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朱海

作品数：6 被引量：7H指数：2
供职机构：上海化工研究院更多>>
发文基金：上海市科委科技攻关项目更多>>
相关领域：金属学及工艺化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 2篇专利

领域

  • 2篇化学工程
  • 2篇金属学及工艺

主题

  • 6篇电化学抛光
  • 6篇抛光
  • 6篇化学抛光
  • 4篇导体
  • 4篇涂层导体
  • 3篇均匀设计
  • 3篇W
  • 2篇原子力显微镜
  • 2篇织构
  • 2篇晶界
  • 2篇基带
  • 2篇NI
  • 1篇阳极
  • 1篇阳极极化
  • 1篇乙醇
  • 1篇乙醇脱水
  • 1篇脱水
  • 1篇立方织构
  • 1篇工艺优化研究
  • 1篇YBCO涂层...

机构

  • 6篇上海化工研究...

作者

  • 6篇韩婕
  • 6篇彭东辉
  • 6篇朱海
  • 5篇吴向阳
  • 5篇徐静安
  • 4篇李志刚
  • 3篇韩坤

传媒

  • 2篇电镀与精饰
  • 2篇化工机械

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2015
  • 3篇2014
  • 1篇2013
共 6 条 记 录，以下是 1-6
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排序方式：
Ni-5at.%W合金基带阳极极化行为的研究被引量：1
2014年
研究了Ni-5at.%W合金基带在磷酸-硫酸及有机添加剂体系中的阳极极化行为。结合扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)分析,对不同阳极极化电位区间基带表面微观形貌和相组成进行了讨论。在低电位区,电极上主要析出的是Ni(OH)2、Ni3(PO4)2及NiSO4晶体层;在高电位区,电极表面主要形成的是Ni2O3高价氧化物膜。
彭东辉朱海韩婕李志刚
关键词：超导阳极极化电化学抛光
国产Ni-5%W合金基带电化学抛光工艺优化研究被引量：2
2015年
采用均匀实验设计方法,研究了Ni-5%W合金基带在磷酸-硫酸及添加剂体系中的电化学抛光工艺条件,利用DPS(Data Processing System)软件对抛光工艺进行逐步回归优化,同时根据回归后的特征方程组进行实验验证,并用金相显微镜、原子力显微镜对基带表面形貌进行表征。结果表明,通过两次回归拟合,在25μm×25μm范围内,基带表面均方根粗糙度可降低到3 nm以下,且实验值与预报值相对误差为2.36%。
李志刚朱海韩坤韩婕吴向阳彭东辉徐静安
关键词：均匀设计电化学抛光
Ni-5%W合金基带的电化学抛光被引量：3
2014年
为改善Ni-5%W合金基带表面质量,以磷酸-硫酸和添加剂为电解液,采用均匀实验设计方法进行电解抛光,利用原子力显微镜对样品表面形貌进行表征,并用DPS(Data Process System)软件对抛光结果进行逐步回归优化。结果表明,在室温下,采用磷酸(85%)、硫酸(98%)和有机添加剂,以体积比为4∶3∶3的抛光液抛光效果较好,抛光后基带表面均方根粗糙度在25μm×25μm范围内可降低到5nm以下。
朱海吴向阳彭东辉韩婕徐静安
关键词：涂层导体电化学抛光均匀设计
涂层导体Ni-5at.%W合金基带的电化学抛光方法
本发明涉及涂层导体Ni-5at.％W合金基带的电化学抛光方法，以Ni-5at.％W合金基带作为阳极，以纯镍片作为阴极，将Ni-5at.％W合金基带在静态下浸渍于电解抛光液中，开启电源对Ni-5at.％W合金基带进行抛光处...
彭东辉朱海韩婕吴向阳徐静安李志刚韩坤
文献传递
涂层导体Ni-5at.％W合金基带的电化学抛光方法
本发明涉及涂层导体Ni-5at.％W合金基带的电化学抛光方法，以Ni-5at.％W合金基带作为阳极，以纯镍片作为阴极，将Ni-5at.％W合金基带在静态下浸渍于电解抛光液中，开启电源对Ni-5at.％W合金基带进行抛光处...
彭东辉朱海韩婕吴向阳徐静安李志刚韩坤
文献传递
YBCO涂层导体用哈氏合金C-276基带电化学抛光被引量：2
2014年
为改善哈氏合金C-276基带表面质量,以磷酸-硫酸及添加剂体系作为电解抛光液,采用均匀实验设计方法,对基带进行电解抛光试验,利用原子力显微镜(AFM)对样品表面形貌进行表征,并用DPS(Data Processing System)软件对抛光工艺进行逐步回归优化。优化结果表明,在室温下,采用磷酸(85%)、硫酸(98%)体积比为27∶50及适量比例添加剂组成的电解液抛光效果较好,抛光后基带表面均方根粗糙度(Rms)在25μm×25μm范围内可降低到10nm以下。
朱海吴向阳彭东辉韩婕徐静安
关键词：涂层导体基带电化学抛光均匀设计
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