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陈道伦
作品数:
7
被引量:19
H指数:3
供职机构:
中国科学院金属研究所
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
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合作作者
王中光
中国科学院金属研究所
苏会和
中国科学院金属研究所
艾素华
中国科学院金属研究所
师昌绪
中国科学院金属研究所
姜晓霞
中国科学院金属研究所
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陈道伦
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2篇
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双相钢门槛值附近疲劳裂纹的扩展行为
陈道伦
小角度晶界铜晶体的循环形变及饱和位错组态ECC观察
被引量:1
1998年
通过对具有小角度晶界的铜晶体进行循环变形,发现其循环饱和切应力在塑性切应变范围0.6—4.7×10-3内基本不变(约为30MPa)。采用电子通道衬度(ECC)技术观察了其循环饱和时晶内、晶界及形变带附近的位错组态,发现在低应变幅下(γp1=0.6×10-3)晶内为驻留滑移带及脉络两相结构。随应变幅升高(γp1>1.7×10-3)驻留滑移带逐渐增多,最后形成规则的位错墙结构,并且位错墙连续穿过小角度晶界,在局部区域还发现小角度晶界两侧出现无位错区(DFZ);
张哲峰
李小武
苏会和
陈道伦
李广义
王中光
关键词:
位错组态
直接观察位错结构的扫描电镜电子通道衬度技术
被引量:4
1997年
介绍了扫描电镜(SEM)电子通道衬度(ECC)技术.该技术可以很好地观察材料中位借结构,用这种技术观察受循环载荷作用的铜单晶中的典型位错结构,与常规的TEM方法观察结果基本一致.
胡运明
陈道伦
苏会和
王中光
关键词:
扫描电镜
铜单晶体
位错结构
用扫描电镜直接观察变形材料中的位错结构──[001]取向铜单晶疲劳位错结构的研究
被引量:2
1997年
用扫描电镜(SEM)的电了通道讨度(ECC)技术研究了[001]取向铜单晶中的疲劳位错结构结果表明,SEMECC技术不仅可以真实地、全面地显示疲劳位错组态,而且还揭示了表面出现的宏观形变带与位错结构的对应关系.
宫波
陈道伦
苏会和
王中光
关键词:
扫描电镜
铜单晶体
位错结构
ECC
分形(Fractal)及其在材料科学中的应用
被引量:9
1989年
本文简要介绍了近年来出现的一门应用数学分支——分形几何,评述了国内外到目前为止有关分形在材料科学,特别是材料断裂研究中的应用。
陈道伦
疲劳裂纹扩展门槛与断口定量研究
王中光
陈道伦
田继丰
黄兆宏
艾素华
金属的疲劳是一个工程背景很强的传统学科领域,目前已发展成为材料科学与工程中一个具有学科交叉性质的分支学科。疲劳裂纹扩展门槛的发现已30多年,它是表征材料抵抗疲劳裂纹扩展组力的参量,具有重要的工程与理论意义。该项目根据断口...
关键词:
双相钢疲劳断口的分形分析
被引量:5
1989年
本文研究了双相钢疲劳门槛值与门槛值附近断口形貌和分形维数的关系。初步实验结果表明:分形维数基本上能反映断口粗糙度。发现门槛值随分形维数呈线性变化,门槛值、分形维数和粗糙度都随马氏体含量呈抛物线型变化。
陈道伦
王中光
姜晓霞
艾素华
师昌绪
关键词:
双相钢
疲劳断口
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