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陈力

作品数:17 被引量:25H指数:1
供职机构:中国科学院化学研究所更多>>
发文基金:国家科技重大专项更多>>
相关领域:理学电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 9篇专利
  • 7篇会议论文
  • 1篇期刊文章

领域

  • 4篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 13篇光刻
  • 12篇光刻胶
  • 7篇紫外光刻
  • 7篇极紫外
  • 5篇苯基
  • 4篇极紫外光刻
  • 3篇四苯基
  • 3篇化合物
  • 3篇分子
  • 3篇产气
  • 3篇产气量
  • 3篇超高真空
  • 2篇电子束光刻
  • 2篇多巴
  • 2篇压印光刻
  • 2篇真空
  • 2篇真空加热
  • 2篇生物质谱
  • 2篇酞菁
  • 2篇萘酞菁

机构

  • 17篇中国科学院

作者

  • 17篇陈力
  • 15篇杨国强
  • 15篇王双青
  • 11篇李沙瑜
  • 10篇许箭
  • 4篇胡睿
  • 4篇田凯军
  • 2篇陈军
  • 2篇王佳宁
  • 2篇聂宗秀
  • 2篇陈素明
  • 2篇陈芮
  • 2篇侯剑
  • 1篇熊磊

传媒

  • 2篇第十三届全国...
  • 2篇中国化学会第...
  • 1篇影像科学与光...

年份

  • 3篇2015
  • 9篇2013
  • 3篇2012
  • 2篇2011
17 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
高档光刻胶材料的分子结构
本文阐述了光刻技术及其光刻胶的发展过程,并对应用于193纳米光刻和下一代EUV光刻的光刻胶材料的分子结构进行了综述,特别对文献中EUV光刻胶材料的研发进行了较为详细的介绍,以期对我国高档光刻胶的研发工作有所帮助。
许箭陈力田凯军胡睿李沙瑜王双青杨国强
关键词:感光材料紫外光刻分子结构
含有较宽光限幅窗口的金属萘酞菁的光限幅增强作用
<正>设计合成了含有不同中心原子(Ga,In)的八-(4-叔丁基苯氧基)取代的萘酞菁,系统研究了其光物理性质和光限幅性质,与相应的金属酞菁相比,萘酞菁具有较高的三线态量子效率,较大的三线态基态消光系数差和较宽的光限幅窗口...
王双青陈力许箭陈军胡睿李沙瑜杨国强
关键词:光限幅酞菁萘酞菁
文献传递
极紫外(EUV)光刻胶超高真空热处理检测装置与方法
本发明涉及一种极紫外光刻胶超高真空加热处理的检测装置与方法,该装置操作简便,可以在实验室用于极紫外光刻胶配方工艺筛选,提供所考察的极紫外光刻胶的真空加热产气情况。利用本发明装置和检测方法,可以同时得到真空加热情况下产生气...
杨国强田凯军陈力王双青李沙瑜
文献传递
以四苯基呋喃、四苯基吡咯、四苯基噻吩和五苯基吡啶为核的分子玻璃光刻胶
本发明提供了通式(I)或(II)的以四苯基呋喃、四苯基吡咯、四苯基噻吩和五苯基吡啶为核的分子玻璃,以及以上述分子玻璃作为基体成分的光刻胶组合物,其包括:选自通式(I)或(II)中的一种或多种的基体成分、光致产酸剂、有机碱...
杨国强陈力许箭王双青李沙瑜
文献传递
含双酚A骨架结构的分子玻璃光刻胶及其制备方法和应用
本发明涉及一系列基于双酚A为主体结构的分子玻璃光刻胶(I和II)及其制备。将该分子玻璃光刻胶与光酸产生剂、交联剂、光刻胶溶剂和其他添加剂复配成正性或负性光刻胶,在硅片上通过旋涂法可制得厚度均匀的光刻胶涂层。该光刻胶配方可...
杨国强许箭陈力王双青李沙瑜
文献传递
含有较宽光限幅窗口的金属萘酞菁的光限幅增强作用
王双青陈力许箭陈军胡睿李沙瑜杨国强
关键词:光限幅酞菁萘酞菁
极紫外(EUV)光刻胶超高真空热处理检测装置与方法
本发明涉及一种极紫外光刻胶超高真空加热处理的检测装置与方法,该装置操作简便,可以在实验室用于极紫外光刻胶配方工艺筛选,提供所考察的极紫外光刻胶的真空加热产气情况。利用本发明装置和检测方法,可以同时得到真空加热情况下产生气...
杨国强田凯军陈力王双青李沙瑜
文献传递
以四苯基呋喃、四苯基吡咯、四苯基噻吩和五苯基吡啶为核的分子玻璃光刻胶
本发明提供了通式(I)或(II)的以四苯基呋喃、四苯基吡咯、四苯基噻吩和五苯基吡啶为核的分子玻璃,以及以上述分子玻璃作为基体成分的光刻胶组合物,其包括:选自通式(I)或(II)中的一种或多种的基体成分、光致产酸剂、有机碱...
杨国强陈力许箭王双青李沙瑜
文献传递
2,3,4,5-四(3’,4’-二羟基苯基)噻吩及其作为MALDI基质分析小分子的应用
本发明公开了2,3,4,5-四(3’,4’-二羟基苯基)噻吩及其作为MALDI基质的应用。以2,3,4,5-四(3’,4’-二羟基苯基)噻吩作为MALDI基质的分析方法适用于对m/z小于1000的小分子进行质谱分析。适合...
聂宗秀陈素明陈力陈芮王佳宁侯剑
文献传递
2,3,4,5-四苯基噻吩类化合物的合成及其在极紫外光刻中的应用
<正>新型的分子玻璃化合物由于其具有较小的分子量,单一的分子量分布,良好的成膜性、热稳定性,以及可忽略的分子链间的缠结,在高分辨率的光刻胶材料尤其是极紫外光刻中的光刻胶材料方面显示了优越的性能。1,2,3本工作介绍了一系...
陈力许剑王双青杨国强
关键词:极紫外光刻
文献传递
共2页<12>
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