施伟杰
- 作品数：24 被引量：62H指数：4
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划国家自然科学基金教育部高等学校骨干教师资助计划更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程医药卫生更多>>
- 基于光学对准的光刻机投影物镜密集线焦深原位检测技术被引量：1
- 2006年
- 提出了一种检测光刻机投影物镜密集线焦深(DOF)的新技术。该技术将具有精细结构的测量标记曝光在硅片上,硅片显影后,由光学对准系统获取曝光在硅片上的测量标记图形的对准位置信息,根据对准位置信息计算得到视场中各点的焦深。与传统的FEM焦深测试技术相比,该技术具有测量精度高、速度快、成本低、操作简单等优点,在光刻工艺参数优化及光刻设备性能评价等方面有很好的应用前景。
- 施伟杰王向朝张冬青王帆
- 关键词：激光技术焦深投影光刻机
- 人工神经网络参数调整对生物光谱识别的影响被引量：2
- 2003年
- 本文介绍了一种利用反向传播人工神经网络 (BP ANN)对生物可见光谱进行识别的方法。利用自组的光纤探头式光谱仪对苹果的疤痕和烂痕微区表面进行部分可见光范围 (5 0 0～ 730nm)的光谱测量 ,采用具有单隐层的BP ANN对光谱数据进行分析 ,以便对生物表面性质实现自动识别。本文着重就神经网络的输出值范围、训练方式、隐层数及不同程度的噪音信号等对神经网络识别精度的影响做了较为详尽的讨论。
- 施伟杰张铁强郑咏梅
- 关键词：人工神经网络光谱分析苹果
- 光刻机硅片表面不平度原位检测技术被引量：4
- 2006年
- 随着光刻特征尺寸的不断减小,硅片表面不平度对光刻性能的影响越来越显著·该文提出了一种新的硅片表面不平度的原位检测技术本文在分析特殊测试标记成像规律的基础上,讨论了测试标记的对准位置偏移量与硅片表面起伏高度的变化规律,提出了一种新的硅片表面不平度原位检测技术·实验表明,该技术可实现硅片表面不平度及硅片表面形貌的高准确度原位测量·该技术考虑了光刻机承片台吸附力的非均匀性对硅片表面不平度的影响,更真实反映曝光工作状态下的硅片表面不平度大小·与现有的原位检测方法相比,硅片表面不平度的测量空间分辨率提高了1.67%倍,可实现硅片表面形貌的原位检测·
- 张冬青王向朝施伟杰
- 关键词：光刻机
- 基于傅里叶变换的光纤探头光谱特性校正方法的研究被引量：1
- 2005年
- 针对光纤自身对光谱的非线性衰减的影响,提出了一种基于傅里叶变换的光谱校正方法。首先对是否经过光纤的两种情况下光电倍增管的输出电流进行傅里叶变换,得到光谱频域中的校正函数,然后通过傅里叶逆变换得到光谱域中的校正函数。为实现测试,建立一个光电检测系统,在可见光范围内进行测试。分别对是否带有光纤的两种情况下数据进行采集,使用该校正方法可以使光线的衰减得到较好的修正,误差小于1 .5 4 %。实验结果表明,该方法对特定的光纤传导系统的光谱非线性衰减有较好的校正效果。
- 孟宪江张铁强施伟杰申铉国
- 关键词：傅里叶变换校正方法光谱特性校正函数光电倍增管逆变换
- 基于双线空间像线宽不对称度的彗差测量技术被引量：4
- 2006年
- 在高数值孔径、低工艺因子的光刻技术中,投影物镜彗差对光刻质量的影响变得越来越突出,因而需要一种快速、高精度的彗差原位测量技术。为此提出了一种新的基于双线空间像线宽不对称度的彗差测量技术,利用国际上公认的半导体行业光刻仿真软件PROLITH对该方法的测量精度进行了仿真分析。结果表明,与基于硅片曝光的彗差测量方法相比,基于空间像的彗差测量技术速度上的优势十分明显。其测量精度优于1.4 nm,较国际前沿的多照明设置空间像测量技术(TAMIS)提高30%以上,测量速度提高1/3左右。在ASML公司的PAS5500型步进扫描投影光刻机上,多次测量了投影物镜彗差,结果表明,该技术测量重复精度优于1.2 nm,能实现高精度的彗差原位测量。
- 王帆王向朝马明英张冬青施伟杰
- 关键词：光学测量光刻像差投影物镜成像质量
- 基于镜像焦面检测对准标记的套刻性能原位测量技术被引量：6
- 2006年
- 套刻性能是现代高精度步进扫描投影光刻机的重要性能指标之一。提出了一种基于镜像焦面检测对准标记(简称“镜像焦面检测对准标记”)的光刻机套刻性能原位测量技术。该技术通过对曝光在硅片上的镜像焦面检测对准标记图形进行光学对准,利用标记图形对准位置与理想位置偏差实现套刻性能的原位检测。实验结果表明该技术在进行套刻误差的精确测量的同时还可以全面、定量地计算影响光刻机单机套刻误差的场内参量及场间参量。与目前套刻性能原位测量技术相比,该技术有效地避免了测量精度对轴向像质限制的依赖,简化了光刻机整机性能检测的过程。
- 施伟杰王向朝张冬青马明英王帆
- 关键词：光学测量光刻机
- 基于人工神经网络权值优化的投影光刻机像质校正灵敏矩阵的计算方法被引量：2
- 2006年
- 像质校正灵敏矩阵是像质校正算法中由像质参数计算像质校正参数的过渡矩阵。矩阵中的元素表征了像质参数随像质校正参数变化的灵敏程度。像质校正灵敏矩阵是投影光刻机像质校正算法中重要的参数集合。提出了一种投影光刻机像质校正灵敏矩阵的原位测量方法,该方法利用人工神经网络(ANN)对像质参数和像质校正参数之间的依赖关系进行建模,通过网络自学习能力优化网络的连接权值使其逐渐逼近像质校正灵敏矩阵的数值,从而实现像质校正灵敏矩阵的测量。实验结果表明该方法可以高精度、有效地获得投影光刻机像质校正灵敏矩阵。
- 施伟杰王向朝张冬青王帆
- 关键词：人工神经网络投影光刻机
- 一种新的光刻机像质参数热漂移检测技术被引量：1
- 2005年
- 提出了一种新的光刻机像质参数热漂移原位检测技术(TDFM)。详细分析了该技术利用镜像测试标记检测投影物镜最佳焦面热漂移与放大倍率热漂移的基本原理。实验结果表明TDFM技术可同时实现最佳焦面热漂移(FFT)与放大倍率热漂移(MFT)的精确测量。与现有的放大倍率热漂移检测技术相比,该技术有效地解决了放大倍率热漂移技术中放大倍率热漂移受最佳焦面热漂移影响的问题,简化了光刻机像质参数前馈校正的测试过程,测试成本与耗时均减少50%。
- 张冬青王向朝施伟杰马明英王帆
- 关键词：投影物镜光刻机
- 机械准直器的发展
- 介绍了机械准直器的基本结构和它的性能特点,在机械准直器从产生到现在的理论发展过程中,经历了几何光学、物理光学以及傅里叶光学的发展阶段,总结了各个发展阶段的对机械准直器的理论解释以及实验结果。在此基础上,对机械准直器的傅里...
- 贾辉姚勇施伟杰
- 关键词：傅里叶光学空间频率几何光学物理光学
- 文献传递
- 机械准直器的发展被引量：3
- 2007年
- 介绍了机械准直器的基本结构和它的性能特点,在机械准直器从产生到现在的理论发展过程中,经历了几何光学、物理光学以及傅里叶光学的发展阶段,总结了各个发展阶段的对机械准直器的理论解释以及实验结果。在此基础上,对机械准直器的傅里叶光学理论的进一步发展提出了看法,并讨论了采用二维傅里叶光学模型所要解决的问题及解决方法,以及二维傅里叶光学公式计算的可行性。
- 贾辉姚勇施伟杰
- 关键词：应用光学傅里叶光学空间频率栅格
