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李明霞

作品数:8 被引量:0H指数:0
供职机构:温州职业技术学院更多>>
相关领域:金属学及工艺经济管理更多>>

文献类型

  • 5篇专利
  • 3篇科技成果

领域

  • 4篇金属学及工艺
  • 1篇经济管理

主题

  • 6篇离子镀
  • 5篇导引磁场
  • 4篇电弧离子镀
  • 3篇导磁
  • 3篇导磁率
  • 3篇永久磁体
  • 3篇横向磁场
  • 3篇磁场
  • 3篇磁体
  • 2篇多模式
  • 2篇辅助磁场
  • 2篇复合磁场
  • 1篇镀膜
  • 1篇镀膜工艺
  • 1篇聚合物表面改...
  • 1篇分子材料
  • 1篇服务地方经济
  • 1篇改性
  • 1篇高分子
  • 1篇高分子材料

机构

  • 8篇温州职业技术...

作者

  • 8篇李明霞
  • 7篇郎文昌
  • 7篇王向红
  • 2篇高斌
  • 1篇陈莉敏
  • 1篇肖威
  • 1篇徐小奇
  • 1篇刘海明
  • 1篇池春阳
  • 1篇李士本
  • 1篇南秀蓉
  • 1篇吴百中
  • 1篇王志梅

年份

  • 1篇2017
  • 3篇2014
  • 4篇2013
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
温州产学研合作服务地方经济发展的创新实践研究
刘海明南秀蓉徐小奇李明霞池春阳王志梅陈莉敏
项目研究思路该项目的研究对象为温州产学研合作服务地方经济发展的创新实践研究。首先对研究的背景、国内外研究现状与发展趋势进行论述、总结,分析产学研合作的理论基础,然后针对温州产学研合作的现状进行调查,接着对调查结果进行统计...
关键词:
多模式交变耦合磁场辅助电弧离子镀沉积弧源设备
本发明涉及表面防护领域,具体地说是一种改善电弧离子镀沉积工艺的多模式交变耦合磁场辅助电弧离子镀沉积弧源设备。该设备的轴对称磁场发生装置放置于靶材后面,由放置于靶材后面的高导磁率磁轭及与磁轭同轴放置的电磁线圈组成,或者由单...
郎文昌王向红李明霞
文献传递
一种多结构耦合磁场适应型旋转弧离子镀装置
本发明涉及薄膜与涂层制备技术领域,具体地说是一种多结构耦合磁场适应型旋转弧离子镀装置,解决现有技术中大颗粒、靶材刻蚀与涂层均匀性差、沉积效率低等问题。该旋转弧离子镀装置采用特种多功能多结构适应型离子镀枪配合结构优化的水冷...
郎文昌王向红李明霞
旋转横向磁场可控电弧离子镀的工艺基础研究
郎文昌王向红高斌李明霞肖威杜昊陶永山
“大颗粒”问题是限制电弧离子镀表面防护技术进一步发展及应用的瓶颈。该项目通过系统研究发现,控制弧斑运动的横向磁场是影响大颗粒最关键的因素,横向磁场的设置直接影响到阴极靶、等离子体以及膜层的特性。该项目经过优化设计,系统研...
关键词:
关键词:电弧离子镀
多模式交变耦合磁场辅助电弧离子镀沉积弧源设备
本发明涉及表面防护领域,具体地说是一种改善电弧离子镀沉积工艺的多模式交变耦合磁场辅助电弧离子镀沉积弧源设备。该设备的轴对称磁场发生装置放置于靶材后面,由放置于靶材后面的高导磁率磁轭及与磁轭同轴放置的电磁线圈组成,或者由单...
郎文昌王向红李明霞
一种多结构耦合磁场适应型旋转弧离子镀装置
本发明涉及薄膜与涂层制备技术领域,具体地说是一种多结构耦合磁场适应型旋转弧离子镀装置,解决现有技术中大颗粒、靶材刻蚀与涂层均匀性差、沉积效率低等问题。该旋转弧离子镀装置采用特种多功能多结构适应型离子镀枪配合结构优化的水冷...
郎文昌王向红李明霞
文献传递
一种高效动态耦合磁控弧源装置
本实用新型涉及表面防护领域,具体地说是一种改善电弧离子镀沉积工艺的高效动态耦合磁控弧源装置。该装置的轴对称磁场发生装置放置于靶材后面,由放置于靶材后面的高导磁率磁轭及与磁轭同轴放置的电磁线圈组成,或者由单个或两个以上永久...
郎文昌王向红李明霞高斌吴百中
文献传递
聚合物表面改性及防护涂层关键技术研究与应用
王向红郎文昌李士本何林李李明霞
该项目的主要研究成果及结论:1)使用真正的自洽差理论,研究了二嵌段共聚物在外部电场沿着三个不同方向作用下体心立方相与圆柱形相之间的转变关系,不同的外部电场方向导致圆柱形结构通过中间的椭圆形有着不同的对称性;在电场中沿着[...
关键词:
关键词:镀膜工艺聚合物表面改性高分子材料
共1页<1>
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