蒋雅雅
- 作品数：3 被引量：16H指数：3
- 供职机构：南昌大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金江西省自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学更多>>
- 基底温度对磁控溅射制备氮化钛薄膜的影响被引量：6
- 2007年
- 在不同的基底温度下,采用直流磁控反应溅射法在硅基底上制备了氮化钛(TiNx)薄膜,研究了基底温度对薄膜结晶取向、表面形貌和导电性能的影响。实验结果表明:基底温度较低时,薄膜主要成分为四方相的Ti2N,具有(110)择优取向,当基底温度升高到360℃时薄膜中开始出现立方相的TiN。TiNx薄膜致密均匀,粗糙度小。随着基底温度的升高薄膜的电阻率显著减小。
- 蒋雅雅赖珍荃王震东黄奇辉
- 关键词：磁控溅射TIN薄膜基底温度
- 氮气流量对反应磁控溅射制备TiN_x薄膜的影响被引量：8
- 2008年
- 采用直流磁控溅射法,在S i基底上制备TiNx薄膜。研究了溅射沉积过程中氮气流量对TiNx薄膜生长及性能的影响。研究发现:在其它工艺参数不变的情况下,改变N2流量,薄膜的主要成分是(110)择优取向的四方相Ti2N。随着N2流量的增加,薄膜的厚度逐渐增加,薄膜粗糙度、颗粒尺寸和电阻率先减小后变大。
- 朱秀榕赖珍荃蒋雅雅范定寰
- 关键词：氮化钛薄膜磁控溅射
- 磁控溅射制备氮化钛薄膜及其结构与导电性能的研究
- 本文采用直流反应磁控溅射法在P型Si(111)基底上制备TiNx薄膜。在反应溅射镀膜过程中影响薄膜结构与性能的因素很多，如溅射电流、气体流量、溅射总气压、基底温度和基底偏压等。本文分别研究了溅射电流、氮气流量、溅射总气压...
- 蒋雅雅
- 关键词：磁控溅射氮化钛导电性能
- 文献传递
