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韩增虎

作品数:21 被引量:100H指数:5
供职机构:上海交通大学材料科学与工程学院金属基复合材料国家重点实验室更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划上海市科委纳米专项基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学金属学及工艺电子电信更多>>

文献类型

  • 14篇期刊文章
  • 4篇会议论文
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 9篇一般工业技术
  • 8篇理学
  • 4篇金属学及工艺
  • 3篇电子电信

主题

  • 10篇力学性能
  • 10篇力学性
  • 7篇微结构
  • 7篇溅射
  • 5篇纳米
  • 5篇磁控
  • 5篇磁控溅射
  • 4篇氮分压
  • 3篇弹性模量
  • 3篇多层膜
  • 3篇纳米多层膜
  • 3篇CRNX薄膜
  • 3篇超硬效应
  • 2篇硬质
  • 2篇陶瓷
  • 2篇陶瓷薄膜
  • 2篇纳米复合薄膜
  • 2篇基片
  • 2篇基片温度
  • 2篇反应溅射

机构

  • 21篇上海交通大学

作者

  • 21篇韩增虎
  • 20篇李戈扬
  • 11篇田家万
  • 7篇胡晓萍
  • 6篇劳技军
  • 5篇赖倩茜
  • 4篇戴嘉维
  • 4篇顾明元
  • 3篇张俊秋
  • 2篇虞晓江
  • 2篇张惠娟
  • 2篇杨春生
  • 1篇唐建毅
  • 1篇张慧娟
  • 1篇张流强

传媒

  • 4篇电子显微学报
  • 2篇机械工程学报
  • 2篇上海交通大学...
  • 2篇功能材料
  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇理化检验(物...
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇材料工程

年份

  • 3篇2004
  • 2篇2003
  • 15篇2002
  • 1篇2001
21 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
AlN/VN纳米多层膜的共格生长与超硬效应被引量:4
2004年
研究了亚稳相立方AlN(c-AlN)在AlN/VN纳米多层膜中的形成条件以及c-AlN对纳米多层膜力学性能的影响。一系列不同调制周期的AlN/VN多层膜采用反应磁控溅射法制备,多层膜的微结构采用小角度X射线衍射和高分辨电子显微镜表征,利用微力学探针测量了多层膜的力学性能。结果表明:亚稳的c-AlN因VN的'模板'作用生成于小调制周期的纳米多层膜中,并与VN形成共格外延生长的超晶格柱状晶,从而使多层膜产生硬度和弹性模量升高的超硬效应。随调制周期的增大,c-AlN转变为稳定的六方结构(h-AlN),使多层膜形成纳米晶的'砖墙'型结构。此时多层膜的硬度和弹性模量与混合法则所得值相当。AlN/VN纳米多层膜在小调制周期下产生的超硬效应与c-AlN形成带来的性质变化以及c-AlN与VN形成共格结构所产生的界面交变应变场有关。
李戈扬劳技军田家万韩增虎
关键词:亚稳相超硬效应
硬质涂层力学性能可靠测量的两步压入法被引量:3
2002年
正确测量涂层的硬度等力学性能一直是硬质涂层生产和研究中亟待解决的问题。本文提出的采用力学探针对涂层进行两步压入的实验方法可以在未知涂层厚度的条件下通过大载荷逐步加载展示出涂层厚度对载荷选择的要求 ,从而正确选择加载载荷进行小载荷压入实验。
田家万韩增虎赖倩茜戴嘉维李戈扬
关键词:硬质涂层力学性能弹性模量
磁控溅射B_4C薄膜的制备与力学性能被引量:2
2002年
通过磁控溅射方法在不同基片温度下制备了B4C薄膜 ,利用傅立叶红外光谱、X射线衍射、透射电子显微镜表征了薄膜的微结构 ,并采用纳牛力学探针测量了薄膜的力学性能。结果表明 ,室温下制备的B4C薄膜具有很高的硬度 ( 4 2 5GPa)和杨氏模量 ( 3 0 0GPa) ,薄膜呈现非晶或纳米晶特征。随基片温度的提高 ,薄膜略有晶化 ,硬度与杨氏模量相应增加到5 0 4GPa和 4 2 0GPa。
韩增虎田家万李戈扬唐建毅
关键词:微结构力学性能磁控溅射
陶瓷硬质薄膜的微结构与力学性能研究
该文利用反应磁控溅射技术,在不同的工艺条件(沉积温度、反应气体分压和基片性质等)下制备了本征硬质薄膜B<,4>C、CrNx,、NbN和纳米复合薄膜Nb-Si-N等几种陶瓷薄膜,采用EDX,XRD,TEM,FTIR,HRE...
韩增虎
关键词:磁控溅射CRNX薄膜微结构力学性能
文献传递
Nb-Si-N混合薄膜的HRTEM观察
韩增虎胡晓萍劳技军李戈扬
文献传递
基片温度对Cr薄膜微结构和力学性能的影响
劳技军韩增虎胡晓萍李戈扬杨春生
文献传递
NbN薄膜的反应磁控溅射沉积
韩增虎赖倩茜田家万李戈扬
文献传递
硬质纳米复合薄膜及其制作工艺
一种硬质纳米复合薄膜及其制作工艺,属于材料的陶瓷薄膜领域。其硬度在39.9Gpa至53Gpa范围,成分配方原子百分比为:Nb:25-40%,Si:1-15%,N:50-65%,薄膜厚度为1μm-3μm,薄膜中存在NbN纳...
李戈扬韩增虎胡晓萍戴嘉维顾明元
文献传递
磁控溅射CrN_x薄膜的制备与力学性能被引量:28
2002年
采用反应磁控溅射法在不同的氮分压下制备了一系列CrNx 薄膜 ,并利用EDS和XRD表征了薄膜的成分和相组成 ,采用力学探针测量了薄膜的硬度和弹性模量。研究了氮分压对薄膜成分、相组成和力学性能的影响。结果表明 ,随氮分压的升高 ,薄膜的沉积速率明显降低 ;薄膜中的氮含量增加 ,相应地 ,相组成从Cr +Cr2 N过渡到单相Cr2 N ,再逐步经Cr2 N +CrN过渡到单相CrN ,并在Cr :N原子比为 1∶2和 1∶1时 ,薄膜的硬度出现极值 (HV2 7.1GPa和HV2 6.8GPa) ,而薄膜的弹性模量则在Cr2 N时呈现 3 5 0GPa的最高值。
韩增虎田家万戴嘉维张慧娟李戈扬
关键词:磁控溅射CRNX薄膜氮分压力学性能
N_2分压对磁控溅射NbN薄膜微结构与力学性能的影响被引量:9
2004年
采用反应磁控溅射法在不同的氮分压下制备了一系列NbN薄膜.用XRD和TEM表征了薄膜的相组成和微观结构,力学探针测量了薄膜的硬度和弹性模量,AFM观察了薄膜的表面形貌并测量了压痕尺寸以校验硬度值的准确性.研究了氮分压对薄膜相组成、微结构和力学性能的影响.结果表明,氮分压对薄膜的沉积速率、相组成、硬度和弹性模量均有明显的影响:低氮分压下,薄膜的沉积速率较高,制备的薄膜样品为六方β-Nb2N和立方δ-NbN两相结构;随氮分压的升高,薄膜形成δ-NbN单相组织,相应地,薄膜获得最高的硬度(36.6GPa)和弹性模量(457GPa);进一步升高氮分压,获得的薄膜为δ-NbN和六方ε-NbN的两相组织,其硬度和模量亦有所降低.
韩增虎胡晓萍田家万李戈扬顾明元
关键词:微结构磁控溅射
共3页<123>
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