杨文华
- 作品数：27 被引量：10H指数：2
- 供职机构：沈阳仪表科学研究院有限公司更多>>
- 相关领域：理学电气工程一般工业技术自动化与计算机技术更多>>
- 切趾变密度滤光片
- 本发明属光学元件领域，尤其涉及一种用于消除边缘杂散光或调整光源强度分布的切趾变密度滤光片，所述切趾变密度滤光片膜层厚度沿中心轴或对称轴对称分布，其透射率符合切趾函数；所述切趾变密度滤光片的几何形状为圆形或方形；所述切趾变...
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- 一种折射率匹配的消偏振膜系
- 本发明涉及光学薄膜领域，尤其涉及一种折射率匹配的消偏振膜系，是以三种材料的消偏振膜系S|(αHβLγMβLαH)^<Sup>n</Sup>|A为基础，根据折射率匹配原理，通过采用匹配膜堆(aHbLaH)替代原有的γM膜层...
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- 变密度滤光片旋转测试装置
- 本发明属密度片测试领域，尤其涉及一种变密度滤光片旋转测试装置，包括多维光纤调整器（1）、光纤准直器支架（2）、步进电机（3）、步进电机支架（4）及升降台（5）；所述步进电机（3）固定设于步进电机支架（4）之上；所述升降台...
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- 光通讯用低PDL线性渐变衰减滤光片被引量：2
- 2008年
- 计算了渐变衰减滤光片的偏振相关损耗,分析了镀膜工艺对偏振相关损耗的影响,提出了降低偏振相关损耗的方法。采用线性迭代修正法和膜厚分布可调控制技术,提高了渐变衰减滤光片的线性度。制造出线性度小于5%、偏振相关损耗小于0.08dB的高性能渐变衰减滤光片。
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- 关键词：线性度偏振相关损耗
- 透射率线性渐变的中性密度滤光片
- 本实用新型属能量分光元件领域，尤其涉及一种透射率线性渐变的中性密度滤光片，它包括基片本体(1)；在所述基片本体(1)上镀有薄膜层(2)；在所述基片本体(1)的中心部位设有安装孔(3)；在所述安装孔(3)的外周设有第一空白...
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- 等离子源防护装置
- 本实用新型属镀膜机附属配件领域，尤其涉及一种等离子源防护装置，包括底层防护套（1）及上侧面防护套（2）；所述底层防护套（1）的底部外延固定设有缝隙遮挡环板（101）；所述上侧面防护套（2）与底层防护套（1）活动套接；在所...
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- 多段线性渐变密度滤光片的加工方法
- 本发明属光学薄膜元件领域，尤其涉及一种多段线性渐变密度滤光片的加工方法。在透明玻璃基片(101)上沉积衰减膜(102)；在沉积衰减膜(102)过程中，采用以光密度渐变方式实现由空白区段到深区段的逐渐沉积过渡，并且在沉积过...
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- 多工位渐变薄膜镀制设备
- 本发明属真空镀膜设备领域，尤其涉及一种多工位渐变薄膜镀制设备，它包括驱动模块、基板(8)、工件盘(7)、掩膜机构(10)及均匀机构(11)；所述工件盘(7)位于基板(8)之上；所述工件盘(7)可绕其轴心旋转，其与基板(8...
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- 真空度对Ni80Cr20薄膜中性度的影响被引量：2
- 2017年
- 理论计算了Ni、Cr和Ni80Cr20三种材料的光学特性,确定了镍铬成份变化对Ni80Cr20的影响。在高低两个真空度条件下采用电子枪蒸发工艺进行了Ni80Cr20的镀膜实验,结果表明,低真空度时"薄"膜的中性度较好,而高真空度时"厚"膜中性度较好。采用X射线能谱分析发现"薄"膜铬含量高于膜料,而"厚"膜更高,高真空度薄膜略有氧化,而低真空度氧化更严重。从残余气体和蒸发方式方面分析了镍铬成份差异的原因,再结合氧化对薄膜特性的影响,确定了不同真空度薄膜中性度差异的原因。
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- 关键词：镍铬合金电子枪蒸发分馏
- 基于磁控溅射技术制备高精密波长渐变滤光片的方法及其采用的装置
- 本发明属滤光片制备领域，尤其涉及一种基于磁控溅射技术制备高精密波长渐变滤光片的方法及其采用的装置，系将滤光片基底固定在圆形平板状且能绕自身中心轴快速旋转的工件盘的上表面，使滤光片基底的镀膜面朝上，然后高速旋转工件盘；依据...
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