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齐臣杰

作品数:18 被引量:59H指数:5
供职机构:海南师范大学更多>>
发文基金:海南省自然科学基金“九五”国家科技攻关计划国家攀登计划更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术电气工程机械工程更多>>

文献类型

  • 13篇期刊文章
  • 3篇会议论文
  • 2篇科技成果

领域

  • 8篇电子电信
  • 5篇一般工业技术
  • 4篇电气工程
  • 2篇机械工程
  • 1篇动力工程及工...
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇建筑科学

主题

  • 4篇制冷
  • 4篇半导体制冷
  • 4篇MEMS
  • 3篇电路
  • 3篇制冷器
  • 3篇微波集成
  • 3篇微波集成电路
  • 3篇滤波器
  • 3篇集成电路
  • 3篇光电
  • 3篇半导体
  • 3篇半导体制冷器
  • 2篇制冷性能
  • 2篇太阳能
  • 2篇刻蚀
  • 2篇光电集成
  • 2篇
  • 1篇电池
  • 1篇电池板
  • 1篇电动

机构

  • 12篇清华大学
  • 7篇海南师范大学
  • 2篇浙江大学
  • 1篇北京师范大学

作者

  • 18篇齐臣杰
  • 10篇刘理天
  • 4篇邢诒存
  • 4篇谭智敏
  • 4篇卞之
  • 3篇王红晨
  • 3篇张海涛
  • 2篇卞秀芬
  • 2篇李志坚
  • 2篇曲春英
  • 2篇吴国华
  • 1篇潘宇婧
  • 1篇李国辉
  • 1篇洪丽
  • 1篇岳瑞峰
  • 1篇林宏
  • 1篇候或
  • 1篇傅军
  • 1篇韦建德
  • 1篇徐洪涛

传媒

  • 4篇半导体技术
  • 2篇Journa...
  • 1篇世界电子元器...
  • 1篇清华大学学报...
  • 1篇浙江大学学报...
  • 1篇仪表技术与传...
  • 1篇低温工程
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇电子科技导报
  • 1篇第十二届全国...
  • 1篇全国化合物半...
  • 1篇第六届全国敏...

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2010
  • 3篇2009
  • 1篇2007
  • 1篇2004
  • 3篇2001
  • 5篇2000
  • 3篇1999
18 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
深槽刻蚀研究及在IC隔离中的应用
本文报道了用ICP技术刻蚀出窄深槽结构.槽宽1~2.5μm,槽深7~25μm,刻蚀速率2μm/min,陡直度89度.该结构可以应用到MEMS和IC的隔离中.
齐臣杰岳瑞峰刘理天
关键词:深槽刻蚀刻蚀工艺
文献传递
温差半导体空调制冷器制冷性能研究被引量:1
2009年
设计了两种不同散热方式的半导体制冷器,实验表明制冷性能良好,为太阳能驱动半导体制冷装置的优化设计提供依据、奠定基础。半导体制冷模块热端采用汽车发动机散热系统标准部件、采取水冷却,能在有限的空间内将高热流密度热量散发出去,有利于提高制冷性能。半导体制冷模块在等功率状态下工作,制冷量为半导体器件最大制冷量的55%;若倾向于获得较大制冷系数,制冷量按最大制冷量的40%进行设计,制冷系数ε达1.65。
卞之齐臣杰邢诒存张美丽
关键词:半导体制冷器制冷性能
太阳能半导体空调制冷装置模块化实验研究被引量:6
2009年
建立了以水为热交换媒介的太阳能热电模块制冷实验系统。系统配置了双位能量存储装置,用以储存昼夜温差能和太阳光电转换电能,以备无日照或日照不足时系统能够连续工作。热电制冷装置模块化,用以适应制冷功率变化较大的空间制冷,并在制冷启动与温度维持不同阶段实现较大功率的切入或撤出。制冷模块以半导体热电元件为核心,冷热端均以导热性能良好的紫铜作为热交换材料,以热容量较大的水作为冷却液和散热循环液。热交换装置采取集合散热冷却分流的集散一体化热交换系统。对制冷模块制冷性能进行了实验分析,并对制冷效果进行了模拟实验,实验结果基本达到了设计的预期。
卞之潘宇婧齐臣杰邢诒存曲春英
关键词:太阳能制冷半导体制冷器热电制冷制冷性能
太阳能温差电制冷的研究
卞秀芬王红晨邢诒存曲春英齐臣杰
该项目对半导体温差电制冷装置的模块化及其制冷性能、工作状态、可叠加性进行了研究,确定了不同使用目的下的最佳工作状态。实验表明:制冷模块可叠加,叠加后模块平均制冷能力不低于单个模块的制冷能力。通过示差扫描量热实验对蓄冷介质...
关键词:
关键词:空调系统
3MW光伏发电系统自然跟踪关键技术的突破与实现
卞秀芬王红晨邢诒存齐臣杰韦建德钟小丽曲春英等
该项目作为海南师范大学桂林洋新校区3MW“光伏屋顶”示范工程关键技术解决方案,通过100Wp微型实验单元进行实验,以期取得原理和技术上的验证,为3kWp小型光伏发电系统进而为3MW“光伏屋顶”提供技术支持。该项目设计研制...
关键词:
关键词:光伏发电系统电池板
两步刻蚀多晶硅提高图形陡直度
2000年
微电子机械系统中关键工艺之一就是刻蚀出高深宽比的图形。本文对掺磷多晶硅反应离子刻蚀(RIE)进行了研究。采用两步刻蚀工艺,SF6,CF4,Cl2CF三种气体组合,从原来45度的各向同性刻蚀提高到73度以上的各向异性刻蚀。射频功率390瓦时,刻蚀速率每分钟200nm。对3.5微米厚的多晶硅,刻蚀时间在20分钟左右,基本上达到要求。
齐臣杰徐洪涛谭智敏钟艳林宏刘理天
关键词:微电子机械系统多晶硅
光电集成测速硅静电微晃动马达
采用微马达与光电二极管一起集成,组成光电测速系统。在马在转子下面集成几个光电二极管,利用反偏二极的暗电流和亮电流的变化来测量马达的转速。它提高了马达的测速范围,解决了视频摄像测速系统测速低的问题。此外,它还具有测试方便,...
齐臣杰候或刘理天
关键词:光电集成测速
微波集成滤波器研究被引量:4
2000年
用MEMS技术在硅基片上制作了微波集成滤波器,并提出一种三维电容,该电容用MEMS的深槽刻蚀技术实现三维结构。该电容面积只有平面电容的1/3。电感采用MEMS的背面腐蚀技术,去掉硅衬底,减少了衬底损耗,解决硅衬底电阻率不高的缺点。导体采用MEMS的准LIGA厚胶光刻和电铸工艺,使金属膜的厚度大大增加,减少导体损耗,从而提高电感的Q值。
张海涛齐臣杰刘理天
关键词:微波集成电路滤波器MEMS
利用MEMS技术制作MMIC的三维电容电感和滤波器被引量:5
2001年
随着信息时代的发展,对于无线通信设备中的一些外接的分立元件的微型化、低功耗及可携带性提出了更高的要求.现在通常采用单片微波集成电路(MMIC)技术来制作微波电路器件.
张海涛齐臣杰刘理天
关键词:MEMS技术微波集成电路滤波器
A Novel Polysilicon and Oxide Sandwich Deep Trench with Field Limiting Ring for RF Power Transistors被引量:1
2004年
A vertical sandwich deep trench with a field limiting ring is proposed to improve the breakdown voltage of power devices and high voltage devices.Simulation result shows that nearly 100% breakdown voltage of the plane junction can be realized.
齐臣杰傅军王军军刘理天
共2页<12>
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