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程万君

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：黑龙江大学物理系更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇真空镀膜
  • 1篇相变
  • 1篇离子束
  • 1篇离子束辅助
  • 1篇金属硅化物
  • 1篇硅化物
  • 1篇SI

机构

  • 1篇黑龙江大学

作者

  • 1篇邱安平
  • 1篇程万君

传媒

  • 1篇黑龙江电子技...

年份

  • 1篇1999
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
离子束辅助淀积条件下Cu/Si系统相变化研究
1999年
研究在离子束条件下，硅基底上淀积金属薄膜，并研究其界面结构及退火条件下金属硅化物的形成和变化特点。
邱安平程万君
关键词：离子束金属硅化物相变真空镀膜
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