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杨良民

作品数:9 被引量:10H指数:3
供职机构:中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家攀登计划更多>>
相关领域:电子电信机械工程更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 3篇会议论文
  • 2篇专利

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇机械工程

主题

  • 3篇光刻
  • 2篇电路
  • 2篇微机械
  • 2篇接近式光刻
  • 2篇集成电路
  • 2篇光刻分辨率
  • 1篇电路工艺
  • 1篇调节器
  • 1篇性能分析
  • 1篇掩模
  • 1篇掩膜
  • 1篇衍射
  • 1篇衍射效应
  • 1篇仪器
  • 1篇照明
  • 1篇折射角
  • 1篇折射率
  • 1篇针尖
  • 1篇熔炼
  • 1篇熔炼炉

机构

  • 9篇中国科学院上...
  • 1篇同济大学

作者

  • 9篇杨良民
  • 7篇路敦武
  • 6篇黄惠杰
  • 3篇沈蓓军
  • 3篇杜龙龙
  • 3篇赵永凯
  • 2篇王润文
  • 2篇蒋宝财
  • 2篇袁才来
  • 1篇刘增水
  • 1篇任冰燕
  • 1篇程兆谷
  • 1篇何伟
  • 1篇邹海兴
  • 1篇丁生华

传媒

  • 2篇光学精密工程
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇微细加工技术
  • 1篇第十一届全国...
  • 1篇1988年全...
  • 1篇全国第一届精...

年份

  • 1篇2002
  • 2篇2001
  • 1篇1999
  • 1篇1998
  • 1篇1997
  • 1篇1994
  • 1篇1988
  • 1篇1986
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
组装微构件吸附用玻璃针尖规范化加工工艺研究被引量:3
1997年
建立了组装微构件吸附用玻璃针尖规范化加工装置,研究了有特定要求吸附针尖的规范化加工工艺,对得到的结果进行了分析和讨论。
路敦武黄惠杰沈蓓军杨良民刘增水何伟
关键词:微机械机械加工工艺
接近式光刻中嵌入式掩模改善光刻分辨率的模拟与分析
本文根据菲涅尔-基尔霍夫衍射公式对EAM技术进行了模拟计算,推导出了采用EAM技术时硅片表面的光强分布,分析了EAM技术的实用条件及改善光刻分辨率的效果和应用前景.
赵永凯黄惠杰路敦武杜龙龙杨良民袁才来蒋宝财王润文
关键词:接近式光刻光刻分辨率
文献传递
接近式光刻中斜照明改善分辨率的模拟与分析被引量:4
2001年
根据菲涅尔 基尔霍夫衍射公式 ,推导出斜照明接近式光刻系统中硅片表面的光强分布 ,并在几种条件下进行了模拟数值计算 ,分析了斜照技术的实用条件及改善光刻分辨率的效果和应用前景。
赵永凯黄惠杰路敦武杜龙龙杨良民袁才来蒋宝财王润文
关键词:接近式光刻准分子激光光刻分辨率
掩模工作台精密微调机构的分析
杨良民
关键词:集成电路工艺工作台(机床)掩膜大规模集成电路
CDMS-1型电视线宽测量仪设计与检测
1994年
本文介绍了中科院上海光机所研制的CDMS一1型电视线宽测量系统设计及检测。线宽测量技术主要用于集成电路生产的在线测量,以及掩模制造中的质量控制,CDMS一1型电视线宽测量仪利用计算机对集成电路图像进行数字处理,从而保证了仪器测量精度。经检测表明该系统的各项测试指标均达到原设计要求。
沈蓓军丁生华邹海兴路敦武杨良民
关键词:线宽测量光学计量仪器集成电路
耐高温变焦距电视摄像镜头
一种耐高温变焦距电视摄像镜头,主要适用于大型燃油、燃煤、燃气锅炉、玻璃熔炼炉或者化学反应炉内部燃烧状况的实时监视。它含有镜筒,在镜筒内从前至后依次装有物镜头,由两透镜中间夹有可变光阑构成的定倍转像镜组,由置于圆筒内的补偿...
黄惠杰路敦武杨良民
文献传递
提高光刻分辨率的方法
一种提高光刻分辨率的方法,在接近或接触式光刻的掩模板上的铬膜图案中的空气间隙内和在掩模板铬膜与硅片上光刻胶层之间的空气层隙内,填充折射率大于掩模板基片折射率的透明材料。并对空气层隙内与光刻胶层相接触的透明材料层的表面进行...
赵永凯黄惠杰任冰燕杜龙龙程兆谷路敦武杨良民
文献传递
积木式精密调正架设计
杨良民
关键词:性能分析调节器
几种微机械系统组装技术被引量:3
1998年
简要讨论了微机械系统的三种组装技术,即玻璃吸附针尖、微夹钳和具有人手功能的微机械手。把第一、二种技术有机结合是满足目前微机械系统组装需求的有效捷径。
路敦武黄惠杰沈蓓军杨良民
关键词:微机械
共1页<1>
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