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李学超

作品数:6 被引量:20H指数:4
供职机构:江苏大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学机械工程更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇机械工程
  • 2篇一般工业技术
  • 2篇理学

主题

  • 5篇摩擦学
  • 5篇溅射
  • 5篇磁控
  • 4篇磁控溅射
  • 3篇反应磁控溅射
  • 2篇摩擦学性能
  • 2篇XN
  • 2篇W
  • 1篇形状记忆
  • 1篇形状记忆合金
  • 1篇性能研究
  • 1篇铁磁
  • 1篇铁磁形状记忆...
  • 1篇微纳米材料
  • 1篇摩擦磨损性能
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米材料
  • 1篇记忆合金
  • 1篇溅射法
  • 1篇溅射法制备

机构

  • 5篇江苏大学
  • 1篇东南大学

作者

  • 6篇李学超
  • 5篇李长生
  • 2篇张晔
  • 2篇孙建
  • 2篇金岚
  • 2篇朱秉莹
  • 2篇丁建
  • 1篇莫超超
  • 1篇晋跃
  • 1篇唐华
  • 1篇陈娟
  • 1篇张叶

传媒

  • 3篇真空科学与技...
  • 1篇摩擦学学报(...
  • 1篇材料科学与工...

年份

  • 3篇2010
  • 3篇2009
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
磁控溅射Ti_(1-x)Al_xN薄膜的结构与摩擦学性能研究被引量:4
2009年
采用双靶反应磁控溅射的方法,通过改变基体相对于靶材的位置制备了一系列不同化学成分的TiAlN薄膜.用SEM,AFM,EDS,XRD等检测手段对薄膜的表面状态,如粗糙度、化学成分及结构等进行了表征,采用UMT-3型多功能摩擦磨损试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对不同成分TiAlN薄膜的摩擦学性能进行了评价.试验结果表明:薄膜的化学成分伴随着位置的改变在Ti0.82Al0.18N和Ti0.12Al0.88N的范围内发生变化;在700℃经1h的退火以后不同位置制备的薄膜先后出现了TiN,Ti2AlN,TiN0.30AlN,TiAlN等多种物相结构;表面粗糙度和形貌的试验结果表明了不同薄膜在不同位置的生长方式也不同;x值在0.57及0.65的薄膜具有高硬度、低粗糙度,并在摩擦过程中形成了摩擦转移膜,从而导致薄膜具有最佳的摩擦学性能.
张晔李长生李学超
关键词:TIALN薄膜反应磁控溅射
磁控溅射Ti-Al-N和W-Ti-N薄膜的制备及摩擦学性能研究
Ti-Al-N和W-Ti-N金属间化合物均是典型的硬质薄膜,且具有很好的抗氧化性、良好的耐磨性,因而受到广泛的关注。磁控溅射制备Ti-Al-N和W-Ti-N薄膜薄膜过程中,通过改变基体位置可以方便地控制薄膜的化学成分,使...
李学超
文献传递
磁控溅射W_(1-x)Ti_xN薄膜的结构与摩擦学性能研究被引量:4
2010年
采用双靶反应磁控溅射的方法,通过改变基体相对于靶材的位置制备了一系列不同化学成分的W1-xTixN薄膜。用X射线衍射仪,扫描电子显微镜,能量散色谱等检测手段对薄膜的表面状态,化学成分以及结构等进行了表征,采用UMT-3型多功能摩擦磨损试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对不同成分WTiN薄膜的摩擦学性能进行了评价。试验结果表明:薄膜的化学成分伴随着位置的改变在W0.80Ti0.20N和W0.18Ti0.82N的范围内发生变化;在经历了800℃,1 h的退火以后不同位置制备的薄膜先后出现了TiN,TiN0.6O0.4,W2N,W等多种物相结构;随着Ti含量的增加,薄膜的纳米硬度最高可达29.8 GPa,弹性模量最高可达277.5 GPa。一系列摩擦数据显示x=0.52的薄膜在所制备的WTiN薄膜体系中拥有最佳的摩擦学性能。
李学超李长生莫超超丁建朱秉莹
关键词:反应磁控溅射摩擦磨损性能
磁控溅射法制备铁磁形状记忆合金Ni-Mn-Ga薄膜的力学性能研究被引量:6
2009年
Ni-Mn-Ga是一种磁致伸缩材料、它兼具形状记忆效应和磁致伸缩效应等多种功能特点,具有响应频率高,变相量大的优点。而PbZrTiO3(PZT)是一种压电陶瓷,具有力-电转换的功能,而且也具有较高的响应频率。为实现磁-力-电的快速转换,本文使用ECR磁控溅射方法在PZT压电陶瓷片上制备出了Ni-Mn-Ga薄膜。并研究了不同溅射功率和热处理条件对薄膜的组织形貌、成分、表面粗糙度及薄膜硬度的影响。SEM断面形貌显示Ni-Mn-Ga薄膜为柱状生长模式;AFM三维形貌显示Ni-Mn-Ga薄膜生长致密,表面粗糙度随着溅射功率的增大而增大;Ni-Mn-Ga薄膜的硬度和弹性模量随退火温度的升高而增大。
金岚李长生张晔孙建李学超
关键词:NI-MN-GA形状记忆合金ECR
磁控溅射MoS_2/WS_2复合薄膜的工艺与摩擦学性能研究被引量:8
2009年
采用MoS2/WS2复合靶材在不锈钢和硅基片上溅射MoS2/WS2纳米薄膜,通过多次实验,得到溅射MoS2/WS2薄膜的最佳工艺如下:溅射气压4.0Pa,靶基距为70mm,溅射功率为150W,溅射时间为3h。使用X-射线衍射仪,能谱仪,扫描电子显微镜对薄膜的成分和结构进行分析。采用HH-3000薄膜结合强度划痕试验仪,纳米压痕测试系统,UNT-3摩擦磨损试验机对薄膜进行机械性能和摩擦磨损性能分析,结果表明:在大气环境中,WS2/MoS2复合薄膜摩擦性能要优于纯MoS2薄膜。
孙建李长生金岚唐华张叶李学超
NbSe_x微纳米材料的制备及其摩擦学性能
2010年
利用固相法合成得到纤维状和片层状两种不同形态的NbSex微纳米材料。利用XRD,SEM,TEM,HRTEM等检测手段对得到的产物进行了表征,结果表明,提高温度有利于NbSex的结晶;温度较低时容易得到纤维状微纳米材料,直径100~300nm,长度为几十微米;随着温度的升高,微纳米纤维逐渐消失而形成六边形状的片层结构,尺寸在10μm左右。利用UMT-2摩擦试验机进行了微纳米材料作为HVI500基础油添加剂的摩擦学性能的初步研究,结果表明,NbSex微纳米材料极大地改善了基础油的减摩性能,且片层状的NbSe2具有较好的减摩性能。
丁建李长生晋跃陈娟朱秉莹李学超
关键词:微纳米材料固相合成摩擦学性能
共1页<1>
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