金薇
- 作品数：6 被引量：22H指数：2
- 供职机构：北京有色金属研究总院更多>>
- 发文基金：国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电气工程电子电信更多>>
- 反应溅射法连续制备CeO2隔离层
- 用带有反应溅射装置的走带系统在立方织构的Ni-5％w衬底上连续制备了长10cm的Ce02隔离层，为避免金属衬底氧化,以H2O作为反应气体。研究了衬底温度、走带速率对CeO2隔离层外延生长的影响，用x射线θ～2θ扫描,φ扫...
- 张华刘慧舟杨坚金薇杨玉卫古宏伟
- 关键词：半导体薄膜反应溅射
- 直流反应溅射法制备Y_2O_3隔离层的研究
- 2008年
- 采用直流反应溅射的方法在具有立方织构的Ni基底上制备出了Y2O3隔离层,并研究了基带温度与H2O分压两个因素对Y2O3薄膜的织构取向以及表面形貌的影响。X射线衍射(XRD)结果和扫描电子显微镜(SEM)的分析表明,在温度为760℃,H2O分压为1.68×10-2Pa的条件下制备出的Y2O3薄膜具有强立方织构,平面内Φ扫描半高宽为7.07°,其表面均匀、致密、无裂纹。
- 金薇古宏伟杨坚张华刘慧舟杨玉卫
- 关键词：氧化钇隔离层涂层导体
- 走带速率对Y_2O_3隔离层生长的影响被引量：2
- 2009年
- 采用反应溅射的方法在具有立方织构的Ni基底上连续制备了Y2O3隔离层。用X射线θ-2θ扫描，φ扫描对薄膜的取向和织构进行表征，用扫描电子显微镜（SEM）对薄膜的表面形貌进行观察。主要研究了走带速率对隔离层外延生长及表面形貌的影响。实验表明：随着走带速率的增大，Y2O3的平面内妒扫描半高宽（FWHM）增大，（400）峰的相对强度减小，晶粒更加细小；同时，制备的三层Y2O3隔离层，其面内妒扫描半高宽取决于第一层的半高宽；最终在三层Y2O3隔离层上沉积了有良好外延取向的YBCO超导层，其FWHM为8．0°。
- 张华金薇刘慧舟冯校亮杨坚
- 关键词：Y2O3隔离层反应溅射表面形貌
- 类金刚石膜的性能、制备及其应用被引量：20
- 2008年
- 类金刚石膜是无定形碳中含sp3键的亚稳态结构。由于它的组成、光学透过率、硬度、折射率和在化学腐蚀剂中的惰性以及抗摩擦性能十分相似于金刚石,其应用领域不断被拓宽,因此对类金刚石的研究也日益成为热点。本文介绍了类金刚石的性能、制备类金刚石膜的物理气相沉积和化学气相沉积方法,概括了类金刚石膜在机械、电磁学、光学、医学以及其它领域的应用,最后指出了类金刚石膜的研究现状及其发展趋势。
- 杨玉卫杨坚古宏伟刘慧舟张华金薇
- 关键词：类金刚石薄膜
