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刘永富

作品数：2 被引量：1H指数：1
供职机构：中国石油化工集团公司北京化工研究院更多>>
相关领域：自动化与计算机技术电子电信理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 1篇正交
  • 1篇正交设计
  • 1篇均匀设计
  • 1篇抗蚀剂
  • 1篇计算机
  • 1篇计算机软件
  • 1篇光致
  • 1篇光致抗蚀剂
  • 1篇EUV
  • 1篇LWR

机构

  • 2篇中国石油化工...
  • 1篇北京师范大学

作者

  • 2篇刘永富
  • 1篇贾越

传媒

  • 1篇广州化工
  • 1篇中国数学会均...

年份

  • 2篇2009
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
EUV光致抗蚀剂研究进展被引量：1
2009年
波长13.5nm的极紫外(EUV)光刻技术可以刻画线幅<32nm的图像,能满足信息技术对于光致抗蚀剂高分辨率的要求,即将成为下一代纳米成像技术,利用EUV成像技术,可以实现集成电路的超小型化。本文调研了近几年来EUV抗蚀剂的研究进展,指出影响抗蚀剂性能的主要因素,包括分辨率、LWR、LER、成像灵敏度、产气作用、成像侧面角度等,对近几年来有关EUV光致抗蚀剂的研究开发情况进行了归纳总结。
贾越刘永富
关键词：EUV抗蚀剂LWR
均匀设计应用与研究进展
深入调研了2008、2009年关于均匀设计的相关国内文献资料，阐述了均匀设计的应用实例和理论研究进展情况，并且详细探讨了计算机软件在均匀设计中的应用概况，最后比较了正交设计和均匀设计的特点和不同之处。
刘永富
关键词：均匀设计正交设计计算机软件
文献传递
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