2024年12月4日
星期三
|
欢迎来到维普•公共文化服务平台
登录
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
刘惠珍
作品数:
3
被引量:0
H指数:0
供职机构:
中国科学院上海原子核研究所
更多>>
相关领域:
理学
核科学技术
更多>>
合作作者
朱福英
中国科学院上海原子核研究所上海...
曹德新
中国科学院上海原子核研究所上海...
朱德彰
中国科学院上海原子核研究所上海...
周馥
中国科学院上海原子核研究所
沈浩元
中国科学院上海原子核研究所上海...
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
2篇
期刊文章
1篇
会议论文
领域
2篇
理学
1篇
核科学技术
主题
2篇
硅
1篇
单晶
1篇
等离子体
1篇
等离子体聚合
1篇
有机膜
1篇
砷化镓
1篇
砷化镓单晶
1篇
探测器
1篇
离子
1篇
离子注入
1篇
沟道
1篇
改性
1篇
PIXE
1篇
超薄
机构
3篇
中国科学院
作者
3篇
刘惠珍
2篇
朱德彰
2篇
曹德新
2篇
朱福英
1篇
吴美珍
1篇
浦世节
1篇
童志深
1篇
浦天舒
1篇
沈浩元
1篇
周馥
传媒
1篇
核技术
1篇
高分子材料科...
年份
2篇
1994
1篇
1991
共
3
条 记 录,以下是 1-3
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
用RBS沟道和PIXE沟道相结合研究硅注入砷化镓单晶
GaAs(100)单晶液氮温度下注入能量为48 KeV,剂量为3E15和5E1s Si/cm的硅。用 RBS-C 和 PIXE-C 来分析砷化镓中离子注入损伤和硅在材料中的位置和替位率。这两种方法同时测量弥补了单一方法的...
曹德新
刘惠珍
朱福英
朱德彰
文献传递
超薄窗Si(Li)探测器在实验中的应用
1994年
用超薄窗Si(Li)探测器测量低能X射线,将传统的PIXE谱测量范围推广到如Si、Al、Na等低原子序数元素。还对超薄窗Si(Li)探测器的具体应用作了描述。
刘惠珍
朱福英
朱德彰
曹德新
沈浩元
浦世节
关键词:
探测器
硅
等离子体聚合有机膜的离子注入改性
1994年
以苯胺为单体在等离子体条件下进行聚合,测量所合成的有机膜经100keV、5×1015cm ̄(-2)Ar ̄+注入后电阻率的变化,并用FTIR、XPS和核分析方法对离子注入引起的结构和成分改变进行了探讨。结果表明,在等离子体环境下,聚合膜内仍含有大量环结构。由于Ar ̄+的注入,聚合膜表面损伤而碳化,使注入层内的体电阻率降低11个数量级。
童志深
周馥
吴美珍
浦天舒
刘惠珍
关键词:
等离子体
离子注入
改性
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张