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肖庆中

作品数:2 被引量:5H指数:2
供职机构:电子元器件可靠性物理及其应用技术国防科技重点实验室更多>>
发文基金:国家重点实验室开放基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 1篇电路
  • 1篇金属-氧化物...
  • 1篇静电保护
  • 1篇绝缘层
  • 1篇绝缘层上硅
  • 1篇集成电路
  • 1篇半导体
  • 1篇NMOS器件
  • 1篇SOI
  • 1篇ESD
  • 1篇ESD设计

机构

  • 1篇中国科学院
  • 1篇西安电子科技...
  • 1篇电子元器件可...
  • 1篇中华人民共和...

作者

  • 2篇罗宏伟
  • 2篇肖庆中
  • 1篇潘金辉
  • 1篇路香香
  • 1篇何玉娟
  • 1篇恩云飞
  • 1篇石晓峰

传媒

  • 1篇固体电子学研...
  • 1篇微电子学

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2008
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
集成电路ESD设计验证技术被引量:3
2008年
传输线脉冲(TLP)测试是当前电路设计工程师研究ESD保护器件特性和进行ESD加固设计的有力工具。分析了ESD应力作用下MOSFET的工作原理,指出精确测试保护器件或电路在ESD大电流应力下的I-V特性曲线,提取特征参数,将有利于ESD加固设计的一次成功;通过对典型TLP测试波形的分析,将TLP试验与器件的大电流响应建立联系;最后对扩散电阻和nMOSFET的TLP典型I-V特性进行了分析,并给出了实际的设计参数。
罗宏伟肖庆中路香香石晓峰
关键词:集成电路
栅长对SOI NMOS器件ESD特性的影响被引量:2
2010年
采用TLP测试的方式,研究了不同栅长对栅接地SOI NMOS器件ESD(Electrostatic discharge,静电放电)特性的影响,结果发现栅长越大,维持电压VH越大,ESD二次击穿电流It2越大;其原因可能与薄硅层中的热分布有关。
恩云飞何玉娟罗宏伟潘金辉肖庆中
关键词:静电保护绝缘层上硅
共1页<1>
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