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段伟赞

作品数:4 被引量:14H指数:2
供职机构:哈尔滨工业大学材料科学与工程学院先进焊接与连接国家重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金教育部“新世纪优秀人才支持计划”更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇氮化
  • 2篇微观结构
  • 2篇ZRN
  • 2篇表面性能
  • 1篇氮化物
  • 1篇氮化锆薄膜
  • 1篇电特性
  • 1篇制备及性能
  • 1篇智能型
  • 1篇涂层
  • 1篇涂层测厚仪
  • 1篇球磨
  • 1篇自动化
  • 1篇自动化系
  • 1篇自动化系统
  • 1篇化物
  • 1篇溅射
  • 1篇功率
  • 1篇放电
  • 1篇放电特性

机构

  • 4篇哈尔滨工业大...

作者

  • 4篇段伟赞
  • 3篇田修波
  • 3篇巩春志
  • 2篇吴忠振
  • 2篇杨士勤
  • 1篇贾文攀
  • 1篇王泽明

传媒

  • 1篇自动化与仪表
  • 1篇材料研究学报
  • 1篇真空

年份

  • 1篇2011
  • 3篇2010
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
智能型涂层膜厚球磨测试仪研制被引量:1
2010年
球磨型涂层膜厚测试仪可以简单快速且低成本地测量涂层厚度,文中提出一种基于STC89C55单片机的智能型涂层膜厚球磨测试仪。控制系统以STC89C55单片机为控制核心,可以自动完成研磨剂的滴点,通过开关按钮实现球磨速度、球磨时间和研磨液点滴频率的调节。目前该仪器已在多个单位运行,应用结果表明所研制的仪器可快捷、准确地对涂层厚度进行检测。
段伟赞贾文攀王泽明巩春志田修波
关键词:涂层测厚仪自动化系统
高功率复合脉冲磁控溅射放电特性及氮化物薄膜制备
高功率复合脉冲磁控溅射(HHPPMS)技术,以其高的金属离化率,不含有大颗粒离子束,生成的薄膜结构致密,薄膜性能优异,成为国外研究的热点。 本文对高功率复合脉冲磁控溅射(HHPPMS)的放电特性进行了深入的研究,分别探讨...
段伟赞
关键词:放电特性TIN薄膜
文献传递
高功率脉冲磁控溅射ZrN纳米薄膜制备及性能研究被引量:7
2010年
采用高功率复合脉冲磁控溅射的方法(HPPMS)在不锈钢基体上制备ZrN纳米薄膜,并研究了不同的工作气压对薄膜形貌、相结构及各种性能的影响。采用SEM、XRD对其表面形貌和结构进行分析,发现制备的薄膜表面光滑、致密,无大颗粒,主要以ZrN(111)和ZrN(220)晶面择优生长,并呈现出多晶面竞相生长的现象。对薄膜硬度、弹性模量、耐磨性和耐腐蚀性的测试发现薄膜具有很高的硬度,最高可达33.1 GPa,同时摩擦系数均小于0.2,耐腐蚀性也都有很大提高,腐蚀电位比基体提高了0.28 V,腐蚀电流下降到未处理工件的1/5。工作气压较低时,薄膜耐磨耐蚀性能都较好,但在较高气压时,耐磨耐蚀性能出现一定的下降。
吴忠振田修波段伟赞巩春志杨士勤
关键词:材料表面与界面微观结构表面性能
高功率脉冲磁控溅射氩氮比对ZrN薄膜结构及性能的影响被引量:2
2011年
采用高功率复合脉冲磁控溅射的方法(HPPMS)在不锈钢基体上制备ZrN薄膜,对比DCMS方法制备的ZrN薄膜,得出HPPMS制备的薄膜表面更平整光滑、致密,既无空洞、又无大颗粒等缺陷。Ar/N对薄膜相结构及硬度、耐磨耐蚀等有较大影响。XRD结果显示,薄膜主要以ZrN(111)和ZrN(220)晶面择优生长,并呈现出多晶面竞相生长的现象。制备的ZrN薄膜的硬度最高可达33.1 GPa,同时摩擦系数小于0.2,耐腐蚀性也有很大提高,腐蚀电位比基体提高了0.27 V,腐蚀电流下降到未处理工件的1/5。存在一个合适的Ar/N比,使得制备的ZrN薄膜具有较好的耐磨性和耐腐蚀性。
吴忠振田修波段伟赞巩春志杨士勤
关键词:氮化锆薄膜微观结构表面性能
共1页<1>
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