朱小华
- 作品数：7 被引量：18H指数：3
- 供职机构：安徽工业大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信金属学及工艺化学工程理学更多>>
- 一种用于固结磨料抛光垫的纳米金刚石-高分子复合磨料
- 本发明提供一种制备金刚石-高分子复合磨料的制备方法，复合磨粒的内核为通过机械粉碎法，爆炸合成法或静压法制备得到的金刚石粉体，其粒径范围在1～100nm，上述粉体作为内核通过硅烷偶联剂改性形成中间过渡层，最后用环氧树脂和聚...
- 储向峰乔红斌董永平张王兵陈同云汤丽娟朱小华
- 文献传递
- 共沉淀法制备铬酸钬粉体及铬酸钬气敏元件的气敏性能
- 2012年
- 采用共沉淀法制备HoCrO3前驱体,将前驱体在不同条件下热处理得到铬酸钬纳米粉体。利用X射线衍射仪和扫描电子显微镜对HoCrO3纳米粉体的晶体结构和微观形貌进行了表征,对用HoCrO3纳米粉制作的元件进行气敏性能测试,研究了热处理条件对HoCrO3气敏元件气敏性能的影响。结果表明:所制备的HoCrO3粉体为纳米颗粒,平均粒径约为50nm,属于钙钛矿型复合氧化物;采用800℃保温2h制备的HoCrO3气敏元件对三甲胺气体具有较高的灵敏度、良好的选择性和稳定性;样品的检测限较低,对体积分数为1×10–7三甲胺的灵敏度为3。HoCrO3是检测三甲胺的一种很有应用前景的半导体气敏材料。
- 储向峰朱小华葛秀涛董永平陈同云叶明富
- 关键词：三甲胺气敏性能共沉淀法
- Cu^(2+)掺杂ZnO纳米棒的制备及气敏性能研究被引量：4
- 2012年
- 通过溶剂热法(无水乙醇)制备了Cu2+(0～6mol%)掺杂ZnO纳米棒粉体,采用X射线衍射仪和扫描电镜对掺杂ZnO纳米粉体的晶体结构和微观形貌进行了表征.研究了Cu2+掺杂比例、溶剂热反应温度及时间对材料气敏性能的影响;考察ZnO(120℃,10h)和3mol%Cu2+掺杂ZnO(120℃,10h)粉体对应元件对甲醛、乙酸、甲苯、乙醇、丙酮、三甲胺等六种气体的气敏性能.结果表明:通过溶剂热法制备的ZnO粉体为纳米棒状结构,棒长度和直径随Cu2+掺杂比例不同发生变化;3mol%Cu2+掺杂ZnO(120℃,10h)样品对应元件对低浓度乙醇有很好的选择性,在395℃工作温度下对1×10–3乙醇的灵敏度为380.5,响应和脱附时间分别为5 s和40 s,对1×10–6乙醇的灵敏度可达4.2.
- 陈同云朱小华储向峰葛秀涛董永平叶明富
- 关键词：ZNO纳米棒气敏性能
- 化学机械抛光在光学晶体加工中的应用被引量：11
- 2012年
- 晶体材料的深入研究加速了现代科学技术的发展,其需求量也迅速增加。在很多应用领域要求晶体的表面超光滑,因此晶体表面处理和加工成为目前研究的热点。介绍了几种典型光学晶体(蓝宝石晶体、铌酸锂晶体、三硼酸锂晶体、碲锌镉晶体、氧化镁晶体、碳化硅晶体和锑化铟晶体)化学机械抛光的最新研究成果,并探讨了光学晶体化学机械抛光存在的问题及发展趋势。
- 储向峰汤丽娟董永平乔红斌朱小华
- 关键词：晶体化学机械抛光
- 复合氧化物和氧化锌掺杂一维材料在化学传感器领域的应用研究
- 本论文首先对纳米气敏材料和半导体气体传感器进行了详细的综述,随后探究了掺杂 ZnO一维纳米材料、HoCrO3纳米材料和石墨烯-SnO复合材料的制备方法及气敏性能。主要内容包括:溶剂热法(无水乙醇)制备 ZnO掺杂一维纳米...
- 朱小华
- 关键词：氧化亚锡气敏材料化学传感器
- 文献传递
- 锇在醋酸体系抛光液中化学机械抛光研究
- 2012年
- 锇有可能作为大规模集成电路铜互连扩散阻挡层新材料。本研究利用自制的醋酸体系抛光液对金属锇片进行抛光,研究了双氧水(H2O2)、醋酸(CH3COOH)和苯丙三氮唑(BTA)对腐蚀效果的影响。结果表明,CH3COOH能够在抛光液中起到酸剂、络合剂和抑制剂的作用;在CH3COOH体系抛光液中,H2O2主要通过促进阴极反应的进行从而增强抛光液对金属锇的化学作用,H2O2浓度的增加虽然提高了对金属锇化学腐蚀的能力,但不利于金属表面钝化膜的形成;BTA的加入促进金属锇表面钝化膜的生成,因此降低了腐蚀电流,且金属锇表面钝化膜的厚度随BTA浓度的增加而增加。
- 储向峰汤丽娟董永平乔红斌朱小华
- 关键词：化学机械抛光锇醋酸极化曲线
- 锇在磷酸体系抛光液中化学机械抛光研究被引量：3
- 2013年
- (锇有可能作为大规模集成电路铜互连扩散阻挡层新材料。)利用自制的抛光液对金属锇片进行抛光,研究在双氧水-磷酸体系抛光液中H2O2浓度和抛光液pH值对抛光速率的影响。结果表明,当抛光液中主要成分仅为氧化剂H2O2时,并不能在金属锇表面达到好的腐蚀效果。在磷酸体系抛光液中,H2O2能够通过促进阴极反应的进行从而增强抛光液对金属锇的化学作用;低浓度H2O2通过增强抛光液对金属锇的化学腐蚀能力,从而增加了抛光速率值;较高浓度H2O2的加入对抛光速率值影响较小。H3PO4能够在抛光液中起到抑制剂、pH调节剂和络合剂的作用。当抛光液pH值为4.0时,金属锇表面生成的钝化膜最致密。当pH值为4.0或5.0时,金属锇表面生成的钝化膜OCP值大于金属锇的OCP值,且此条件下的抛光速率值较高。
- 储向峰汤丽娟董永平乔红斌朱小华
- 关键词：化学机械抛光锇磷酸极化曲线
