晋玉剑
- 作品数：9 被引量：44H指数：3
- 供职机构：中北大学电子与计算机科学技术学院电子测试技术国家重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划年山西省研究生优秀创新项目更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>
- 基于CPLD的PIC32单片机大容量存储系统设计被引量：2
- 2011年
- 设计了以CPLD为存储控制单元的PIC32单片机大容量Flash存储系统。介绍了系统的组成方案、硬件接口电路以及CPLD控制单元模块化的设计思路,并在QuartusII 9.0软件环境下对系统设计进行仿真验证。最后得到的时序仿真波形证明了系统设计方案的正确性与可行性。
- 杨晓明李永红晋玉剑王恩怀
- 关键词：PIC32单片机闪存复杂可编程逻辑器件
- 一种基于光波导微环谐振腔的全光逻辑门及其逻辑运算方法
- 本发明提供了一种基于光波导微环谐振腔的全光逻辑门，包括一个可输入信号光脉冲和控制光脉冲的光波导(1)，一个光波导微环谐振腔(2)，衬底(3)，缓冲层(4)以及与所述光波导(1)相连的入射光纤(5)及出射光纤(6)；其中所...
- 薛晨阳朱平崔丹凤臧俊斌韦丽萍王永华晋玉剑仝小刚
- 文献传递
- 垂直纳米光栅耦合器耦合效率分析与测试被引量：5
- 2011年
- 介绍了基于SOI纳米光栅耦合器的理论研究及测试方法,系统研究了光栅参数对光栅耦合效率的影响,在占空比为1∶1的基础上,对不同光栅槽深作了相应的理论分析,同时,还对不同角度的入射光作了相应的研究,经过仿真在入射角为10°时,对于波长为1 550 nm的入射光其耦合效率最高。除此之外,通过在光栅表面添加增透膜使其耦合效率在理论上提高至76%以上,并实验验证了增透膜可以有效的降低输入光场的端面反射及波导表面散射,增强了输出光效率。采用聚焦离子束方法(FIB)在10μm宽的硅波导上加工了纳米光栅结构,利用单模NewFocus可调谐激光器(1 520～1 570 nm)作为激发光源,对单模光纤与硅波导光栅进行垂直耦合,得到1 dB带宽近似为30 nm,耦合效率约为32%。
- 崔丹凤薛晨阳仝小刚晋玉剑宛克敬张文栋
- 关键词：增透膜单模光纤绝缘体上硅
- 光纤与光波导芯片高效垂直耦合互连的封装方法
- 本发明公开了一种光纤与光波导芯片高效垂直耦合互连的封装方法，其包括以下步骤：制备出硅基纳米波导光栅，并应用扫描电镜对硅基纳米波导光栅进行扫描；准备好低折射率固化封装材料；制备单模光纤；在硅基纳米波导光栅的表面涂覆光学增透...
- 苏淑靖焦新泉薛晨阳臧俊斌闫树斌张文栋仝晓刚晋玉剑王景雪崔丹凤韦丽萍王永华田学东
- 文献传递
- 经典功率谱估计Welch法的MATLAB仿真分析被引量：31
- 2011年
- 周期图法是经典功率谱估计中的一种基本方法,但是在实际应用中难以同时保证良好的分辨力和方差性能。因此本文以周期图法原理为切入点,对改进后的Welch算法进行研究,并借助MATLAB软件强大的信号处理与数值分析能力,对Welch算法的谱估计分辨力、方差等性能进行仿真分析。讨论了不同数据分段长度、不同窗函数类型等因素对算法性能产生的影响。仿真结果表明,Welch算法由于合理的引入数据分段和窗函数,得到了较好的方差性能以及分辨能力,但在对短数据进行功率谱估计时还有一定的局限性。
- 杨晓明晋玉剑李永红
- 关键词：WELCH法MATLAB仿真
- 基于SOI光波导的损耗测试与优化
- 2014年
- 利用电子束光刻技术,制备了带有氧化硅包层的SOI光波导结构,对其传输模态及损耗进行了详细的理论分析,并分别对波导的传输损耗和耦合损耗进行了测试.测试结果验证了单模传输模态时的传输损耗较低,在波导层上添加覆盖层可以将波导传输损耗降低至3.96dB/cm,利用光栅垂直耦合可以大大降低光纤-波导的耦合损耗,耦合效率可以达到32.7%.
- 崔丹凤谢成峰晋玉剑刘耀英李艳娜韦丽萍王永华刘俊薛晨阳
- 关键词：传输损耗弯曲损耗光栅
- 纳米光波导表面粗糙度与散射损耗的分析与测试被引量：1
- 2013年
- 针对目前纳米光波导传输中散射损耗严重的问题,详细分析了表面粗糙度与波导宽度对散射损耗的影响,给出了清晰的对应关系图。设计并采用MEMS工艺制备出纳米光波导结构,在此基础上对波导结构进行了表面粗糙度的测试,进一步提出采用高温热处理方法使波导表面粗糙度降低了3 nm左右。实验发现:高温热处理后的光波导结构其散射损耗降低到3.343 dB/cm。
- 臧俊斌薛晨阳晋玉剑仝晓刚韦丽萍刘超
- 关键词：散射损耗微机电系统表面粗糙度
- SOI集成光波导的制备及传输特性研究
- 由于传统的电子器件无法满足当今社会对信息传输容量大、速率高的要求，光波导技术应运而生，并成为实现光电集成和光子器件最具潜力的基础结构。SOI光波导具有单晶硅材料的优势，又具有高折射率对比度，同时与 CMOS工艺完全兼容。...
- 晋玉剑
- 关键词：光电器件紫外光刻等离子刻蚀传输损耗
- 高Q值环形波导微谐振腔研究进展被引量：4
- 2011年
- 基于高Q值环形波导微谐振腔和微加工工艺的微光机电器件及系统是当前微纳制造科学和量子光学技术领域的研究热点。主要分析了环形波导微谐振腔的物理作用及应用价值,系统综述了环形波导微谐振腔Q值的测量方法,重点讨论了硅基环形波导微谐振腔Q值的影响因素,从材料、结构设计、加工工艺方面分析了提高环形波导微谐振腔Q值的技术途径,指出了当前高Q值环形波导微谐振腔研究存在的技术瓶颈问题,并展望了未来的发展趋势。
- 晋玉剑薛晨阳丑修建刘俊张文栋
- 关键词：微谐振腔高Q值微光机电系统
