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刘还平

作品数：5 被引量：3H指数：1
供职机构：北京科技大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学电子电信一般工业技术电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇会议论文
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇理学
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇坡莫合金
  • 2篇基片
  • 2篇基片温度
  • 2篇磁电
  • 2篇磁电阻
  • 1篇导体
  • 1篇电性能
  • 1篇电性质
  • 1篇多层膜
  • 1篇氧化物
  • 1篇物性
  • 1篇介电
  • 1篇介电性
  • 1篇介电性能
  • 1篇介电性质
  • 1篇溅射
  • 1篇光学
  • 1篇光学性
  • 1篇光学性质
  • 1篇半导体

机构

  • 5篇北京科技大学
  • 1篇中国计量科学...

作者

  • 5篇刘还平
  • 3篇潘礼庆
  • 3篇王凤平
  • 3篇吴平
  • 3篇邱宏
  • 2篇罗胜
  • 1篇王蕾
  • 1篇于红燕
  • 1篇顾刚
  • 1篇田跃
  • 1篇田跃

传媒

  • 2篇第八届全国固...
  • 1篇发光学报

年份

  • 1篇2004
  • 2篇2003
  • 2篇2002
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
基片温度对坡莫合金薄膜结构和磁电阻的影响被引量：3
2003年
用磁控溅射方法制备了系列坡莫合金Ni80Fe20薄膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜和原子力显微镜分析了薄膜的结构、晶粒取向、薄膜厚度、截面结构和表面形态。用4点探测技术测量了薄膜的电阻和磁电阻。结果表明:随衬底温度的升高,晶粒明显长大,膜内的缺陷和应力显著减小,而且增强了薄膜晶粒的[111]择优取向。结果表明,薄膜电阻率显著减小,而磁电阻显著增大。
王凤平刘还平吴平潘礼庆邱宏田跃罗胜
关键词：磁电阻基片温度磁控溅射
基片温度对坡莫合金薄膜磁电阻的影响
本文采用四探针探测技术测量了坡莫合金薄膜的电阻和磁电阻,以探讨在晶体生长中基片温度对坡莫合金薄膜磁电阻的影响.
王凤平刘还平顾刚吴平潘礼庆邱宏罗胜
关键词：磁电阻基片温度
文献传递
磁性薄膜及多层膜的结构、物性及磁光克尔效应研究
刘还平
关键词：磁光克尔效应磁性薄膜磁化反转
偏振光调制方法测试薄膜的光学性质和介电性质
用光学方法研究半导体材料的物理性质,有其非常突出的优点.本文研究用偏振光调制方法测试半导体薄膜的光学性质和介电性能.
刘还平于红燕孙春鹏王凤平
关键词：半导体薄膜光学性质介电性能
文献传递
表面薄氧化物薄膜层对坡莫合金薄膜磁电阻的影响
用电子束蒸发方法制备了系列坡莫合金Ni80Fe20薄膜,基片为Si(111),在其表面热氧化一层约500纳米厚的SiO2。沉积温度为室温。本底真空约为6×10-4Pa。灯丝电流0.6A。所有薄膜沉积速率均为20A/min...
王蕾王凤平潘礼庆吴平邱宏刘还平田跃
文献传递
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