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文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇理学
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇晶体
  • 4篇晶体生长
  • 2篇引上法
  • 2篇引上法晶体生...
  • 2篇提拉法
  • 2篇基片
  • 1篇提拉法生长
  • 1篇钆镓石榴石
  • 1篇固液
  • 1篇固液界面
  • 1篇高温超导
  • 1篇高温超导薄膜
  • 1篇GAN基LE...
  • 1篇GGG
  • 1篇LD
  • 1篇超导
  • 1篇超导薄膜

机构

  • 2篇中国科学院
  • 2篇合肥科晶材料...

作者

  • 4篇闫如顺
  • 2篇郭行安
  • 2篇陶德节
  • 2篇邾根祥
  • 2篇刘福云
  • 2篇杭寅
  • 2篇王军
  • 1篇殷绍唐

传媒

  • 3篇人工晶体学报
  • 1篇量子电子学报

年份

  • 2篇2003
  • 2篇1997
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
蓝色GaN基LED和LD单晶基片——MgAl_2O_4晶体生长被引量:1
1997年
近年来,国际上已研制成功GaN基蓝光LED和LD器件。为了获得高质量的GaN薄膜,必须要求基片材料具有良好的晶格匹配、优良的热稳定性和化学稳定性以及良好的机械性能等优点。MgAl2O4晶体是目前性能优良的GaN基片材料之一。我们采用中频感应加热提拉法生长MgAl2O4晶体,使用80×70mm的铱钳埚,拉速0.5~3mm/h,转速15~30r/min。针对MgAl2O4晶体高熔点(2130℃)和MgO易挥发的特性,设计了特殊的温场结构和原料合成工艺,已成功地生长出<111>取向、最大直径达45mm的MgAl2O4晶体,晶体无云层、无气泡、无孪晶、无开裂,质量优良。已提供给国内外有关单位使用,他们已在我们的MgAl2O4晶片上获得高质量的GaN膜,并研制成功蓝光LED和LD。
杭寅王军薛家恒闫如顺兰志成杨昭荣
关键词:基片引上法晶体生长
高温超导薄膜单晶基片——NdAlO_3晶体
1997年
NdAlO3晶体是一种新型的高温超导薄膜和LCMO巨磁阻膜基片材料,具有低的介电常数和介电损耗,与YBCO有良好的晶格匹配。与LaAlO3晶体(~500℃)相比,NdAlO3晶体具有相变温度高(>1500℃)的优点,这样,有利于YBCO薄膜的外延生长。我们采用感应加热提拉法生长NdAlO3晶体。铱坩锅尺寸60×55mm,拉速1~3mm/h,转速10~30r/min,气氛N2,第一次生长采用LaAlO3晶体作为籽晶,<001>方向生长,生长出尺寸达25×60mm的无云层、无气泡、无开裂、质量优良的NdAlO3晶体。
杭寅闫如顺王军薛家恒兰志成杨昭荣
关键词:基片引上法晶体生长超导薄膜
高温超导衬底材料SrLaAlO_4晶体的生长及特性被引量:1
2003年
用提拉法生长了不开裂的高温超导衬底材料SrLaAlO4晶体 ,晶体尺寸为(2 5~ 30 )mm× (5 0~ 6 0 )mm。该晶体具有K2 NiF4型结构 ,晶格常数为a =0 .375nm ,c=1.2 6 3nm。生长的晶体颜色随着生长时炉膛内氧气氛的含量的增加而逐渐加深。测量了晶体的室温下的介电常数及介电损耗分别为 2 0及 8× 10 -4。
陶德节闫如顺刘福云邾根祥郭行安
关键词:晶体生长提拉法
提拉法生长钆镓石榴石(GGG)晶体被引量:9
2003年
用提拉法生长出了优质的钆镓石榴石(Gd3Ga5O12)晶体,晶体尺寸达φ35 × 70mm。详细描述 了晶体生长工艺过程,讨论了生长气氛对及坩埚形状对晶体生长的影响。
陶德节邾根祥闫如顺刘福云郭行安殷绍唐
关键词:提拉法固液界面晶体生长
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