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孙龙

作品数:14 被引量:29H指数:3
供职机构:延边大学理学院物理系更多>>
发文基金:吉林省科技厅科研基金教育部跨世纪优秀人才培养计划国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学机械工程电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 14篇中文期刊文章

领域

  • 11篇理学
  • 6篇机械工程
  • 4篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇光学
  • 2篇衍射
  • 2篇激光
  • 2篇溅射
  • 2篇光波
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇单缝
  • 1篇单缝衍射
  • 1篇氮化硼薄膜
  • 1篇导热
  • 1篇导热系数
  • 1篇导线
  • 1篇电磁学
  • 1篇信号
  • 1篇信号分析
  • 1篇信息记录
  • 1篇学法
  • 1篇圆孔
  • 1篇圆孔衍射

机构

  • 14篇延边大学
  • 2篇吉林大学

作者

  • 14篇孙龙
  • 10篇金逢锡
  • 10篇王成贵
  • 1篇赵永年
  • 1篇顾广瑞
  • 1篇吕宪义
  • 1篇盖同祥
  • 1篇卞海蛟
  • 1篇王玉兰
  • 1篇李俊杰
  • 1篇李哲奎
  • 1篇洪光
  • 1篇金虎杰
  • 1篇孙文斗
  • 1篇邵静波
  • 1篇金曾孙
  • 1篇李全军
  • 1篇郑伟涛
  • 1篇王欣

传媒

  • 6篇延边大学学报...
  • 3篇大学物理实验
  • 1篇物理实验
  • 1篇红外技术
  • 1篇发光学报
  • 1篇实验室研究与...
  • 1篇吉林大学学报...

年份

  • 1篇2005
  • 1篇2004
  • 6篇2003
  • 5篇2002
  • 1篇2001
14 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
磁控溅射CN_x薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系被引量:12
2003年
对磁控溅射生长在单晶Si(001)衬底上的CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系进行了研究。CNx薄膜沉积实验在纯N2的环境下进行,衬底温度(Ts)保持在350℃,衬底偏压(Vb)在0~-150V之间变化。利用原子力显微镜(AFM)和划痕试验机来测量CNx薄膜的表面粗糙度及对衬底的附着力。AFM和划痕实验的结果显示衬底偏压Vb对CNx薄膜的附着力和表面粗糙程度的影响很大,在-100V偏压下生长的CNx薄膜表面最光滑(粗糙度最小),同时对Si(001)衬底的附着力最好。最后根据实验结果确定了在单晶Si(001)衬底上生长光滑而且附着力好的CNx薄膜的最佳实验条件。
李俊杰王欣卞海蛟郑伟涛吕宪义金曾孙孙龙
关键词:磁控溅射CNX薄膜附着力粗糙度碳氮薄膜
作图法与最小二乘法处理数据时的误差分析被引量:2
2002年
运用有效数字的运算规则进行计算时 ,作图法和最小二乘法在保留有效数字问题上会出现较大的差异 .对此进行分析后 ,得出有效数字的保留问题应归结于误差的大小情况 .
金逢锡王成贵孙龙
关键词:作图法最小二乘法误差分析
用光栅最小偏向角法测定光波波长被引量:3
2003年
从光栅衍射方程出发,通过分析和推导,得出了符合最小偏向角条件时的计算公式,对实验得出的数据与公认值进行对比之后,得出此方法具有较高的精确度。
金逢锡孙龙王成贵
关键词:光学测量最小偏向角法光栅常量
用干涉条纹重迭法测量晶体双折射率差
2003年
本文介绍用干涉条纹的重叠法测量晶体双折射的过程。此方法是在D.F.Heller先生的基础上,用干涉条纹取代光机的Talbot像,主要优点是条纹的对比度好。
金逢锡孙龙王成贵
关键词:莫尔条纹干涉条纹晶体
一种新型的半导体激光自混频式麦克风
2002年
对激光自混频技术进行了分析 。
王玉兰邵静波洪光孙龙
关键词:信号分析
圆孔衍射中央图案的研究
2003年
通过理论和实验两方面,对A.J.Fresnel和J.Fraunhofer圆孔衍射中心图案进行分析和讨论之后,得出圆孔衍射图样中央光斑不一定总是亮斑的结论.
金逢锡王成贵孙龙
关键词:圆孔衍射
用数学法解析激光全息术被引量:2
2002年
对激光全息术进行数学分析和讨论之后,描述了激光全息术的记录和显示过程,为计算机制全息图、光学图象处理及光计算的发展提供了数学分析基础.
金逢锡王成贵孙龙
关键词:数学法球面波激光全息术全息照相术信息记录
用Faraday效应测量光学材料的色散率被引量:1
2002年
介绍了利用Faraday磁致旋光性原理 ,测量光学材料色散率的方法 .此方法对Verdet常数大的光学材料来说 。
金逢锡孙龙王成贵
关键词:光学材料
压力对Zr_(41.2)Ti_(13.8)Cu_(12.5)Ni_(10)Be_(22.5)块体非晶合金晶化行为的影响
2005年
介绍了用于压力测量的新型bridgman装置,并结合X射线衍射分析技术(XRD)研究了常压、高压条件下Zr41.2Ti13.8Cu12.5Ni10Be22.5块体非晶合金的晶化。结果表明,在相同的退火条件下(400℃,退火3小时),增大压力有利于Zr41.2Ti13.8Cu12.5Ni10Be22.5块体非晶合金的晶化;压力越大获得晶化相的晶粒尺寸越大。
孙龙
关键词:块体非晶合金晶化
基底温度对氮化硼薄膜场发射特性的影响被引量:3
2004年
利用射频磁控溅射方法,真空室中充入高纯N2(99.99%)和高纯Ar(99.99%)的混合气体,在n型(100)Si基底上沉积了六角氮化硼(h-BN)薄膜.在超高真空(<10-7Pa)系统中测量了BN薄膜的场发射特性,发现沉积时基底温度对BN薄膜的场发射特性有很大影响.基底温度为500℃时沉积的BN薄膜样品场发射特性要好于其他薄膜,阈值电场为12V/μm,电场升到34V/μm,场发射电流为280μA/cm2.所有样品的Fowler-Nordheim(F-N)曲线均近似为直线,表明电子是通过隧道效应穿透BN薄膜发射到真空的.
孙文斗顾广瑞孙龙李全军李哲奎盖同祥赵永年
关键词:场发射基底温度氮化硼薄膜射频磁控溅射隧道效应
共2页<12>
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