喻利花
- 作品数：161 被引量：268H指数：10
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- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术理学文化科学更多>>
- 一种硬质薄膜及制备方法
- 本文发明公开了一种硬质薄膜及其制备方法，该薄膜是以纯W靶、纯Cu靶和纯Cr靶为靶材，利用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上，薄膜分子式为W<Sub>2</Sub>N-Cu，其中W含量为85at.％-100a...
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- 选区激光熔化技术用Al-Mg-Sc-Zr系铝合金组合物及成型件制备方法
- 本发明公开了一种选区激光熔化技术用Al‑Mg‑Sc‑Zr系铝合金组合物及成型件制备方法。所述组合物的成分及含量，按质量百分比为：Mg 6‑15％、Sc 0.5‑4％、Zr 0.7‑3％、Mn 0.5‑2％，余量为铝。通过...
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- 一种TaVN复合涂层及其制备方法
- 本发明涉及一种TaVN复合涂层，其特征在于是在氮气与氩气的混合气体氛围下，以金属、硬质合金或陶瓷为基体，采用高纯Ta靶和高纯V靶共溅射，V元素的原子百分比为0～46.7at%且大于0，先在基片上沉积纯Ta层作为过渡层，然...
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- TaVCN硬质纳米结构薄膜及制备方法
- 本文发明公开了一种TaVCN硬质纳米结构薄膜及其制备方法，其特征在于是该薄膜采用多靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上制备得到，薄膜分子式为(Ta,V)CN，厚度在1-3μm，V含量为0-40at.%。沉积时，...
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- Ti(C,N)复合膜和TiN/Ti(C,N)多层膜组织和显微硬度被引量：15
- 2010年
- 采用非平衡反应磁控溅射的方法在Si(100)基片上沉积Ti(C,N)复合膜和不同调制周期、调制比的TiN/Ti(C,N)纳米多层薄膜。薄膜的微观结构和力学性能采用X射线衍射仪(XRD)、显微硬度计进行表征。结果表明,Ti(C,N)复合膜的微观结构和力学性能与掺入C的含量有关;TiN/Ti(C,N)纳米多层膜的微观结构和力学性能与调制周期和调制比有关,其显微硬度在一定的调制周期和调制比范围内出现了超硬现象。Ti(C,N)、TiN/Ti(C,N)均为δ-NaCl面心立方结构;Ti(C,N)复合膜显微硬度提高是因为固溶强化,TiN/Ti(C,N)纳米多层膜硬度的提高主要是共格外延生长在界面处产生的交变应力场。
- 汪蕾董师润尤建飞喻利花李学梅许俊华
- 关键词：显微硬度超硬效应
- 一种Al-Mg-Er-Zr系列铝合金及制备方法
- 本发明公开了一种Al‑Mg‑Er‑Zr系列铝合金及制备方法。所述合金按质量百分比由组分：Mg 6‑12％、Er 0.5‑2％、Zr 0.5‑2％，余量为Al组成。通过母合金熔炼、金属粉末制备、铝合金成型件的制备及热处理工...
- 张志杰耿遥祥许俊华喻利花鞠洪博李洁樊世敏
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- 磁控共溅射制备锆-硅-氮复合薄膜的显微组织与性能被引量：10
- 2008年
- 通过磁控共溅射方法制备了一系列不同硅含量的锆-硅-氮复合薄膜;采用能谱仪、X射线衍射仪、扫描电镜和微力学探针等对复合薄膜进行了表征;研究了薄膜中硅、锆原子比对复合薄膜的显微组织、高温抗氧化性能和力学性能的影响。结果表明:随着硅含量的增加,复合薄膜的ZrN(111)、(220)晶面衍射峰逐渐消失,呈现ZrN(200)择优取向;同时其性能逐渐提高,当硅、锆原子比为0.030时可获得最大硬度和最大弹性模量,分别为37.8 GPa和363 GPa;进一步增加硅含量,复合薄膜向非晶态转化,而薄膜的硬度和弹性模量迅速降低,抗氧化温度显著提高。
- 董松涛喻利花董师润许俊华
- 关键词：显微组织抗氧化性能
- 科研实践融入《材料近代分析方法》课程的教学改革初探
- 2023年
- 材料是人类文明进步的基石。在科学技术迅速发展的当今时代,各种新材料层出不穷,为此,材料性能的检测与分析技术显得尤为关键。工程教育认证是国际工程教育质量保障制度的重要组成部分,是国际上工程教育和工程师资质认可的重要保障。《材料近代分析方法》是材料、化学等专业一门重要的专业核心课程,分析了课程的特点及要求。本课题以“S掺杂Cu3SbSe4基热电材料的制备及组织研究”为例,阐述了科研实践融入课程教学改革的重要性。最后对该课程的教学改革提出了建议,并作出了一定展望,旨在提高学生的学科素养和实践能力,更好地适应新时代的岗位需求。
- 赵立军郑军涵刘依蓉韩海伟喻利花
- 关键词：工程教育认证教学改革
- 一种ZrMgN纳米结构薄膜及其制备方法和应用
- 本发明公开了一种ZrMgN纳米结构薄膜及其制备方法和应用，所述薄膜分子式表示为(Zr,Mg)N，薄膜以ZrN为过渡层，薄膜的厚度为2～3μm。本发明所述ZrMgN纳米结构薄膜的显微结构为面心立方结构，兼具了高硬度以及优异...
- 喻利花许俊华鞠洪博
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- NbBN复合涂层及其制备方法
- 本文发明公开了一种NbBN复合涂层及其制备方法，是在室温下采用双靶共焦射频反应磁控溅射法溅射在硬质合金或陶瓷基体上制备得到的，厚度为1.5‑2.5μm，B成分为0‑9.65at.％，Nb成分为49.43‑58.92at....
- 喻利花许俊华陈建
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