司马媛
- 作品数：3 被引量：34H指数：2
- 供职机构：大连理工大学机械工程学院精密与特种加工教育部重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术金属学及工艺更多>>
- 利用图像处理技术评价硅片表面清洗率被引量：6
- 2007年
- 介绍了一种基于Matlab图像处理工具箱技术的评价硅片表面污染颗粒激光清洗率的新方法。借助Matlab图像处理工具箱,对清洗前后硅片表面光学显微镜照片进行处理,编写硅片表面激光干法清洗率的评价程序,统计清洗前后硅片表面评价区域的污染颗粒个数,对清洗效果进行定量评价。研究结果证明,利用此方法统计的颗粒数准确度达97.6%,得到的激光清洗率准确度达99.2%。结果表明,借助图像处理技术评定清洗效果是一种高效、快速、准确的新方法。
- 王续跃许卫星司马媛吴东江康仁科郭东明
- 关键词：激光清洗硅片图像处理
- 激光清洗硅片表面Al_2O_3颗粒的试验和理论分析被引量：30
- 2006年
- 以KrF准分子激光器为激光源,对目前工业上常用的硅片研磨抛光液的主要成分Al2O3颗粒进行激光清洗的试验和理论分析。建立一维热传导模型,利用有限元分析软件MSC.MarC模拟硅片表面的温度随激光作用时间和能量密度的分布。通过理论计算,量化了颗粒所受到的清洗力以及其与硅片表面之间的粘附力,理论预测出1μm Al2O3颗粒的激光清洗阈值为60 mJ/cm2。在理论分析的指导下,利用248 nm3、0 ns的KrF准分子激光进行单因素试验,研究激光能量密度、脉冲个数、激光束入射角度对激光干法清洗效率的影响,并且实验验证了清洗模型以及场增强效应对激光清洗结果的影响。
- 吴东江许媛王续跃康仁科司马媛胡礼中
- 关键词：激光清洗硅片AL2O3
- 激光清洗硅片表面颗粒沾污的试验研究
- 随着超大规模集成电路的发展，硅片尺寸将不断增大，刻线宽度从亚微米向纳米级发展。基体表面的亚微米级污物足以导致芯片的缺陷产生，因此对半导体硅片表面质量的要求也越来越严格。传统的清洗方法，如RCA清洗、机械刷片清洗、超声波清...
- 司马媛
- 关键词：激光清洗硅片
- 文献传递
