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高平

作品数：89 被引量：8H指数：2
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术理学一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 87篇专利
  • 2篇期刊文章

领域

  • 26篇电子电信
  • 6篇自动化与计算...
  • 4篇理学
  • 3篇机械工程
  • 3篇一般工业技术
  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 38篇光刻
  • 25篇掩模
  • 19篇超分辨
  • 13篇承片台
  • 12篇等离子体
  • 11篇掩模版
  • 11篇表面等离子体
  • 10篇波长
  • 9篇亚波长
  • 9篇刻蚀
  • 9篇光栅
  • 8篇金属
  • 8篇波段
  • 7篇多层膜
  • 7篇纳米
  • 7篇光刻胶
  • 7篇光谱
  • 6篇亚波长结构
  • 6篇透镜
  • 5篇调平

机构

  • 89篇中国科学院
  • 1篇中国科学院大...

作者

  • 89篇罗先刚
  • 89篇高平
  • 56篇赵泽宇
  • 51篇蒲明博
  • 48篇马晓亮
  • 39篇李雄
  • 29篇王彦钦
  • 25篇王长涛
  • 16篇刘凯鹏
  • 12篇刘玲
  • 11篇罗云飞
  • 11篇陶兴
  • 10篇黄成
  • 10篇郭迎辉
  • 8篇冯沁
  • 8篇杨磊磊
  • 6篇杨欢
  • 5篇姚纳
  • 5篇胡承刚
  • 4篇王炯

传媒

  • 1篇科学通报
  • 1篇光电子技术

年份

  • 1篇2024
  • 10篇2023
  • 11篇2022
  • 10篇2021
  • 14篇2020
  • 6篇2019
  • 11篇2018
  • 8篇2017
  • 3篇2016
  • 2篇2015
  • 1篇2014
  • 6篇2013
  • 5篇2012
  • 1篇2011
共 89 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种基于暗场莫尔条纹的对准检测与控制的超分辨光刻装置
本发明公开了一种基于暗场莫尔条纹对准检测与控制的超分辨光刻装置，该装置包括精密的环控系统、主动隔振平台、支撑框架、光源、对准检测系统、掩模形变校正系统、光刻镜头模块、承片台及控制系统。该装置通过暗场莫尔条纹衍射成像技术，...
罗先刚刘明刚蒲明博马晓亮高平李雄
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一种可调谐三角形金属纳米粒子阵列结构的制作方法
一种可调谐三角形金属纳米粒子阵列结构的制作方法，步骤：(1)根据透射波长的需要选择合适型号的基底，对基底进行清洗、亲水化处理；(2)在基底表面均匀的自组装一层纳米球；(3)采用反应离子刻蚀机RIE工艺对制作的纳米球自组装...
高平杨欢李飞罗先刚
文献传递
一种用于表面等离子体光刻的纳米光栅掩模制备方法
本发明提供一种用于表面等离子体光刻的纳米光栅掩模制备方法，其步骤为：在基底上制备光栅阵列结构；在光栅线条一侧方向进行阴影蒸镀掩蔽层、RIE刻蚀基底、去除掩蔽层，然后在光栅线条另一侧方向进行阴影蒸镀掩蔽层、RIE刻蚀基底、...
罗先刚赵泽宇冯沁刘凯鹏王长涛高平杨磊磊刘玲
一种适用于柔性衬底的纳米孔阵列承片台
本发明公开了一种适用于柔性衬底的纳米孔阵列承片台，该承片台核心部件为阳极氧化铝孔基板，表面均布纳米级气孔，与气流盘连通，气流盘接通气源后，整个阳极氧化铝孔基板均匀气流，在曝光与掩模板贴合的过程中，增大气源气压，使得基片脱...
罗先刚蒲明博高平马晓亮薛磊
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一种可拉伸变形的超表面彩色显示器件
本发明提供了一种可拉伸变形的超表面彩色显示器件，该器件自下而上依次包括：柔性可拉伸变形的基底、超表面结构。所述超表面结构是由周期排列的一维或二维纳米结构阵列组成。本发明利用柔性基底的可拉伸特性，在可控拉力下，通过拉伸基底...
罗先刚马晓亮蒲明博王彦钦高平李雄郭迎辉赵泽宇
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光刻胶组合物及其应用
本公开提供了一种光刻胶组合物，包括：化学放大基体，化学放大基体包括聚合物树脂、光致酸产生剂和溶剂；溶解抑制剂，为包含重氮萘醌结构的小分子材料。本公开还提供了该光刻胶组合物的应用。本公开的光刻胶组合物通过加入具有重氮萘醌结...
罗先刚杨东旭彭献苏凯欣赵泽宇高平王长涛
光刻方法
本公开提供一种光刻方法，包括：在光刻基底表面依次制备叠设的功能膜层、反射式辅助成像膜层及第一光刻胶层。对第一光刻胶层进行光刻，得到第一光刻结构。以第一光刻结构为掩蔽层对反射式辅助成像膜层进行刻蚀，以将第一光刻结构的图形传...
罗先刚刘凯鹏罗云飞牟帅高平赵泽宇
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一种基于白光干涉信息匹配的多层膜绝对间隙测量装置及方法
本发明公开了一种基于白光干涉信号匹配的多层膜绝对间隙测量装置与方法，利用由工件台、真空吸附装置、基片、待测掩模、半透半反镜组、白光光源、准直透镜、光谱仪、光纤、光纤耦合单元和计算机组成的装置。利用白光光源的干涉特性，计算...
罗先刚刘明刚马晓亮高平蒲明博
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二次成像光学光刻方法和设备
本公开提出了一种二次成像光学光刻方法和设备。所述二次成像光学光刻方法包括：将光刻掩模板与柔性透明转移衬底紧密接触；用第一光源通过所述光刻掩模板照射所述柔性透明转移衬底的感光层，以将所述光刻掩模板的图案转移到所述柔性透明转...
罗先刚王长涛王彦钦孔维杰高平赵泽宇
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一种2,4-二硝基甲苯快速检测方法
本发明公开了一种2，4-二硝基甲苯快速检测方法，其特征在于包含步骤如下：根据需要选择传感芯片基底材料；在经清洗后的基底上制作金属纳米阵列结构，得到传感芯片；将待测溶液结合在上述上述传感芯片上后，待其自然风干后放入拉曼光谱...
罗先刚赵泽宇高平王长涛王彦钦黄成陶兴刘玲杨磊磊杨欢
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