吴湘君
- 作品数：12 被引量：32H指数：4
- 供职机构：东南大学更多>>
- 发文基金：国家科技支撑计划国家自然科学基金江苏省高等学校大学生实践创新训练计划项目更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺医药卫生交通运输工程更多>>
- 磁控溅射法制备CR-N系蔊膜及其性能评价
- 吴湘君
- 氮流量比对直流/射频磁控溅射CrN涂层耐腐蚀性的影响被引量：4
- 2013年
- 采用直流/射频磁控溅射法,在不同氮流量比条件下制备了CrN涂层。利用扫描电镜、X射线衍射、显微硬度计和电化学测试系统研究了氮流量比对涂层组织和性能的影响,并对涂层腐蚀机制进行了初步探讨。研究结果表明:不同氮流量比条件下,直流溅射CrN涂层呈现明显的柱状晶,组织疏松,而射频溅射涂层结构都比较致密,导致射频涂层的耐腐蚀性明显优于直流涂层;在直流条件下,氮流量比为70%时的CrN涂层耐蚀性最佳。
- 谈淑咏吴湘君张旭海蒋建清
- 关键词：直流射频磁控溅射CRN涂层耐腐蚀性
- Si基底磁控溅射制备CrN薄膜表面形貌与生长机制研究
- CrN薄膜硬度高、高温抗氧化性、耐磨性及抗腐蚀性能好，越来越受到重视。目前采用磁控溅射法制备CrN薄膜的研究主要集中在制备工艺、合金化、多层化以及性能和应用等方面，对CrN薄膜的生长以及表面形貌演变的认识还不够深入。在S...
- 谈淑咏张旭海吴湘君蒋建清
- 关键词：磁控溅射法表面形貌
- 氮流量比对直流反应磁控溅射制备氮化铬涂层组织和性能的影响被引量：6
- 2010年
- 采用直流磁控溅射法制备氮化铬涂层,研究了氮流量比对涂层相结构、表面形貌和硬度和涂层结合力的影响。结果表明:当氮流量比在30%～100%变化时,涂层主要由CrN相构成;随氮流量比增加,涂层晶粒形貌由三角锥转变为三角锥与球状共存,涂层变得致密,硬度得到提高;氮流量比对涂层结合力影响不大。
- 谈淑咏张旭海吴湘君蒋建清
- 关键词：直流磁控溅射
- 基底负偏压对直流磁控溅射CrN薄膜择优取向及表面形貌的影响被引量：12
- 2010年
- 直流磁控溅射法制备不同基底负偏压下的CrN薄膜,采用XRD分析薄膜相结构,EDS分析薄膜表面成分,SEM观察薄膜表面形貌,并对偏压作用机制进行了探讨。结果表明,当Ar流量6ml/min、N2流量30ml/min时,在基底负偏压增大过程中,CrN薄膜始终由CrN相组成,但薄膜生长发生了(111)(-50V)向(200)(-125V)再向无明显择优生长(-225V)的转变。低偏压时,CrN薄膜[111]向[200]取向转变主要是轰击表面氮离子浓度增加导致;高偏压时,薄膜中Ar浓度大幅增长,高能离子长时间轰击破坏晶粒取向性,使薄膜呈无择优取向。同时,负偏压增加使薄膜表面形貌从具有棱角的不规则形状逐渐变为粒状结构,且晶粒逐渐细小。
- 谈淑咏张旭海李纪宏吴湘君蒋建清
- 关键词：表面形貌直流磁控溅射
- 磁控溅射法制备Cr-N系蔳膜及其性能评价
- CrN薄膜由于具有优良的耐磨性能、热稳定性能和抗氧化性能，被广泛应用于刀具和模具的表面涂层，以提高机械部件的使用寿命。为进一步改善CrN薄膜的性能，采用磁控溅射法制备了不同氮流量比条件下的CrN薄膜、不同调制周期和层厚比...
- 吴湘君
- 关键词：磁控溅射抗氧化性
- 一种致密氮化物陶瓷涂层及其制备方法
- 本发明公开了一种致密氮化物陶瓷涂层及其制备方法，按先对机械零件的待处理表面进行清洁；再通过反应沉积法制备氮化物涂层，反应沉积法制备氮化物涂层的过程中，偏压在高偏压和低偏压之间交替变化。所述的氮化物陶瓷涂层的具有1700H...
- 张旭海李晓雪蒋建清谈荣生谈舒泳吴湘君张娟方峰周雪峰曾宇乔
- 文献传递
- 不同氮分压下磁控溅射ZrN对钛/瓷结合的影响被引量：3
- 2011年
- 探讨不同氮分压下磁控溅射氮化锆(ZrN)涂层对纯钛与低熔瓷粉(Vita钛瓷粉系统)结合强度的影响。60个纯钛基片随机分为1个对照组和3个实验组。实验组分别在不同氮分压下(Ta组1.0×10-2Pa,Tb组5.0×10-2Pa和Tc组10.0×10-2Pa)溅射沉积ZrN涂层。纯钛试样经表面处理后在烤瓷炉中进行烧结。用XRD检测到ZrN立方新相。万能试验机测试钛瓷试样三点抗弯强度,对照组为(26.67±0.88)MPa,实验组分别为:Ta(49.41±0.55)MPa,Tb(54.55±0.69)MPa和Tc(46.24±0.53)MPa,四组间差别均有统计学意义(P<0.05)。SEM观察表明,实验组钛/瓷结合良好,钛基底残留的瓷断面数量较多,面积较大。不同氮分压下溅射沉积的ZrN涂层对钛/瓷结合的增强程度有所不同,5.0×10-2Pa下钛/瓷结合增强最为明显。
- 王舒舒吴湘君光寒冰周淑张文艳章非敏
- 关键词：磁控溅射氮分压钛瓷
- Si基底磁控溅射制备CrN薄膜的表面形貌与生长机制被引量：6
- 2011年
- 在Si基底上采用直流磁控溅射法制备CrN薄膜,利用原子力显微镜(AFM)、扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)分析薄膜表面形貌和物相成分,探讨薄膜生长的动力学过程。结果表明:只有当生长时间足够(1 800 s)时,才能形成具有CrN相的薄膜。随着CrN薄膜的生长,薄膜表面晶粒由三棱锥发展为三棱锥与胞状共存状,薄膜表面粗糙度逐渐增大,动力学生长指数β=0.50。
- 谈淑咏张旭海吴湘君蒋建清
- 关键词：直流磁控溅射表面形貌粗糙度
- 层厚比对磁控溅射Cr/CrN多层涂层组织和性能的影响被引量：5
- 2014年
- 在超高真空磁控溅射仪上,制备了一系列具有相同调制周期不同层厚比的Cr/CrN涂层。用X射线衍射仪分析了涂层的相组成,通过扫描电镜观察了涂层形貌,采用显微硬度计测试了涂层硬度,在划痕仪上确定涂层和基体间的结合力,并利用磨损仪测量涂层的摩擦磨损性能。结果表明:调制周期为400nm时,当层厚比由2.0减小到0.2,Cr/CrN多层涂层始终由Cr和CrN两相组成,涂层择优取向为CrN(200),且涂层变得愈加致密,硬度从1550HV增大到2300HV,磨损率从2.4×10-8 mm3·N-1·m-1减小为0.6×10-8 mm3·N-1·m-1,涂层和基体结合性能优良。
- 谈淑咏吴湘君张旭海张炎蒋建清朱雪锋江先彪
- 关键词：磨损率
