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刘洪飞

作品数:4 被引量:8H指数:1
供职机构:河北大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金河北省自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇理学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇溅射
  • 1篇第一性原理
  • 1篇第一性原理研...
  • 1篇电子结构
  • 1篇氧化物
  • 1篇氧化锌薄膜
  • 1篇载流子
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇热电薄膜
  • 1篇子结构
  • 1篇微观结构
  • 1篇微结构
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米复合薄膜
  • 1篇蓝宝
  • 1篇蓝宝石
  • 1篇蓝宝石衬底
  • 1篇溅射沉积
  • 1篇共掺

机构

  • 4篇河北大学

作者

  • 4篇刘洪飞
  • 3篇于威
  • 2篇傅广生
  • 1篇丁文革
  • 1篇孟令海
  • 1篇李慧玲
  • 1篇丁学成
  • 1篇葛志启
  • 1篇张子才
  • 1篇武树杰
  • 1篇王江龙
  • 1篇耿春玲
  • 1篇郑炯
  • 1篇杜洁
  • 1篇王淑芳
  • 1篇张锦川
  • 1篇张丽

传媒

  • 1篇科学通报
  • 1篇物理学报
  • 1篇第11届全国...

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2011
  • 1篇2010
  • 1篇2008
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
a-SiN:H薄膜的对靶溅射沉积及微结构特性研究被引量:8
2010年
采用对靶磁控反应溅射技术以N2和H2为反应气体在硅(100)和石英衬底上制备了氢化非晶氮化硅(a-SiN:H)薄膜.利用台阶仪、原子力显微镜、紫外-可见(UV-VIS)光吸收和傅里叶红外透射光谱(FTIR)对薄膜沉积速率、微观结构及键合特性进行了分析.结果表明,利用等离子反应溅射可在较低衬底温度条件下(Ts<250℃)实现低表面粗糙度和高光学透过率的a-SiN:H薄膜制备.增加衬底温度可使薄膜厚度减小,薄膜光学带隙Eg提高,薄膜无序度减小.FTIR分析结果表明,薄膜主要以Si-N,Si-H和N-H键合结构存在,随衬底温度增加,薄膜中的键合氢含量减小,而整体键密度和Si-N键密度增加.该微观结构和光学特性的调整可归因衬底温度升高所引起的衬底表面原子迁移率和反应速率的增加.
于威孟令海耿春玲丁文革武树杰刘洪飞傅广生
关键词:微观结构
新型氧化物热电薄膜Bi2Sr2Co2Oy的制备及其热电输运特性研究
王淑芳丁学成杜洁郑炯刘洪飞
采用化学溶液沉积技术制备了掺Bi2Pb0.4Sr2Co2Oy薄膜样品,研究了退火温度对薄膜微结构和热电性能的影响。国际上第一个报道了利用该技术实现高质量Bi2Sr2Co2Oy薄膜的外延生长;首次对倾斜生长的Bi2Sr2C...
关键词:
关键词:纳米复合薄膜
后钙钛矿CaRhO_3的电子结构和磁学性质的第一性原理研究
2011年
采用基于密度泛函理论的投影平面波方法,对后钙钛矿结构(Ppv)的CaRhO3的电子结构和磁学性质进行了研究.广义梯度(GGA)近似下的计算表明,Ppv-CaRhO3的基态为铁磁性半金属,Rh4+离子的磁矩大小为0.57μB,具有低自旋态构型;而考虑在位库仑作用修正的GGA+U计算,得到了与实验结果相符的反铁磁绝缘体基态,表明后钙钛矿结构中4d电子之间的关联效应对体系性质有着重要影响.
王江龙葛志启李慧玲刘洪飞于威
关键词:电子结构磁学性质
退火实现蓝宝石衬底N-Al共掺ZnO薄膜的p转变
通过在O2气氛下高温后退火,将采用螺旋波等离子体辅助射频磁控溅射技术在蓝宝石衬底上低温生长的n型N-Al共掺ZnO薄膜转化为p型导电.Hall测量显示p型ZnO薄膜的载流子浓度为2.1×1016 cm-3,电阻率51.8...
于威张丽张锦川张子才刘洪飞傅广生
关键词:射频磁控溅射蓝宝石衬底载流子氧化锌薄膜
文献传递
共1页<1>
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