赵新民
- 作品数：3 被引量：29H指数：3
- 供职机构：苏州大学物理科学与技术学院（能源学院）物理学系更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术更多>>
- 外加磁场对磁控溅射靶利用率的影响被引量：18
- 2003年
- 通过在基片上直接放置一块永久磁铁来研究外加磁场对磁控溅射靶利用率的影响。实验发现 ,外加磁场的引入改变了靶表面附近的磁场分布 ,因而靶的刻蚀环的位置、宽度和深度均发生了明显的变化 ,靶的利用率在S S构型和S N构型中均比无外加磁场时要高。利用空间模拟磁场成功的解释这一实验现象。在S S构型和S N构型中 ,后者靶的刻蚀深度轮廓线比较平坦 ,相对刻蚀深度值更大 。
- 赵新民狄国庆朱炎
- 关键词：磁控溅射靶利用率外加磁场磁控溅射等离子体模拟磁场
- 基片下磁场磁控对溅射辉光及薄膜梯度的影响被引量：6
- 2004年
- 溅射时在基片下方放置磁铁 ,让来自基片下方的磁场发挥磁控作用 ,以此来研究基片下磁场磁控溅射的方法 .发现辉光形貌以及沉积的薄膜厚度分布均发生明显变化的同时 ,辉光的外形也随着外加磁铁直径的变化而变化 .运用磁荷理论对空间磁场分布进行模拟 ,解释了辉光形貌变化的机理 ;运用沉积粒子在外加梯度磁场中运动理论解释了膜厚分布 .
- 赵新民狄国庆
- 关键词：磁控溅射薄膜生长磁矩磁场强度
- 基片下外加磁场磁控溅射方法的研究
- 该论文研究了通过外加磁场进行磁控溅射的方法,就是将靶内磁场屏蔽,在基片下放置磁铁,让来自基片下的磁场发挥磁控作用,这样,磁控效果不会因靶材性质而受到明显影响.与此同时,沉积薄膜的过程中发生了明显变化.实验中观察到,在外在...
- 赵新民
- 关键词：磁控溅射
- 文献传递
