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杨艳芹

作品数：2 被引量：1H指数：1
供职机构：武汉科技学院电子信息工程学院更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇晶化
  • 1篇NANO
  • 1篇PREPAR...
  • 1篇REFRAC...
  • 1篇BST薄膜

机构

  • 2篇武汉科技学院
  • 1篇湖北大学

作者

  • 2篇杨艳芹
  • 1篇刘文琮
  • 1篇李颂战
  • 1篇王水兵

传媒

  • 1篇功能材料

年份

  • 2篇2007
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
溅射工艺对BST薄膜取向行为的影响被引量：1
2007年
采用射频磁控溅射法在Si（100）衬底上沉积了Ba0．65Sr0．35TiO3薄膜。借助XRD、AFM和SEM研究了衬底温度、退火温度、溅射气压等不同的溅射参数对Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜的晶化行为和显微结构的影响。在室温下沉积并未经退火处理的Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜是无定形态，在较高温度下沉积的薄膜晶化相对较好；随着在氧气气氛中退火温度的升高，X射线衍射峰的半峰宽变窄，衍射峰强度增强；在0．37～1．2Pa气压下沉积的Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜有（110）和（200）主衍射峰，且其强度随溅射气压的增加而增强；当溅射气压继续升到3．9Pa，（110）和（200）衍射峰明显增强，说明Ba0．65Sro．35Ti03薄膜具有（110）＋（200）择优取向。AFM和SEM结果显示薄膜晶粒细小均匀、结构致密、表面平整，且无裂纹、无孔洞。分析结果显示优化工艺参数制备的Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜是用以制备非致冷红外探测器的优质材料。
李颂战杨艳芹王水兵刘文琮
关键词：BST薄膜晶化
The preparation and Refractive Index of Nano BST Thin Films
Radio frequency magnetron sputtering technique is used to deposit Ba0.65Sr0.35TiO3 (BST) thin films on fused q...
杨艳芹刘文琮李颂战祁亚军章天金
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