何欣
- 作品数：3 被引量：26H指数：2
- 供职机构：北京科技大学材料科学与工程学院材料物理与化学系更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺理学一般工业技术更多>>
- 射频磁控溅射(Ti,Al)N薄膜性能的研究被引量：16
- 2006年
- 采用射频磁控溅射,用Al靶和Ti靶同时溅射沉积(Ti,Al)N薄膜。研究表明:不同Al靶功率沉积的薄膜中始终存在面心立方结构(B1型),当Al靶功率大于250 W薄膜中面心立方结构(B1型)和六方结构(B4型)共存。随Al成分的增加,B1型结构晶格常数减小,薄膜择优取向由B1型(111)向B4型(002)转变。薄膜表面随Al靶功率增加分别呈岛状、纤维状和柱状增长。(Ti,Al)N薄膜的硬度随Al靶功率的增加呈上升趋势。等离子体发射光谱分析显示,在相同工艺条件下Al靶比Ti靶先进入非金属态溅射模式,导致在相同功率下Al溅射速率低于Ti溅射速率。
- 何欣杨会生王燕斌熊小涛乔利杰瞿春燕杨建军
- 关键词：磁控溅射等离子体发射光谱
- 磁控溅射沉积氮化铝薄膜中等离子体光谱研究
- 2005年
- 薄膜材料由于其优异的性能,应用日益广泛.薄膜生长过程的在线检测具有重要意义.为了研究等离子体发射光谱强度与气体流量的关系,对薄膜生长过程进行在线检测;应用等离子体发射监测仪(Plasma Emission Monitor)采集反应磁控溅射真空室中等离子体的发射光谱.对氮化铝薄膜沉积过程中等离子体发射光谱进行分析,结果显示氮的谱线强度和铝的谱线强度随着氮气流量的增大都有明显而且相同的转变点.通过理论模拟分析,得出以下结论:反应粒子光谱强度的转变反映了溅射模式转变点,并且通过直线拟合的方法找到转变点.实验结果与理论模拟分析取得了一致结果.
- 杨建军何欣王燕斌杨会生
- 关键词：反应磁控溅射等离子体发射光谱氮化铝
- 溅射工艺对TiAlN薄膜摩擦学性能的影响被引量：11
- 2007年
- 研究利用反应磁控溅射法在高速钢基体上制备TiAlN薄膜材料,采用XRD测试薄膜晶体结构,用UMT显微力学测试仪测试薄膜摩擦系数。在此基础上讨论铝含量、直流偏压及后期处理对薄膜摩擦系数的影响。结果表明,不同铝含量的TiAlN薄膜中都存在面心立方相和六方相,随着铝含量的增高,面心立方相比例逐渐减小,六方相增多。铝的引入使膜层的硬度明显提高。随着Al含量增加,GCr15与TiAlN膜层之间的摩擦系数下降。另外,直流偏压和后期处理亦可显著改善薄膜的抗摩擦性能。
- 罗飞何欣杨会生高克玮王燕斌
- 关键词：磁控溅射TIALN薄膜
