王守祥
- 作品数：6 被引量：28H指数：3
- 供职机构：中国电子科技集团第二十四研究所更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>
- 等离子体刻蚀AlSi的方法
- 本发明涉及一种等离子体刻蚀AlSi的方法。该方法在金属刻蚀设备刻蚀AlSi的基础上，采用等离子刻蚀设备运行去除硅渣的程序和正胶显影设备运行正胶显影程序。由于去除硅渣的程序可去除残留的硅渣，正胶显影程序可去除聚合物点子，因...
- 王大平叶华王守祥曹阳
- 文献传递
- 等离子体刻蚀AlSi的方法
- 本发明涉及一种等离子体刻蚀AlSi的方法。该方法在金属刻蚀设备刻蚀AlSi的基础上，采用等离子刻蚀设备运行去除硅渣的程序和正胶显影设备运行正胶显影程序。由于去除硅渣的程序可去除残留的硅渣，正胶显影程序可去除聚合物点子，因...
- 王大平叶华王守祥曹阳
- 文献传递
- 微系统技术创新发展策略研究被引量：8
- 2015年
- 简略论述了国际上重要公司微系统重点发展技术和策略,以及成为热点的3D集成技术及其主要开发联盟。初步探讨了我国微系统技术和产业创新发展策略,明确提出了建立以标准开发为目的的联合开发平台建议、重点开发的关键技术和微系统光电技术路线图。
- 赖凡王守祥何晋沪
- 关键词：微系统3D集成
- 一种低噪声高增益宽带视频对数放大器被引量：5
- 1995年
- 着重介绍了一种用于电子对抗系统（ＥＣＭ）预警雷达接收机中的低噪声高增益宽带视频对数放大器的设计原理、制造工艺及其应用，进一步考察了国内外整机系统的发展现状，综合介绍了目前国内外视频对数放大器（ＬＶＡ）的发展及其在整机系统中的应用前景。
- 王守祥
- 关键词：放大器模拟集成电路
- 国内集成电路发展现状及其跨越发展的对策被引量：12
- 2013年
- 基于国际集成电路技术和产业发展趋势,结合国内集成电路发展现状,研究实现跨越发展的对策。提出通过顶层构建,前瞻性合理布局产业链;引进消化吸收再创新,实现专利升级并有偿共享,加速突破技术障碍;完善官学研产体制,搭建高效的运行机制和制度保障平台,推动国内集成电路产业的跨越发展。
- 王守祥赖凡
- 关键词：集成电路产业
- 集成微系统技术及产业发展研究被引量：3
- 2013年
- 微系统研究始于军事领域,在其早期是指"微机电系统"(MEMS)。微机电系统随着集成电路微细加工技术和超精密机械加工技术的发展而发展。随着技术的不断进步,微机电系统已更多地集成了生物、光学、计算、软件等多种技术或元件,并朝着具有感知、处理、控制、通信、致动等功能的智能化集成微系统发展。以MEMS为主流产品的微系统已大量进入消费、工业、汽车、医疗等民用市场,其在军事领域的应用研究也愈加广泛和深入。讨论了微系统的内涵,集成微系统的发展现状、发展趋势和关键技术,指出促进我国集成微系统技术和产业发展的关键点。
- 赖凡王守祥
- 关键词：微机电系统
