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王箭

作品数:5 被引量:1H指数:1
供职机构:中国建筑材料科学研究总院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家科技支撑计划更多>>
相关领域:化学工程理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇化学工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇金刚石薄膜
  • 2篇类金刚石
  • 2篇类金刚石薄膜
  • 1篇等离子体增强
  • 1篇等离子体增强...
  • 1篇低辐射
  • 1篇低辐射玻璃
  • 1篇电性能
  • 1篇镀膜
  • 1篇英文
  • 1篇粘度
  • 1篇溶胶
  • 1篇溶胶-凝胶法
  • 1篇疏水
  • 1篇疏水性
  • 1篇碳膜
  • 1篇平板玻璃
  • 1篇热稳定
  • 1篇热稳定性
  • 1篇微波介电

机构

  • 5篇中国建筑材料...
  • 1篇青岛理工大学

作者

  • 5篇王箭
  • 3篇黄星烨
  • 2篇汪洪
  • 1篇孟政
  • 1篇孙瑶
  • 1篇耿永娟
  • 1篇李绍纯
  • 1篇赵铁军
  • 1篇高嵩
  • 1篇余刚

传媒

  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇武汉理工大学...
  • 1篇建筑玻璃与工...

年份

  • 3篇2014
  • 1篇2013
  • 1篇2012
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
类金刚石薄膜对Low-E玻璃可加工性能的影响被引量:1
2014年
采用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD),在Low-E玻璃表面沉积了类金刚石(DLC)薄膜作为保护层。通过摩擦磨损实验研究DLC膜对Low-E玻璃耐磨性的影响;对沉积了DLC膜的Low-E玻璃进行热处理,研究热处理后Low-E玻璃低辐射性能和光学性能的变化。结果表明,DLC膜沉积速率为2.5~4nm/min,沉积时间4min以上时,Low-E玻璃摩擦系数开始降低到0.5以下,玻璃表面无破裂迹象,说明一定厚度DLC膜能够有效降低Low-E玻璃摩擦系数,提高Low-E玻璃耐磨性;热处理后,沉积不同时间DLC膜的Low-E玻璃与未沉积DLC膜的Low-E玻璃相比,方块电阻最大相差0.04Ω/□,E值最大相差0.0019,膜面反射、玻面反射、透过颜色△E值均小于3CIELAB,说明DLC膜可以通过热处理去除,且热处理后的Low-E玻璃低辐射性能和光学性能未受到影响。
王箭汪洪余刚黄星烨
关键词:类金刚石薄膜LOW-E玻璃耐磨性热稳定性
玻璃粘度、构型熵、温度之间的关系
2014年
采用传统熔融法制备CaO-AlO3mSiO2-AlF3玻璃,利用旋转法测量玻璃熔体在一定冷却速度下的粘度,利用差示扫描量热法测量玻璃转变温度。根据测量的粘度与温度关系和样品的玻璃转变温度,通过将Avramov(AV)公式和Mauro—Yue—Ellison—Gupta—Mlan(MYEGA)公式带入Adam&Gibbs(AG)公式中得到构型熵与温度的关系。研究了玻璃粘度、构型熵、温度之间的关系。研究发现Av公式和MYEGA&式在温度趋向于0K时,均避免了熵灾难的发生;高温时,AV公式推导得出的熵与温度呈指数关系,与实际不符,MYEGA公式对高温段熵的拟合更为准确。
孟政王箭黄星烨
关键词:粘度构型熵温度
DLC膜在低辐射玻璃上的应用及氟化DLC膜性能研究
类金刚石(DLC)薄膜具有低的摩擦系数、高耐磨性、化学稳定性和良好的光学性能,将其应用在低辐射(Low-E)玻璃上,有助于提高Low-E玻璃的耐磨性与耐腐蚀性,降低其在搬运及冷加工过程中造成的划伤与磨损。本文采用等离子体...
王箭
关键词:类金刚石薄膜低辐射玻璃氟化类金刚石薄膜疏水性
文献传递
Li1.075Nb0.625Ti0.45O3纳米粉体的溶胶-凝胶法合成及微波介电性能(英文)
2012年
采用化学络合法将Nb2O5转化为可溶性铌盐作为铌源,分别用Li2CO3与Ti(OC4H9)4作为Li源与Ti源,采用溶胶-凝胶法成功合成出Li1.075Nb0.625Ti0.45O3纳米粉体。采用XRD与SEM对粉体的相结构及微观形貌进行了分析,结果表明,当煅烧温度高于600℃时,可以获得结晶完整的,具有板状结构的Li1.075Nb0.625Ti0.45O3颗粒,其厚度为3080 nm,宽度为100300 nm。对煅烧后粉体所制备的Li1.075Nb0.625Ti0.45O3陶瓷样品的烧结性能与介电性能进行了研究,结果表明,随着烧结温度的提高,样品的密度与介电常数增大,当采用600℃煅烧的粉体时,在不添加任何烧结助剂的条件下,陶瓷样品在950℃烧结后能够达到96%的相对密度,介电常数为70,品质因数达到9200 GHz。
李绍纯高嵩赵铁军耿永娟卜晓霞王箭
关键词:溶胶-凝胶法微波介电性能
不同镀膜方式制备非晶碳膜的结构与性能比较
本文采用离子源辅助磁控溅射法(IBAD)、离子束沉积法(IBD)与等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)分别在平板玻璃表面沉积了非晶碳膜。测试分析了不同制备方法获得的非晶碳膜的拉曼光谱结构、透射光谱、消光系数、摩擦系数...
孙瑶黄星烨王箭汪洪
关键词:非晶碳膜平板玻璃等离子体增强化学气相沉积
文献传递
共1页<1>
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