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王瑞荣

作品数:4 被引量:5H指数:1
供职机构:中国核工业集团公司核工业西南物理研究院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国际原子能机构基金更多>>
相关领域:核科学技术理学更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 4篇核科学技术
  • 1篇理学

主题

  • 3篇托卡马克
  • 2篇相机
  • 2篇CCD相机
  • 1篇弹丸
  • 1篇弹丸注入
  • 1篇等离子体
  • 1篇低混杂波
  • 1篇电流驱动
  • 1篇杂质输运
  • 1篇输运
  • 1篇硼化
  • 1篇消融
  • 1篇聚变
  • 1篇聚变堆
  • 1篇硅化
  • 1篇放电
  • 1篇HL-1M
  • 1篇HL-1M装...
  • 1篇LHCD

机构

  • 4篇中国核工业集...

作者

  • 4篇王瑞荣
  • 3篇冯震
  • 3篇郑银甲
  • 3篇董贾福
  • 2篇肖正贵
  • 1篇钱尚介
  • 1篇李波
  • 1篇李立
  • 1篇李可华
  • 1篇王恩耀
  • 1篇陈燎原
  • 1篇潘宇东
  • 1篇王全明
  • 1篇施明亮

传媒

  • 3篇核聚变与等离...
  • 1篇电子科技大学...

年份

  • 3篇1999
  • 1篇1998
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
低混杂波电流驱动下注入杂质的输运
1999年
在欧姆放电和低混杂波电流驱动条件下,应用激光吹气技术注入金属杂质,用真空紫外谱仪测量了杂质线的辐射,给出了HL-1M 装置欧姆等离子体和低混杂波电流驱动等离子体杂质输运的研究结果。用杂质输运程序LBO进行数值模拟,得出了等离子体中杂质的扩散系数D(r) 和对流速度v(r)。在低混杂波电流驱动条件下,等离子体杂质的输运系数相对欧姆放电等离子体杂质的输运系数减小了50% 左右。结果表明,在HL-1M
王瑞荣钱尚介郑银甲冯震董贾福李可华
关键词:放电低混杂波电流驱动杂质输运托卡马克
壁涂覆后和LHCD期间HL-1M装置辐射损失测量
1998年
本文叙述了第一壁涂覆(硼化、硅化和锂化)和低杂波电流驱动(LHCD)对HL-1M装置等离子体辐射损失的影响。测量结果表明,第一壁经硼化、硅化和锂化处理后,等离子体辐射损失明显减少,说明壁处理技术对减少等离子体中杂质辐射有显著作用。本文还初步分析了注入低杂波(LHW)期间等离子体辐射损失功率下降或上升的原因,为研究等离子体性能提供了实验数据。
施明亮潘宇东董贾福王恩耀王瑞荣陈燎原王全明
关键词:硼化硅化LHCD托卡马克
等离子体中弹丸消融的CCD摄像
1999年
描述了在HL1 M 装置上氢弹丸注入时用高速CCD 相机拍摄 Hα辐射照片的实验结果。得到了弹丸消融云图像、速度及轨迹。通过对照片的处理,获得辐射光强的空间分布。分析了弹丸轨迹发生弯曲及条纹现象,探讨了弹丸与等离子体相互作用的物理机制,为进一步在弹丸注入条件下用CCD
郑银甲王瑞荣冯震肖正贵
关键词:CCD相机等离子体聚变堆
用CCD相机观测HL-1M弹丸消融过程被引量:5
1999年
利用高速CCD相机拍摄了HL-1M等离子体中注入氢弹丸时的Hα辐射照片。得到的弹丸不同形状消融云照片表明:弹丸轨迹发生弯曲和出现条纹。通过对照片的处理获得了辐射光强的空间分布、弹丸的速度与轨迹,分析了弹丸与等离子体相互作用的物理机制。
郑银甲王瑞荣冯震肖正贵董贾福李波李立
关键词:CCD相机弹丸注入消融HL-1M托卡马克
共1页<1>
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