性能、降低研发成本。
- 崔洋彭吉李佩玥闫丰
- 关键词：电磁兼容性
- 精密气体控制装置及光学制造系统
- 本发明公开了一种精密气体控制装置及光学制造系统。该精密气体控制装置包括初级过滤器、蒸发器、冷凝器以及混合室，其中：初效过滤器用于将外部环境的空气进行初级过滤，并将经过初级过滤的气体分别输送到蒸发器和冷凝器；蒸发器用于对经...
- 崔洋于淼彭吉李佩玥隋永新杨怀江
- 文献传递
- 负温度系数的工业热敏电阻温度传感器测量误差的不确定度评定被引量：6
- 2014年
- 光刻系统内部温度等微环境参数的波动是影响成像质量的重要因素,影响光刻机最终的线宽,因此对光刻系统内温度传感器测量的不确定度有极高的要求。本文对负温度系数的热敏电阻及其R-T特性进行简介,并针对工业级热敏电阻温度传感器进行了不确定分析,分别计算了标准测温仪引入的不确定度分量、标准温度传感器引入的不确定度分量以及测量重复性引入的不确定度分量,分析得到使用的工业级热敏电阻温度传感器合成不确定度为2.178m℃,扩展不确定度为为4.356m℃,满足对光刻系统内高精度温度测量的指标要求。
- 崔洋彭吉于淼李佩玥
- 关键词：负温度系数热敏电阻不确定度温度传感器
- 一种光学系统局部环境控制单元
- 一种光学系统局部环境控制单元属于光刻投影物镜环境控制领域，包括人机交互界面、主控单元、空气调节供给单元和环境控制单元。人机交互界面与主控单元之间通过串行通信总线连接，主控单元与空气调节供给单元之间通过串行通信总线连接，空...
- 于淼崔洋彭吉李佩玥隋永新杨怀江
- 文献传递
- 基于逆补偿复合控制的抛光液供给系统设计
- 2013年
- 根据磨料水射流抛光加工工艺要求,设计了一套以比例阀和溢流阀为流量调节元件的抛光液供给系统。但由于溢流阀在调节过程中的正反行程工作曲线不重合,导致系统存在较大的迟滞及非线性。针对这一情况,采用了前馈逆补偿及PID反馈的复合控制策略。并基于TMS320F2812DSP数字控制器,完成了传统PID控制策略和逆补偿复合控制策略的阶跃响应效果对比实验。结果表明,逆补偿复合控制策略能很好的改善系统响应品质,超调量和响应时间得到了明显减少,实现了抛光液射流流量的快速、高精度控制。
- 尹志生郑楠于淼彭吉闫丰
- 关键词：复合控制
- 菲索干涉仪中精确移相的实现被引量：6
- 2013年
- 为了实现移相式菲索干涉仪对光学元件面形的高精度测量,建立了干涉仪同步采集移相系统,并对精确移相方法进行了研究。介绍了移相系统的构成和工作原理,计算了测量过程中移相器的速度。针对PZT移相器在移相过程中会引入离焦误差,并存在加速段和减速段的问题,详细设计了移相器的行进过程。最后,对移相器的性能进行了标定。在改造后的干涉仪上开展了重复性验证实验,结果表明:干涉仪可以获得λ/11 340的RMS测量重复性。对改造后干涉仪与Zygo公司生产的Verifire XP/D干涉仪的测量精度做了比对实验,结果显示:相同元件下两者测量结果的面形RMS之差约为0.9 nm,表明提出的移相系统及移相方法在重复性和准确度方面都能满足纳米级面形测量的要求,为研制高精度移相干涉仪奠定了基础。
- 苏志德史振广彭吉隋永新杨怀江
- 关键词：同步采集面形测量
- 气体供给装置及具有其的光刻投影物镜
- 本发明公开了一种气体供给装置及具有其的光刻投影物镜，该气体供给装置包括：气源及供气控制管路，供气控制管路的一端连通气源，另一端用于与物镜本体的内部腔室连通；供气控制管路包括：设于管路上的热交换器、减压阀、质量流量控制器，...
- 崔洋于淼李佩玥彭吉隋永新杨怀江
